一种CVD镀膜炉管制造技术

本技术公开了一种CVD镀膜炉管，包括：炉管，其外层涂设有金属涂层；清除机构，其包括同轴设置于所述炉管内的螺旋导线，所述螺旋导线两端电性连接射频电源，以与所述金属涂层产生交变电场。该技术提供的CVD镀膜炉管，开启射频电源时，螺旋导线和炉管外层的金属涂层产生交变的电场，在交变电场作用下，通入的NF3、SF6或者CCl4等反应刻蚀气体，此时离化形成等离子体，因为离子化的反应气体具有很高的反应活性，在轰击炉管内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉，能定期清除炉管内壁的介质薄膜，大幅延长镀膜炉管的使用寿命，降低太阳能电池的制造成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及太阳能电池生产，具体来说涉及一种cvd镀膜炉管。

技术介绍

1、cvd镀膜炉管，是用于晶体硅太阳电池的生产制造过程中，在硅片的表面沉积各种不同类型的介质薄膜的设备。

2、根据专利号cn206109532u，公开(公告)日：2017-04-19，公开的一种cvd炉内气体对流系统，包括：石英管，其内水平放置有沿所述石英管轴向可移动的石英舟，所述石英舟上安装有硅片；所述石英管内表面设有若干个石英导流管，每个所述石英导流管朝向所述石英舟的一侧设有间隙排列的导流孔；不锈钢气管，其连接到所述石英导流管两端；其中，所述石英导流管与所述石英舟存在间隙。本技术通过石英管内表面设置的若干个石英导流管，每个石英导流管朝向石英舟的一侧设有间隙排列的导流孔；使得石英管内硅片表面镀膜均匀性提高，进一步提高成品耐压的一致性。

3、包括上述专利的现有技术中，在镀膜炉管运行的过程中，介质薄膜除了沉积在硅片、石英载具表面，还会石英炉管或者陶瓷炉管的内壁沉积，多次使用后内壁上累积的介质过后，会因为热膨胀系数差异会使得介质薄膜和炉管之间出现的应力，导致石英炉管或者陶瓷炉管破裂，通常更换炉管解决介质累积，更换成本较高。

技术实现思路

1、本技术的目的是提供一种cvd镀膜炉管，旨在解决炉管内壁累积的介质不好清理的问题。

2、为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种cvd镀膜炉管，包括：

3、炉管，其外层涂设有金属涂层；

4、清除机构，其包括同轴设置于所述炉管内的螺旋导线，所述螺旋导线两端电性连接射频电源，以与所述金属涂层产生交变电场。

5、作为优选的，所述炉管第一端开设有尾气管，所述炉管上固定连通有进气管，所述进气管延伸入所述炉管第二端。

6、作为优选的，所述金属涂层厚度为0.5um～10um。

7、作为优选的，所述螺旋导线外径小于所述炉管内径10mm～30mm。

8、作为优选的，所述螺旋导线螺距为10mm～30mm。

9、作为优选的，所述金属涂层为铜、铁或钨涂层中的任意一种。

10、作为优选的，所述螺旋导线为铜、铁或钨线中的任意一种。

11、作为优选的，所述炉管内呈线性阵列设置有多个挂钩，所述螺旋导线设置于所述挂钩上。

12、作为优选的，所述炉管第二端设置有链接套，所述链接套上转动连接有炉盖。

13、作为优选的，所述挂钩为陶瓷挂钩。

14、在上述技术方案中，本技术提供的一种cvd镀膜炉管，具备以下有益效果：开启射频电源时，螺旋导线和炉管外层的金属涂层产生交变的电场，在交变电场作用下，通入的nf3、sf6或者ccl4等反应刻蚀气体，此时离化形成等离子体，因为离子化的反应气体具有很高的反应活性，在轰击炉管内壁介质薄膜的同时还会与其反应将其刻蚀掉，能定期清除炉管内壁的介质薄膜，大幅延长镀膜炉管的使用寿命，降低太阳能电池的制造成本。

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【技术保护点】

1.一种CVD镀膜炉管，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜炉管，其特征在于，所述炉管(1)第一端开设有尾气管(12)，所述炉管(1)上固定连通有进气管(13)，所述进气管(13)延伸入所述炉管(1)第二端。

3.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜炉管，其特征在于，所述金属涂层(21)厚度为0.5um～10um。

4.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜炉管，其特征在于，所述螺旋导线(22)外径小于所述炉管(1)内径10mm～30mm。

5.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜炉管，其特征在于，所述螺旋导线(22)螺距为10mm～30mm。

6.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜炉管，其特征在于，所述金属涂层(21)为铜、铁或钨涂层中的任意一种。

7.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜炉管，其特征在于，所述螺旋导线(22)为铜、铁或钨线中的任意一种。

8.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜炉管，其特征在于，所述炉管(1)内呈线性阵列设置有多个挂钩(222)，所述螺旋导线(22)设置于所述挂钩(222)上。

9.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜炉管，其特征在于，所述炉管(1)第二端设置有链接套(101)，所述链接套(101)上转动连接有炉盖(11)。

10.根据权利要求8所述的一种CVD镀膜炉管，其特征在于，所述挂钩(222)为陶瓷挂钩。

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【技术特征摘要】

1.一种cvd镀膜炉管，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种cvd镀膜炉管，其特征在于，所述炉管(1)第一端开设有尾气管(12)，所述炉管(1)上固定连通有进气管(13)，所述进气管(13)延伸入所述炉管(1)第二端。

3.根据权利要求1所述的一种cvd镀膜炉管，其特征在于，所述金属涂层(21)厚度为0.5um～10um。

4.根据权利要求1所述的一种cvd镀膜炉管，其特征在于，所述螺旋导线(22)外径小于所述炉管(1)内径10mm～30mm。

5.根据权利要求1所述的一种cvd镀膜炉管，其特征在于，所述螺旋导线(22)螺距为10mm～30mm。

6.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦臻，许佳平，邢军，韩宜辰，朱皓杰，张田，黄胜，张岳琦，
申请(专利权)人：安徽旭合新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：