【技术实现步骤摘要】
本公开涉及光掩模检查设备和使用光掩模检查设备检查光掩模的方法。
技术介绍
1、在制造半导体芯片或显示面板的工艺中，可使用光掩模执行光刻工艺以形成电路图案或线。在光刻工艺中使用的用于显示面板的光掩模像胶片投影仪的胶片一样使用，以在大玻璃衬底上形成电路图案或线。
技术实现思路
1、在使用光掩模的光刻工艺中，当异物附着到光掩模或者使用具有缺陷的光掩模进行曝光工艺时，在待形成在衬底上的电路图案中发生缺陷，并且因此，在后续工艺中生产的半成品中导致缺陷。相应地，需要针对诸如异常或异物的粘附的缺陷来检查光掩模，并且需要检查显示面板的因在光刻工艺中使用有缺陷的光掩模而制造的电路图案。
2、本公开提供了光掩模检查设备，该光掩模检查设备能够在同一设备中不仅检查光掩模本身的诸如异常或异物的粘附的缺陷而且通过仿真预先检查通过光刻工艺形成的半成品衬底的可能的缺陷。
3、本公开提供了使用光掩模检查设备检查光掩模的方法。
4、本申请的实施方式提供了光掩模检查设备，该光掩模检查设备包括...
【技术保护点】
1.一种光掩模检查设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光掩模检查设备，其特征在于，所述第一光学系统包括第一光源、第一光导、第一光圈和具有所述第一数值孔径的第一照明透镜。
3.根据权利要求1所述的光掩模检查设备，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的光掩模检查设备，其特征在于，从所述第一光源照射的所述光具有等于或大于365nm且等于或小于500nm的波长。
5.根据权利要求1所述的光掩模检查设备，其特征在于，所述第二光学系统包括第二光源、第二光导、光束整形器、离轴照明器、第二光圈和具有所述第二数值孔径的第二照
【技术特征摘要】
1.一种光掩模检查设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光掩模检查设备，其特征在于，所述第一光学系统包括第一光源、第一光导、第一光圈和具有所述第一数值孔径的第一照明透镜。
3.根据权利要求1所述的光掩模检查设备，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的光掩模检查设备，其特征在于，从所述第一光源照射的所述光具有等于或大于365nm且等于或小于500nm的波长。
5.根据权利要求1所述的光掩模检查设备，其特征在于，所述第二光学系统包括第二光源、第二光导、光束整形器、离轴照明器、第二光圈和具有所述第二数值孔径的第二照明透镜。
6.根据权利要求1所述的光掩...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵赞衡，金泰俊，朴廷敏，吕炯旭，金周一，闵大勋，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：新型
国别省市：
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