【技术实现步骤摘要】
本申请涉及晶片生产的，尤其是涉及一种晶片腐蚀装置。
技术介绍
1、现有技术中，晶片研磨后需要通过腐蚀液腐蚀。晶片腐蚀装置是用于对晶片进行腐蚀的常用设备，使用时，将晶片盛放在晶片篮中，然后放置于容纳有腐蚀液的设备箱内，将晶片篮浸入腐蚀液池中，转动晶片篮对晶片进行腐蚀。
2、当晶片篮在腐蚀液内摇动时，存在造成腐蚀液飞溅的情况，若工作人员在晶片篮转动时，打开设备箱门，可能导致腐蚀液直接飞溅至工作人员身上，影响工作人员的身体健康。
技术实现思路
1、为了防止工作人员在设备运转过程中打开箱门，保护工作人员的身体健康，本申请提供一种晶片腐蚀装置。
2、本申请提供的一种晶片腐蚀装置采用如下的技术方案：
3、一种晶片腐蚀装置，包括设备箱、安装机构、晶片篮、升降机构、旋转机构和锁定机构，所述设备箱包括箱体和箱门，所述箱体设有容纳槽，所述容纳槽用于容纳腐蚀液，所述箱门连接于箱体并遮盖容纳槽槽口，所述升降机构连接于箱体，所述升降机构用于驱使旋转机构沿竖向滑动，所述安装机构包括...
【技术保护点】
1.一种晶片腐蚀装置，其特征在于：包括设备箱（1）、安装机构（2）、晶片篮（3）、升降机构（4）、旋转机构（5）和锁定机构（6）；
2.根据权利要求1所述的晶片腐蚀装置，其特征在于：所述固定组件（61）还包括滑动座（612）、挡块（613）和复位件二（614）；所述滑动座（612）连接于齿条（611）；所述挡块（613）滑动连接于滑动座（612）；所述挡块（613）的滑动方向平行于齿条（611）的滑动方向；所述挡块（613）靠近箱门（12）中心的一端设有导向斜面二（6131）；所述导向斜面二（6131）位于挡块（613）远离箱体（11）的一侧；所述导向斜面...
【技术特征摘要】
1.一种晶片腐蚀装置，其特征在于：包括设备箱（1）、安装机构（2）、晶片篮（3）、升降机构（4）、旋转机构（5）和锁定机构（6）；
2.根据权利要求1所述的晶片腐蚀装置，其特征在于：所述固定组件（61）还包括滑动座（612）、挡块（613）和复位件二（614）；所述滑动座（612）连接于齿条（611）；所述挡块（613）滑动连接于滑动座（612）；所述挡块（613）的滑动方向平行于齿条（611）的滑动方向；所述挡块（613）靠近箱门（12）中心的一端设有导向斜面二（6131）；所述导向斜面二（6131）位于挡块（613）远离箱体（11）的一侧；所述导向斜面二（6131）上任一点至挡块（613）朝向箱体一侧表面的距离随该点靠近挡块（613）的另一端而增大；所述导向斜面二（6131）用于供箱门（12）滑动抵接；所述复位件二（614）连接于滑动座（612）与挡块（613）之间；所述复位件二（614）使得抵接块（62）具有靠近箱门（12）中心的趋势。
3.根据权利要求2所述的晶片腐蚀装置，其特征在于：所述锁定机构（6）还包括锁定组件（65）；所述锁定组件（65）包括抵接杆（651）；所述抵接杆（651）滑动连接于箱体（11）；所述抵接杆（651）用于固定挡块（613）。
4.根据权利要求3所述的晶片腐蚀装置，其特征在于：所述锁定组件（65）还包括固定环（652）、滑动环（653）、主动铰接杆（654）、从动铰接杆（655）和复位件三（656）；所述固定环（652）转动连接于箱体（11）；所述固定环（652）与所述滑动环（653）均同轴滑动连接于转轴（21）；所述固定环（652）与所述滑动环（653）均周向固定于转轴（21）；所述滑动环（653）位于固定环（652）的上方；所述复位件三（656）连接于固定环（652）与滑动环（653）之间；所述复位件三（656）使得滑动环（653）具有远离固定环（652）的趋势；所述主动铰接杆（654）的下端与固定环（652）相铰接；所述主动铰接杆（654）与固定环（652）的铰接轴线为水平；所述从动铰接杆（655）的上端与滑动环（653）相铰接；所述从动铰接杆（655）与滑动环（653）的铰接轴线平行于主动铰接杆（654）与固定环（652）的铰接轴线；所述从动铰接杆（655）的下端与主动铰接杆（654）的上端相铰接；所述从...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈卫，徐恩生，
申请(专利权)人：浙江雅晶电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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