【技术实现步骤摘要】
本技术涉及金属破碎装置，特别涉及一种高纯铬颗粒破碎装置。
技术介绍
1、高纯铬是指99.95%（3n5）以上纯度的铬片、铬粉、铬粒和铬靶材，主要用作超级合金添加剂，生产飞机涡轮机的叶片，电气的触头，半导体，芯片溅射靶材等领域。目前我国高纯铬片和铬粉仍大量需要从日本及俄罗斯进口，高端靶材还需要从国外的plansee和贺利氏等公司进口。
2、高纯铬粉是磁控溅射铬靶材的原料（热等静压工艺），也是整个高纯铬靶制作的关键和核心难点。高纯铬靶主要用做高端需求的真空镀膜，其用到的常规高纯铬粉粒度为80目～325目，其中大于80目和小于325目的粉末比例都小于10%。其主要杂质含量指标是：fe≤100ppm，o≤200ppm，n≤60ppm，c≤60ppm，al≤30ppm，si≤30ppm，s≤30ppm，总的金属杂质综合小于500ppm。
3、高纯铬粉用到的原料是脱气铬片，由于其工艺是化学电解法生产，金属杂质很低，经过氢气还原脱气之后，其杂质含量指标是：fe≤50ppm，o≤60ppm，n≤60ppm，c≤60ppm，al≤30ppm，si≤30ppm，s≤30ppm，另外特别要求总的金属杂质总和小于500ppm。
4、可见在高纯铬粉的制备过程中，最重要的指标是铁和氧含量的控制。一般要求增铁不超过50ppm，增氧不超过100ppm。
5、由于铬的特性是硬而脆，低纯度的铬（99.5%）业界多采用高能球磨或者气流粉碎等的机械破碎方式制备其粉末。但是这两种工艺不适合生纯度为99.95%（3n5）以上
技术实现思路
1、技术目的：针对上述问题，本技术提供了一种高纯铬颗粒破碎装置，本装置通过将高纯铬颗粒迅速加速到临界速度，让高速飞出的高纯铬颗粒冲击到装置腔体内壁，通过高速撞击起到自然破碎的效果。通过本装置破碎得到的高纯铬颗粒增氧含量不超过100ppm，增铁含量不超过30ppm，其他杂质元素（al，s，c，n，s等）增加小于5ppm，可满足高纯铬靶所需要的铬粉的各项指标。
2、技术方案：本技术提供了一种高纯铬颗粒破碎装置，包括粉碎腔，所述粉碎腔内设有甩料盘，所述甩料盘内部设有物料甩出通道，所述物料甩出通道有多根，所述物料甩出通道沿所述甩料盘进料口边缘的切线方向向甩料盘出料口呈辐射状均匀设置；所述物料甩出通道靠近所述甩料盘进料口处内径大，靠近所述甩料盘出料口处内径小，呈渐进设置。待破碎物料从所述甩料盘进料口经所述物料甩出通道甩出甩料盘撞击所述粉碎腔的内壁，使得待破碎物料破碎。
3、进一步地，所述物料甩出通道中轴线与所述甩料盘进料口边缘夹角α为35-60°。
4、进一步地，所述粉碎腔内壁表面设置有抗冲击层。待破碎物料从所述甩料盘进料口经所述物料甩出通道甩出甩料盘撞击所述抗冲击层。
5、进一步地，所述抗冲击层表面密布有齿。
6、进一步地，所述物料甩出通道靠近甩料盘出料口处内径为φ4~φ6mm，所述物料甩出通道靠近甩料盘进料口处内径为φ7~φ10mm。
7、优选地，所述物料甩出通道的壁厚大于3mm。
8、进一步地，所述甩料盘出料口与所述抗冲击层的间距为10~20mm。
9、进一步地，所述甩料盘转速为6000-9000r/min。
10、进一步地，还包括旋风分离装置和除尘引风机，所述粉碎腔上部设置有粉碎腔出料口，所述粉碎腔出料口与所述旋风分离装置连通，所述旋风分离装置与所述除尘引风机连通。所述除尘引风机为将破碎后物料从所述出料口带到所述旋风分离装置提供动力。
11、进一步地，所述旋风分离装置下方还设置有自动振筛机。
12、有益效果
13、本技术的优点在于：
14、1、铬颗粒破碎过程时间极其短暂，确保了铬颗粒破碎过程中极少接触含其他金属的材质。同时对物料甩出通道的内径大小的设置及多根物料甩出通道在甩料盘中排布角度的设置，将多根物料甩出通道设置在甩料盘进料口四周，沿其切线方向呈辐射状均匀分布，确保在高速旋转中，对抗离心力的甩出和震动产生的开裂。另外通过对甩料盘转速的调节，控制铬颗粒的最高飞出速度，最后获得的高纯铬颗粒粒度可调可控，成本低效率高，制备的高纯铬氧含量也更低。
15、2、本技术的核心工序和筛分处在一个密闭的系统中，杜绝了外部杂质引入的风险，保证了高纯铬颗粒纯度的要求。
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1.一种高纯铬颗粒破碎装置，包括粉碎腔（1），所述粉碎腔（1）内设有甩料盘（101），所述甩料盘（101）内部设有物料甩出通道（1012），其特征在于：所述物料甩出通道（1012）有多根，所述物料甩出通道（1012）沿甩料盘进料口（1011）边缘的切线方向向甩料盘出料口（1013）呈辐射状均匀设置；所述物料甩出通道（1012）靠近所述甩料盘进料口（1011）处内径大，靠近所述甩料盘出料口（1013）处内径小，呈渐进设置。
2.根据权利要求1所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述物料甩出通道（1012）中轴线与所述甩料盘进料口（1011）边缘夹角α为35-60°。
3.根据权利要求1所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述粉碎腔（1）内壁表面设置有抗冲击层（102）。
4.根据权利要求3所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述抗冲击层（102）表面密布有齿（103）。
5.根据权利要求1所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述物料甩出通道（1012）靠近甩料盘出料口（1013）处内径为φ4~φ6mm，所述物料甩出通道（101
6.根据权利要求1所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述物料甩出通道（1012）的壁厚大于3mm。
7.根据权利要求3所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述甩料盘出料口（1013）与所述抗冲击层（102）的间距为10~20mm。
8.根据权利要求1所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述甩料盘（101）转速为6000-9000r/min。
9.根据权利要求1所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：还包括旋风分离装置（2）和除尘引风机（3），所述粉碎腔（1）上部设置有粉碎腔出料口（104），所述粉碎腔出料口（104）与所述旋风分离装置（2）连通，所述旋风分离装置（2）与所述除尘引风机（3）连通。
10.根据权利要求9所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述旋风分离装置（2）下方还设置有自动振筛机（4）。
...【技术特征摘要】
1.一种高纯铬颗粒破碎装置，包括粉碎腔（1），所述粉碎腔（1）内设有甩料盘（101），所述甩料盘（101）内部设有物料甩出通道（1012），其特征在于：所述物料甩出通道（1012）有多根，所述物料甩出通道（1012）沿甩料盘进料口（1011）边缘的切线方向向甩料盘出料口（1013）呈辐射状均匀设置；所述物料甩出通道（1012）靠近所述甩料盘进料口（1011）处内径大，靠近所述甩料盘出料口（1013）处内径小，呈渐进设置。
2.根据权利要求1所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述物料甩出通道（1012）中轴线与所述甩料盘进料口（1011）边缘夹角α为35-60°。
3.根据权利要求1所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述粉碎腔（1）内壁表面设置有抗冲击层（102）。
4.根据权利要求3所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述抗冲击层（102）表面密布有齿（103）。
5.根据权利要求1所述的高纯铬颗粒破碎装置，其特征在于：所述物料甩出通道（1012）...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭凌剑，朱大鹏，陈苏礼，周立中，
申请(专利权)人：江苏应用元素科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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