【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及具有存储效应的绝缘高分子/石墨烯复合材料及其合成方法和用途。
技术介绍
信息存储器件在微电子工业中扮演着重要的角色,已占据整个半导体市场20%以 上的份额。现如今绝大多数的存储材料及器件是由无机半导体材料构成,而由有机高分子 材料构成的存储器件也越来越受到人们的重视。尽管人们期望基于有机高分子材料的新型 存储器件可作为下一代信息存储介质,但它必须突破目前存储速度与生产成本的限制,才 能实现大规模的商业应用。这些有机高分子材料在外加电场下可以改变载流子(电子或空穴)的状态,呈现出 电学双稳态,因而能存储信息。一般而言,存储效应是与在有机高分子材料中活性基团的电 荷存储(包括电荷俘获、电荷分离或电荷传递等)相关。但是由于有机高分子材料自身的特 点,电荷传递不是很理想,其较低的载流子迁移率成为制约其发展的主要障碍。石墨烯是以天然石墨为原料,通过化学方法实现其大批量生产,价格便宜。石墨烯 是一种二维纳米材料,具有长程??共轭结构,优良的热学、力学、电学性能。目前已经有一 些基于石墨烯的简单存储器件的报道。但是与碳60和碳纳米管一样,石墨烯容易在溶液中 与 ...
【技术保护点】
具有存储效应的绝缘高分子/石墨烯复合材料,其特征在于其组分包括有氧化石墨、异氰酸苯酯、绝缘高分子和还原剂经反应制备而成,所述的组分含量配比为:氧化石墨∶异氰酸苯酯∶绝缘高分子∶还原剂=50mg∶1-5mmol∶0.5-5g∶2-6mg。
【技术特征摘要】
具有存储效应的绝缘高分子/石墨烯复合材料,其特征在于其组分包括有氧化石墨、异氰酸苯酯、绝缘高分子和还原剂经反应制备而成,所述的组分含量配比为氧化石墨异氰酸苯酯绝缘高分子还原剂=50mg 1 5mmol0.5 5g2 6mg。2.按权利要求1所述的具有存储效应的绝缘高分子/石墨烯复合材料,其特征在于所 述的绝缘高分子为聚苯乙烯、聚(4-乙烯基苯酚)或聚(苯乙烯-co-4-乙烯基苯酚)。3.按权利要求1或2所述的具有存储效应的绝缘高分子/石墨烯复合材料,其特征在 于所述的还原剂为水合胼、胼或二甲胼。4.按权利要求1或2所述的具有存储效应的绝缘高分子/石墨烯复合材料,其特征在 于所述的有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、异丙醇、氯仿或四氢呋喃。5.权利要求1所述的具有存储效应的绝缘高分子/石墨烯复合材料的合成方法,其特 征在于包括有以下步骤1)利用天然石墨通过化学氧化方法制备单层或多层氧化石墨;2)将步骤1)得到的氧化石墨与异氰酸苯酯在N,N-二甲基甲酰胺中于60 - 90°C反应 12 - 48小时,抽滤、洗涤和干燥后,得功能...
【专利技术属性】
技术研发人员:李亮,赵旭,张强,陈郁勃,高大志,
申请(专利权)人:武汉工程大学,
类型:发明
国别省市:83[中国|武汉]
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