【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种mosfet芯片结构,具体是一种集成温度检测的mosfet芯片结构。
技术介绍
1、mosfet是一种由金属氧化物半导体构成的三极管,它的工作原理是通过控制门电压来控制通过源极和漏极的电流,是一种基于场效原理的半导体器件。现有mos版图主要有两部分组成,一部分为提供gate信号区域,另一部分为提供source信号区域,构成了基本的mos版图区域,如图所示。
2、但是,传统的温度采样电路需要将温度传感器与mos进行合封,但由于温度传感器在器件外部,通过采样方式获得器件的结温,因此其表示的结温与实际仍存在较大差异。
3、因此,本领域技术人员提供了一种集成温度检测的mosfet芯片结构,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种集成温度检测的mosfet芯片结构,在原有mos的版图布局基础上,拓展部分区域以增加电流检测及温度检测功能,大幅减少外部电路的布置方式;同时由于检测功能集成在mos器件内,一定程度可增加检测精度,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:
3、一种集成温度检测的mosfet芯片结构,包括:芯片主体,以及设置在芯片主体表面的内温度检测机构;其中,所述内温度检测机构的一侧设有内电流检测机构。
4、作为本技术进一步的方案:所述内温度检测机构,具体包括:设置在芯片主体表面中间位置的第一半导体薄膜,所述第一半导体薄膜的表面设有第一p
5、作为本技术再进一步的方案:所述第一金属布线通过蒸发/溅射形成在第一阻挡层表面。
6、作为本技术再进一步的方案:所述内电流检测机构,具体包括:设置在芯片主体表面中间位置的第二半导体薄膜,所述第二半导体薄膜的表面设有第二p区,且第二p区的一侧设有第二n+区,所述第二p区与第二n+区的表面共同设有第二阻挡层,且第二p区的内部嵌设有第二p+区,所述第二p+区与第二n+区之间设有第二金属布线。
7、作为本技术再进一步的方案:所述第二金属布线通过蒸发/溅射形成在第二阻挡层表面。
8、与现有技术相比,本技术的有益效果是:
9、本申请在原有mos的版图布局基础上,拓展部分区域以增加电流检测及温度检测功能,大幅减少外部电路的布置方式;同时由于检测功能集成在mos器件内,一定程度可增加检测精度。其中,对于温度检测功能,首先温度检测位置在整个芯片中央位置,以保证温度的准确性,通过金属布线将打线区域引至芯片外围,方便后续封装打线;其次,根据pn结温度特性,以及所需电流检测精度,确认pn结不同面积,以达到期望的温度检测功能。
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1.一种集成温度检测的MOSFET芯片结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种集成温度检测的MOSFET芯片结构,其特征在于,所述第一金属布线通过蒸发/溅射形成在第一阻挡层表面。
3.根据权利要求1所述的一种集成温度检测的MOSFET芯片结构,其特征在于,所述内电流检测机构,具体包括:设置在芯片主体表面中间位置的第二半导体薄膜,所述第二半导体薄膜的表面设有第二P区,且第二P区的一侧设有第二N+区,所述第二P区与第二N+区的表面共同设有第二阻挡层,且第二P区的内部嵌设有第二P+区,所述第二P+区与第二N+区之间设有第二金属布线。
4.根据权利要求3所述的一种集成温度检测的MOSFET芯片结构,其特征在于,所述第二金属布线通过蒸发/溅射形成在第二阻挡层表面。
【技术特征摘要】
1.一种集成温度检测的mosfet芯片结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种集成温度检测的mosfet芯片结构,其特征在于,所述第一金属布线通过蒸发/溅射形成在第一阻挡层表面。
3.根据权利要求1所述的一种集成温度检测的mosfet芯片结构,其特征在于,所述内电流检测机构,具体包括:设置在芯片主体表面中间位置的第二...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨伟东,
申请(专利权)人:禾纳半导体深圳有限公司,
类型:新型
国别省市:
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