本发明专利技术公开一种氢基竖炉DRI直接还原铁熔片制备和分析方法，具体为：用四硼酸锂一体铸模形成铂黄坩埚的内部套埚，将脱模后的内置套埚放置于铂黄坩埚内，将0.2±0.01g试样、0.2±0.01g三氧化二钴和1±0.1g碳酸锂混匀后倒入内部套埚，然后放入马弗炉进行预氧化，冷却后滴加脱模剂，经高频加热制成玻璃样片，采用X射线荧光光谱法对玻璃样片进行分析。本发明专利技术方法解决了氢基竖炉DRI直接还原铁熔融过程中对铂金坩埚的腐蚀问题，制成的样片光滑完整，满足检测要求。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于检测，具体涉及一种氢基竖炉dri直接还原铁熔片制备和分析方法。
技术介绍
1、dri直接还原铁是氢冶金氢基竖炉绿色产品，其特点是品位高，s、p有害元素含量低，金属铁含量高，杂质少。由于其金属铁含量高，熔融时易对铂金坩埚造成一定程度的腐蚀，且熔片脱模效果不好，表面不光滑，熔片易裂，不满足x-射线荧光仪检测要求。
2、荧光分析法是一种常用的定量分析方法，它具有操作简便、分析快速、精密度高等优点。dri直接还原铁用常规熔片制备方法不能满足荧光检测要求，需要开发一种既能满足荧光仪检测要求，又不腐蚀铂金坩埚的样品制备方法。
技术实现思路
1、本专利技术目的在于提供一种氢基竖炉dri直接还原铁熔片制备和分析方法，以解决氢基竖炉dri直接还原铁熔融过程中对铂金坩埚的腐蚀问题，且制成的样片光滑完整，满足检测要求。
2、为实现上述目的，本专利技术所采取的技术方案是：
3、一种氢基竖炉dri直接还原铁熔片制备方法，具体为：用四硼酸锂一体铸模形成铂黄坩埚的内部套埚，将脱模后的内置套埚放置于铂黄坩埚内，将0.2±0.01g试样、0.2±0.01g三氧化二钴和1±0.1g碳酸锂混匀后倒入内部套埚，然后放入马弗炉进行预氧化，冷却后滴加脱模剂，经高频加热制成玻璃样片。
4、进一步地，本专利技术所述四硼酸锂用量为6±0.5g。
5、进一步地，本专利技术所述预氧化过程设置马弗炉温度为800±50℃，预氧化时间为20±10 min。
>6、进一步地，本专利技术所述脱模剂为50±20%碘化铵；所述脱模剂加入量为10滴，以滴定吸管垂直自然下落的量为1滴。7、本专利技术所述方法制备的玻璃样片表面光滑、均匀、完整。
8、本专利技术所述氢基竖炉dri直接还原铁熔片分析方法，具体为：采用x-射线荧光光谱法对熔片进行分析。
9、采用上述技术方案所产生的有益效果在于：
10、本专利技术采用四硼酸锂一体铸模形成铂黄坩埚内部套埚的方式，避免了样品对铂金坩埚的腐蚀，制备的玻璃样片表面光滑、均匀，满足荧光检测要求。
11、本专利技术提供的方法操作简便、分析快速、精密度高，极大地缩短了分析时间，提高了工作效率，为后续的氢冶金生产提供有力的数据支撑，提高dri直接还原铁分析的准确度。
12、本专利技术分析方法具有分析精度高、重现性及再现性好的特点，保证生产正常有序进行，实现数据传输畅通，能够满足在线检测指导生产的需求。
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【技术保护点】
1.一种氢基竖炉DRI直接还原铁熔片制备方法，其特征在于,用四硼酸锂一体铸模形成铂黄坩埚的内部套埚，将脱模后的内置套埚放置于铂黄坩埚内，将0.2±0.01g试样、0.2±0.01g三氧化二钴和1±0.1g碳酸锂混匀后倒入内部套埚，然后放入马弗炉进行预氧化，冷却后滴加脱模剂，经高频加热制成玻璃样片。
2.根据权利要求1所述的一种氢基竖炉DRI直接还原铁熔片制备方法，其特征在于，所述四硼酸锂用量为6±0.5g。
3.根据权利要求1所述的一种氢基竖炉DRI直接还原铁熔片制备方法，其特征在于，所述预氧化过程设置马弗炉温度为800±50℃，预氧化时间为20±10 min。
4.根据权利要求1所述的一种氢基竖炉DRI直接还原铁熔片制备方法，其特征在于：所述脱模剂为50±20%碘化铵。
5.一种氢基竖炉DRI直接还原铁熔片分析方法，其特征在于，采用X-射线荧光光谱法对权利要求1制备的熔片进行分析。
【技术特征摘要】
1.一种氢基竖炉dri直接还原铁熔片制备方法，其特征在于,用四硼酸锂一体铸模形成铂黄坩埚的内部套埚，将脱模后的内置套埚放置于铂黄坩埚内，将0.2±0.01g试样、0.2±0.01g三氧化二钴和1±0.1g碳酸锂混匀后倒入内部套埚，然后放入马弗炉进行预氧化，冷却后滴加脱模剂，经高频加热制成玻璃样片。
2.根据权利要求1所述的一种氢基竖炉dri直接还原铁熔片制备方法，其特征在于，所述四硼酸锂用量为6±0.5g。...
【专利技术属性】
技术研发人员：于勇，王兰玉，王宏斌，高亚楠，邹佳，王瑞晶，左守宽，张嘉欣，任华，邵阳阳，王佳，杨文雯，
申请(专利权)人：河北张宣高科科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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