像素化彩色薄膜及其制备方法、像素化彩色滤光片技术

本申请涉及透明显示技术领域，提供了一种像素化彩色薄膜及其制备方法、像素化彩色滤光片。该制备方法包括：配制稀土络合物粉末的N,N‑二甲基甲酰胺溶液，并将N,N‑二甲基甲酰胺溶液与光刻胶充分混合后得到光刻胶混合溶液；使用溶剂超声清洗预制衬底以去除表面污染物，得到预处理后的第一衬底；将光刻胶混合溶液旋涂至第一衬底，得到第一复合薄膜；将第一复合薄膜加热第一预设时间；将加热后的第一复合薄膜置于曝光机上曝光第二预设时间，再将曝光后的第一复合薄膜显影第三预设时间；将显影后的第一复合薄膜再加热第四预设时间，得到目标彩色薄膜；通过光刻工艺在目标彩色薄膜上构筑预设宽度的像素点，得到像素化彩色薄膜。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及透明显示，尤其涉及一种像素化彩色薄膜及其制备方法、像素化彩色滤光片。

技术介绍

1、随着oled和micro-led等新型显示技术的发展，实现基于透明显示器的高分辨率增强现实成为重要研究
技术实现思路
。但是，oled的色彩稳定性、micro-led的巨量转移技术仍在应用方面有所欠缺。因此，利用彩色转化技术，可以有效的避免rgb三色微阵列的构筑，直接基于蓝色或者紫外发光的oled或者micro-led技术，基于像素化彩色滤光片实现全彩化。传统技术实现像素化的主要技术方案有纳米转印、喷墨打印等。但是，纳米转印技术中，转印模板的制备复杂，难以实现大面积制备，同时需要考虑材料之间的亲和力关系，使得纳米转印技术难以在大规模生产中应用。喷墨打印技术中，由于喷头的尺寸效应以及咖啡环效应的影响，喷墨打印的分辨率较低，使得应用受限。

2、常见用于彩色滤光片的发光材料包括染料小分子、荧光粉颗粒和传统半导体量子点材料等。但是，通过染料小分子制备得到的彩色滤光片存在色纯度下降、对光能量吸收转化效率低、抗光漂白能力差、长期稳定性差等问题。通过荧光粉颗粒制备得到的彩色本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种像素化彩色薄膜制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的像素化彩色薄膜制备方法，其特征在于，所述稀土络合物粉末为萘啶类含铕三元有机配合物。

3.根据权利要求1所述的像素化彩色薄膜制备方法，其特征在于，所述光刻胶的曝光波长与所述N,N-二甲基甲酰胺溶液的吸收波长相匹配。

4.根据权利要求1所述的像素化彩色薄膜制备方法，其特征在于，所述将所述N,N-二甲基甲酰胺溶液与光刻胶按照预设的第一体积比混合，并充分混合后得到均匀澄清的光刻胶混合溶液的步骤，包括：

5.根据权利要求1所述的像素化彩色薄膜制备方法，其特征在于，所述溶剂超声...

【技术特征摘要】

1.一种像素化彩色薄膜制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的像素化彩色薄膜制备方法，其特征在于，所述稀土络合物粉末为萘啶类含铕三元有机配合物。

3.根据权利要求1所述的像素化彩色薄膜制备方法，其特征在于，所述光刻胶的曝光波长与所述n,n-二甲基甲酰胺溶液的吸收波长相匹配。

4.根据权利要求1所述的像素化彩色薄膜制备方法，其特征在于，所述将所述n,n-二甲基甲酰胺溶液与光刻胶按照预设的第一体积比混合，并充分混合后得到均匀澄清的光刻胶混合溶液的步骤，包括：

5.根据权利要求1所述的像素化彩色薄膜制备方法，其特征在于，所述溶剂超声清洗预制衬底的时间为3至10分钟。

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【专利技术属性】
技术研发人员：郝俊杰，邓文灿，黄锦涛，段西健，陈立国，陈宇龙，唐浩东，陈威，
申请(专利权)人：深圳技术大学，
类型：发明
国别省市：