【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于rps等离子源，具体的说是一种rps等离子源的检测装置。
技术介绍
1、rps等离子源是现代社会中一种通过电场或磁场产生等离子体，且可以对等离子体进行输送使其位移至需要处理的表面区域的装置，rps等离子源和材料进行接触后，可以对其进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。
2、目前现有技术中，rps等离子源应用广泛，在进行表面处理后，热和化学损伤少、灵活、高效、精度高、使用寿命长，在半导体、新能源、医药学等领域均有涉及。
3、在使用中，现有rps等离子源的检测装置在使用过程中，往往在室内进行使用，由于室内环境地面原因限制，同时在用瓷砖进行铺设，而检测装置为自身便于移动，其底部往往会安装有万向轮，而万向轮和瓷砖之间摩擦力较小，在受到碰撞后设备会出现移动情况，进而影响检测结果，因此，针对上述问题提出一种rps等离子源的检测装置。
技术实现思路
1、为了弥补现有技术的不足，解决
技术介绍
中所提出的至少一个技术问题。
2、本专利技术解决其技术问题所采用...
【技术保护点】
1.一种RPS等离子源的检测装置，包括真空组件、压控组件、真空管路、气路组件、水路组件、控制系统、移动组件；其特征在于：所述移动组件由国标40X40mm碳钢方管焊接而成，上表面焊接碳钢钢板，下部安装活动轮，侧部安装扶手，可人为操作自由移动，架体整体喷塑处理；架体内部集成真空组件、压控组件、气路和水路组件及电气控制系统；RPS源检测口为KF50接口，同时可转接KF40；控制系统配置工控机，显示器安装在架体上台面，氦质朴检漏仪为独立移动式本检测台架体不留安放位置；控制系统对真空度、气体流量、电源功率等参数可在安全范围任意设定；与RPS源连接的真空管路为水冷结构；设备预留1...
【技术特征摘要】
1.一种rps等离子源的检测装置，包括真空组件、压控组件、真空管路、气路组件、水路组件、控制系统、移动组件；其特征在于：所述移动组件由国标40x40mm碳钢方管焊接而成，上表面焊接碳钢钢板，下部安装活动轮，侧部安装扶手，可人为操作自由移动，架体整体喷塑处理；架体内部集成真空组件、压控组件、气路和水路组件及电气控制系统；rps源检测口为kf50接口，同时可转接kf40；控制系统配置工控机，显示器安装在架体上台面，氦质朴检漏仪为独立移动式本检测台架体不留安放位置；控制系统对真空度、气体流量、电源功率等参数可在安全范围任意设定；与rps源连接的真空管路为水冷结构；设备预留1/4inchvcr接头与rps源气路连接，设备柜门处预留208v、440v两种30kw电源接口。
2.根据权利要求1所述的一种rps等离子源的检测装置，其特征在于：优选的，所述移动组件包括检测台(1)；所述检测台(1)侧壁开设有一号滑槽(11)；所述一号滑槽(11)内部滑动连接有按压杆(12)；所述检测台(1)内部固接有定位杆(13)，且按压杆(12)端部滑动在定位杆(13)侧壁；所述检测台(1)内部固接有弹簧杆(16)，且按压杆(12)中部滑动在弹簧杆(16)侧壁；所述按压杆(12)底部位于定位杆(13)和弹簧杆(16)之间固接有定位柱(14)；所述定位柱(14)底部固接有吸盘(15)；所述检测台(1)底部位于吸盘(15)所在开设有通槽。
3.根据权利要求2所述的一种rps等离子源的检测装置，其特征在于：优选的，所述定位杆(13)和弹簧杆(16)中部均固接有定位板(25)；所述吸盘(15)滑动在定位板(25)中部；所述定位柱(14)内部开设有三号滑槽(22)；所述定位柱(14)外部侧壁开设有多组二号滑槽(2)，且二号滑槽(2)中部和三号滑槽(22)相连通；多组所述二号滑槽(2)内部均通过扭簧转动连接有支撑板(21)；所述支撑板(21)中部转动连接有挤压板(24)；所述挤压板(24)滑动在三号滑槽(22)内部；所述三号滑槽(22)内部固接有气囊，且和挤压板(24)侧壁相接触，且底部连通有气管(23)；所述气管(23)底部固接有瓣膜，且气管(2...
【专利技术属性】
技术研发人员：谢茂军，徐美前，
申请(专利权)人：扬州茂德电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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