System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种扩散炉、扩散炉系统及扩散方法技术方案_技高网

一种扩散炉、扩散炉系统及扩散方法技术方案

技术编号:40950243 阅读:2 留言:0更新日期:2024-04-18 20:25
本申请公开了一种扩散炉、扩散炉系统及扩散方法,涉及太阳能电池加工技术领域。扩散炉包括炉管本体、石英舟和至少一进气管组;石英舟设置于所述炉管本体内,所述石英舟配置有沿第一方向延伸的放置位;至少一进气管组包括位于所述炉管本体内的进气口段,所述进气口段相对于所述第一方向倾斜设置。本申请提供的扩散炉可增加工艺气体的移动路径,增加工艺气体与硅片的接触时间,使工艺气体可与硅片充分反应,降低工艺气体及掺杂介质溶液的使用量。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及太阳能电池加工,尤其涉及一种扩散炉、扩散炉系统及扩散方法


技术介绍

1、在太阳能电池的生产过程中,掺杂扩散是制备太阳能电池pn结的核心工艺,pn结的质量对于太阳能电池的性能也具有决定性的影响。其中,通常需要在扩散炉中通入携带有掺杂介质(磷、硼)的工艺气体,使元素磷、硼掺杂扩散到硅片中,以形成太阳能电池中的pn结。

2、然而,现有的扩散炉在通入工艺气体时,工艺气体不能与硅片充分接触,造成工艺气体和掺杂介质用量过大,造成成本浪费。


技术实现思路

1、本申请提供了一种扩散炉、扩散炉系统及扩散方法,以使工艺气体与硅片充分接触反应。

2、第一方面,本申请提供了一种扩散炉,包括:

3、炉管本体;

4、石英舟,设置于所述炉管本体内,所述石英舟配置有沿第一方向延伸的放置位;

5、至少一进气管组,包括位于所述炉管本体内的进气口段,所述进气口段相对于所述第一方向倾斜设置。

6、基于以上技术方案,本申请提供的扩散炉中,进气口段相对于硅片倾斜设置,可使工艺气体相对于硅片倾斜输入,进而可使工艺气体在相邻两硅片之间进行多次反射,增加工艺气体的移动路径,进而增加工艺气体与硅片的接触时间,使工艺气体可与硅片充分反应,降低工艺气体及掺杂介质溶液的使用量,降低生产成本。

7、在一些可能的实施方式中,所述进气口段与所述第一方向之间配置有夹角α,其中,0°<α≤45°。

8、在一些可能的实施方式中,所述扩散炉包括两所述进气管组;

9、沿所述第一方向,两所述进气管组分设于所述石英舟的两侧;

10、所述扩散炉还包括与所述炉管本体内连通的两排气管,沿所述第一方向,两所述排气管分设于所述石英舟的两侧。

11、在一些可能的实施方式中,所述石英舟配置有多个放置位,所述多个放置位沿第二方向依次间隔设置;

12、所述进气管组包括位于所述炉管本体内的至少一组进气管段,每组所述进气管段均包括多个所述进气管段,每一所述进气管段均配置有一所述进气口段;

13、同一组的多个所述进气管段相连的所述进气口段,沿所述第二方向依次间隔设置。

14、在一些可能的实施方式中,所述进气管组还包括与所述进气口段连通的第一转接段,所述第一转接段位于所述炉管本体外侧;

15、所述扩散炉还包括至少一加热管,所述至少一进气管组的所述第一转接段一一对应地穿设于所述至少一加热管。

16、第二方面,本申请还提供了一种扩散炉系统,包括如上各实施方式中提供的所述扩散炉。

17、在一些可能的实施方式中,所述扩散炉系统还包括第一介质输送管路、第二介质输送管路和第三介质输送管路,所述第一介质输送管路、所述第二介质输送管路和所述第三介质输送管路均与所述至少一进气管组连通;

18、所述第一介质输送管包括并列的第一支管路和第二支管路,所述第二支管路中连通有用于盛装掺杂介质溶液的第一容器;

19、所述第二介质输送管路包括并列的第三支管路和第四支管路,所述第四支管路中连通有用于盛装润湿液体的第二容器。

20、第三方面,本申请还提供了一种扩散方法,在如上各实施方式中提供的所述扩散炉中进行,所述扩散方法包括:

21、将制绒后的硅片放置于所述石英舟上;

22、通入媒介气体,并对所述炉管本体进行加热;

23、通入干氧和媒介气体,对所述硅片进行前氧化处理;

24、对所述硅片进行第一次通源沉积;

25、通入媒介气体,并对所述炉管本体加热以进行升温;

26、对所述硅片进行第二次通源沉积;

27、通入媒介气体,并对所述炉管本体进行加热,以进行升温推进;

28、通入湿氧和媒介气体,并对所述炉管本体进行降温,以对所述硅片进行降温氧化处理;

29、向所述炉管本体内通入媒介气体至常压,并使所述炉管本体降温。

30、在一些可能的实施方式中,所述扩散炉包括两所述进气管组,沿所述第一方向,两所述进气管组分设于所述石英舟的两侧;

31、所述前氧化处理包括:

32、通过一所述进气管组向所述炉管本体内通入干氧和媒介气体,所述媒介气体的流量逐渐由大减小或由小增大;

33、通过另一所述进气管组向所述炉管本体内通入干氧和媒介气体,所述媒介气体的流量逐渐由大减小或由小增大;

34、和/或

35、所述降温氧化处理包括:

36、通过一所述进气管组向所述炉管本体内通入湿氧和媒介气体,所述媒介气体的流量逐渐由大减小或由小增大;

37、通过另一所述进气管组向所述炉管本体内通入湿氧和媒介气体,所述媒介气体的流量逐渐由大减小或由小增大。

38、在一些可能的实施方式中,所述扩散炉包括两所述进气管组,沿所述第一方向,两所述进气管组分设于所述石英舟的两侧;

39、所述第一次通源沉积包括:

40、通过一所述进气管组向所述炉管本体内通入干氧及携带有掺杂介质的媒介气体;

41、通入媒介气体,对所述炉管本体进行吹扫;

42、通过另一所述进气管组向所述炉管本体内通入干氧及携带有掺杂介质的媒介气体;

43、通入媒介气体,对所述炉管本体进行吹扫;

44、和/或

45、所述第二次通源沉积包括:

46、通过一所述进气管组向所述炉管本体内通入干氧及携带有掺杂介质的媒介气体;

47、通入媒介气体,对所述炉管本体进行吹扫;

48、通过另一所述进气管组向所述炉管本体内通入干氧及携带有掺杂介质的媒介气体;

49、通入媒介气体,对所述炉管本体进行吹扫。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种扩散炉,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的扩散炉,其特征在于,所述进气口段与所述第一方向之间配置有夹角α,其中,0°<α≤45°。

3.根据权利要求1或2所述的扩散炉,其特征在于,所述扩散炉包括两所述进气管组;

4.根据权利要求1所述的扩散炉,其特征在于,所述石英舟配置有多个放置位,所述多个放置位沿第二方向依次间隔设置;

5.根据权利要求1所述的扩散炉,其特征在于,所述进气管组还包括与所述进气口段连通的第一转接段,所述第一转接段位于所述炉管本体外侧;

6.一种扩散炉系统,其特征在于,包括如权利要求1至5任一项所述的扩散炉。

7.根据权利要求6所述的扩散炉系统,其特征在于,所述扩散炉系统还包括第一介质输送管路、第二介质输送管路和第三介质输送管路,所述第一介质输送管路、所述第二介质输送管路和所述第三介质输送管路均与所述至少一进气管组连通;

8.一种扩散方法,其特征在于,在如权利要求1至5任一项所述的扩散炉中进行,所述扩散方法包括:

9.根据权利要求8所述的扩散方法,其特征在于,所述扩散炉包括两所述进气管组,沿所述第一方向,两所述进气管组分设于所述石英舟的两侧;

10.根据权利要求8或9所述的扩散方法,其特征在于,所述扩散炉包括两所述进气管组,沿所述第一方向,两所述进气管组分设于所述石英舟的两侧;

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【技术特征摘要】

1.一种扩散炉,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的扩散炉,其特征在于,所述进气口段与所述第一方向之间配置有夹角α,其中,0°<α≤45°。

3.根据权利要求1或2所述的扩散炉,其特征在于,所述扩散炉包括两所述进气管组;

4.根据权利要求1所述的扩散炉,其特征在于,所述石英舟配置有多个放置位,所述多个放置位沿第二方向依次间隔设置;

5.根据权利要求1所述的扩散炉,其特征在于,所述进气管组还包括与所述进气口段连通的第一转接段,所述第一转接段位于所述炉管本体外侧;

6.一种扩散炉系统,其特征在于,包括如权利要求1至5任一项所述的扩散炉。

【专利技术属性】
技术研发人员:邹凯田栋东李长营莫磊张国宏刘浩浩张德林陈亮亮
申请(专利权)人:甘肃瓜州宝丰硅材料开发有限公司
类型:发明
国别省市:

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