【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种大变形量低应变速率轧制制备镍钒溅射靶材的方法，属于金属材料加工大塑性变形。
技术介绍
1、在半导体产业中，由于金属溅射靶材优异的性能，常用来制备导电层、粘结层和扩散阻挡层。导电层在早期一般使用金或银等金属，但会与硅晶圆发生反应生成低熔点化合物使得界面容易分离，通常需要使用一层纯镍作为粘结层。但是纯镍粘结层会和导线层金属发生扩散，所以还需要加入一个防止扩散的扩散阻挡层，常常使用纯钒金属作为扩散阻挡层的材料。通过在镍中添加～7％的钒进行熔炼，获得镍钒合金铸锭，制备成的镍钒靶材同时具备了纯镍靶材和纯钒靶材的特点，既能作为粘连层使用又具备了防止扩散的能力。在原料成本上镍钒靶材要低于纯镍靶材和纯钒靶材，目前已经基本上取代了纯镍靶材和纯钒靶材。
2、目前，镍钒靶材在电子、光电、光伏、平面显示等方面被广泛应用。随着镀膜技术的发展与完善，靶材作为磁控溅射镀膜过程中最为关键的基本耗材，对靶材的利用率、低成本和成膜质量都提出更高要求；众所周知靶材的组织形貌与性能都会影响薄膜的性能表现，虽然行业中已有商业镍钒靶材出现，但是还未发...
【技术保护点】
1.一种大变形量低应变速率轧制制备镍钒溅射靶材的方法，其特征在于，具体包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述大变形量低应变速率轧制制备镍钒溅射靶材的方法，其特征在于：所述镍钒靶材中V的含量为7％±0.5％，V纯度高于99.9％，所属镍钒铸锭的纯度为99.9％-99.995％；所述靶材晶粒尺寸≤80μm。
3.根据权利要求1所述大变形量低应变速率轧制制备镍钒溅射靶材的方法，其特征在于：步骤(1)中退火保温温度为1000-1200℃，，保温时间为1-3h，随后随炉冷却至室温。
4.根据权利要求1所述大变形量低应变速率轧制制备镍钒溅射靶材...
【技术特征摘要】
1.一种大变形量低应变速率轧制制备镍钒溅射靶材的方法，其特征在于，具体包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述大变形量低应变速率轧制制备镍钒溅射靶材的方法，其特征在于：所述镍钒靶材中v的含量为7％±0.5％，v纯度高于99.9％，所属镍钒铸锭的纯度为99.9％-99.995％；所述靶材晶粒尺寸≤80μm。
3.根据权...
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