System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种周期性多层膜制备系统技术方案_技高网

一种周期性多层膜制备系统技术方案

技术编号:40904168 阅读:2 留言:0更新日期:2024-04-18 14:35
本发明专利技术涉及一种周期性多层膜制备系统,包括依次连通的进出样室、工艺沉积室和尾室,所述工艺沉积室和所述尾室内部安装有直线运动系统,所述直线运动系统包括从所述工艺沉积室延伸至所述尾室内的运动平台和安装在所述运动平台上的承载车,以及安装在所述运动平台底部的多个支架;本发明专利技术采用磁控溅射方式,多组磁控靶水平横置,基片装在往复运动的承载车上,在靶溅射速率确定,随时间变化的情况下,控制承载车运动速度,即得到每层不同的膜厚;也可控制基片通过溅射靶的速度变化得到膜层厚度渐变的楔形膜,利用采用独特的卧式结构设计及高精度超长直线运动系统,自动化镀膜工艺,可实现周期性多层膜的制备,可沉积介质膜、金属膜等材料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及多层膜制备,具体而言,涉及一种周期性多层膜制备系统


技术介绍

1、目前在高能物理研究领域,尤其是在硬x射线纳米聚焦技术方面,需要非常高精度的多层膜制备。现有的多层膜制备技术存在几个主要问题:目前的技术无法达到纳米级别的膜层厚度控制,这对于高精度衍射元件来说是一个重大的局限并且对于需要成千上万层膜层的应用,如硬x射线纳米聚焦的多层膜劳埃透镜,现有技术难以满足层数多、位置准确和每层厚度一致性的要求,其次现有的多层膜制备方法在自动化和制备效率上存在不足,这在大规模生产和研究应用中成为一个瓶颈。

2、现有技术中难以实现纳米级别的膜层厚度精准控制,且支持成千上万层膜层的高效、精准制备,且很难具备良好的真空环境和稳定的制备条件,以保证膜层质量,因此设计一种周期性多层膜制备系统以解决上述问题。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种周期性多层膜制备系统。

2、为了解决上述技术问题,本专利技术提供了一种周期性多层膜制备系统,包括依次连通的进出样室、工艺沉积室和尾室,所述工艺沉积室和所述尾室内部安装有直线运动系统,所述直线运动系统包括从所述工艺沉积室延伸至所述尾室内的运动平台和安装在所述运动平台上的承载车,以及安装在所述运动平台底部的多个支架;所述进出样室的内部安装有样品传输系统,所述样品传输系统用于将带工件的托盘传送到承载车上;

3、所述尾室用于承载车运动时的存储空间;

4、所述工艺沉积室包括第一沉积室和第二沉积室,工艺气体分别通过管道通入第一沉积室和第二沉积室,所述第一沉积室和所述第二沉积室腔室侧面安装有多个磁控靶,多组磁控靶水平横置,其中

5、通过确定靶溅射速率,改变承载车运动速度获得每层不同的膜厚。

6、进一步的,所述第一沉积室与所述第二沉积室之间安装有检测室,所述检测室上安装有检测仪,所述检测仪用于检测膜层的均匀性和厚度。

7、进一步的,所述进出样室与所述第一沉积室之间安装有插板阀。

8、进一步的,所述工艺沉积室的一侧安装有无油真空系统,所述无油真空系统包括高真空泵和粗抽机,所述高真空泵为两台低温泵和两台分子泵,所述低温泵分别安装在所述第一沉积室与所述尾室上,所述分子泵分别安装在进出样室和所述第二沉积室上。

9、进一步的,所述运动平台上安装有直线导轨组件和精密光栅尺组件,以及直线电机组件,所述直线导轨组件行走平行度为0.023/4000mm,所述精密光栅尺组件分辨率为50nm。

10、进一步的,所述支架的底部安装有基座,所述支架对应穿过第一沉积室、第二沉积室和尾室底部并固定在基座上。

11、进一步的,所述直线导轨组件的两侧安装有水冷管,所述水冷管为u形。

12、本专利技术还提供一种周期性多层膜制备方法,包括以下步骤:

13、s1:通过将工件固定在托盘上,送入进出样室,关闭进出样室大门,抽真空到10-3pa以下,打开插板阀,通过样品传送系统将带工件的托盘传送到第一沉积室内的承载车上;

14、s2:关闭插板阀,通入工艺气体,待工艺室压力达到要求工艺压力且稳定后,启动磁控靶开始镀膜;

15、s3:直线运动系统控制承载车在工艺腔室内按照设定运动曲线进行周期往复运动,精准地控制基片在各个位置的速度,进而控制了膜层的厚度梯度;

16、s4:完成规定数量沉积膜层后,承载车运动到第一沉积室指定位置并锁定,打开插板阀,通过样品传输系统将基片托盘从工艺室传送到进出样室,然后关闭插板阀;

17、s5:进样室缓慢充气至大气压,开前门卸件并在托盘上安装新工件,继续下一个循环。

18、本专利技术的有益效果是,本专利技术采用磁控溅射方式,多组磁控靶水平横置,基片装在往复运动的承载车上,在靶溅射速率确定,随时间变化的情况下,控制承载车运动速度,即得到每层不同的膜厚;也可控制基片通过溅射靶的速度变化得到膜层厚度渐变的楔形膜,通过采用独特的卧式结构设计及高精度超长直线运动系统,自动化镀膜工艺,可实现周期性多层膜的制备,可沉积介质膜、金属膜等材料。

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【技术保护点】

1.一种周期性多层膜制备系统,其特征在于,包括依次连通的进出样室(1)、工艺沉积室(2)和尾室(3),所述工艺沉积室(2)和所述尾室(3)内部安装有直线运动系统(4),所述直线运动系统(4)包括从所述工艺沉积室(2)延伸至所述尾室(3)内的运动平台(41)和安装在所述运动平台(41)上的承载车(42),以及安装在所述运动平台(41)底部的多个支架(43);所述进出样室(1)的内部安装有样品传输系统(11),所述样品传输系统(11)用于将带工件的托盘(49)传送到承载车(42)上;

2.如权利要求1所述的一种周期性多层膜制备系统,其特征在于,

3.如权利要求2所述的一种周期性多层膜制备系统,其特征在于,

4.如权利要求3所述的一种周期性多层膜制备系统,其特征在于,

5.如权利要求4所述的一种周期性多层膜制备系统,其特征在于,

6.如权利要求5所述的一种周期性多层膜制备系统,其特征在于,

7.如权利要求6所述的一种周期性多层膜制备系统,其特征在于,

8.如权利要求7所述的一种周期性多层膜制备方法,其特征在于,

...

【技术特征摘要】

1.一种周期性多层膜制备系统,其特征在于,包括依次连通的进出样室(1)、工艺沉积室(2)和尾室(3),所述工艺沉积室(2)和所述尾室(3)内部安装有直线运动系统(4),所述直线运动系统(4)包括从所述工艺沉积室(2)延伸至所述尾室(3)内的运动平台(41)和安装在所述运动平台(41)上的承载车(42),以及安装在所述运动平台(41)底部的多个支架(43);所述进出样室(1)的内部安装有样品传输系统(11),所述样品传输系统(11)用于将带工件的托盘(49)传送到承载车(42)上;

2....

【专利技术属性】
技术研发人员:高贵斌
申请(专利权)人:北京中科科美科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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