【技术实现步骤摘要】
本专利技术主要涉及半导体工艺设备，具体涉及一种基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法。
技术介绍
1、全电扫描式注入方式，就是利用电场将束斑在水平及垂直方向扫开，令束斑能覆盖一个方形区域，能对方形区域内的样品进行注入，其优点是结构相对简单，设备成本低；缺点是由于是两个方向均是电场扫描偏转，所以到靶的方形束的束边缘与束中心存在一定的夹角，该角度会让设备的均匀性指标降低。而当前应用较广泛的是水平方向靠电扫描，经平行透镜，束流会呈相互平行的带状束，再配合机械扫描令样品垂直方向运动来实现注入。机械扫描是一种高频率往复升降的运动装置，结构相对复杂，升降动作频繁，对结构性能要求更高。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题就在于：针对现有技术存在的技术问题，本专利技术提供一种操作简便、成本低的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法。
2、为解决上述技术问题，本专利技术提出的技术方案为：
3、一种基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，所述静电扫描系统包括电极板组件、剂量法拉第和靶台；所述剂量法拉第上设有束流通道；所述电极板组件位于剂量法拉第的一侧，用于实现束流水平和垂直方向的扫开；所述靶台位于剂量法拉第的另一侧，用于实现样品的旋转；
4、所述全电扫描方法包括步骤：
5、靶室内部靶台上的样品预先按一定角度倾斜，同时以一定转速进行转动，并送达至靶室的注入区域；
6、束流通过电极板组件在水平和垂直方向上扫开形成一个方形束斑，通过剂量法拉第上
7、优选地，在进行样品端面孔的束流扫描时，用掩膜板遮住样品端面孔的其余表面，用束流直接注入。
8、优选地，在束流进入静电扫描系统之前，剂量法拉第被预先设置一定的偏转角度，以避免束流直接进入到靶室。
9、优选地，所述偏转角度为5-7度。
10、优选地，所述剂量法拉第上设置有一个以上的测束杯，用于监测束流的动态变化。
11、优选地，所述测束杯的数量为四个，分布在剂量法拉第的四角位置处。
12、优选地，所述电极板组件包括水平电极板组件和垂直电极板组件，所述水平电极板组件与垂直电极板组件之间相互垂直；所述水平电极板组件用于实现束流水平方向的扫开，所述垂直电极板组件用于实现束流垂直方向上的扫开。
13、优选地，所述水平电极板组件和垂直电极板组件均包括第一电极板和第二电极板，所述第一电极板与第二电极板平行布置。
14、与现有技术相比，本专利技术的优点在于：
15、本专利技术的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，仅需要一个能水平、垂直方向扫描的静电扫描系统，扫开后的方形束斑建立均匀性后直接进入靶室注入样品，样品无需做高频往复升降动作；比较当前常规机型，省略了平行透镜，高频升降组件等，设备可以做得更简单紧凑，且均匀性指标在3％左右，满足要求；上述全电扫描式注入方法操作简便、成本低且所需要设备结构简单。
16、本专利技术在注入之前，剂量法拉第在水平方向设置了预偏转角度a，所以沿直线传播的束流无法通过剂量法拉第的束通道进入到靶室，同理当某些不带电的粒子沿直线传播也只能到达a点，无法进入到靶室，避免中性束等直接进入到靶室而对样品进行误注入，起到了一个保护样品的作用。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，所述静电扫描系统包括电极板组件、剂量法拉第和靶台；所述剂量法拉第上设有束流通道；所述电极板组件位于剂量法拉第的一侧，用于实现束流水平和垂直方向的扫开；所述靶台位于剂量法拉第的另一侧，用于实现样品的旋转；
2.根据权利要求1所述的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，在进行样品端面孔的束流扫描时，用掩膜板遮住样品端面孔的其余表面，用束流直接注入。
3.根据权利要求1或2所述的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，在束流进入静电扫描系统之前，剂量法拉第被预先设置一定的偏转角度，以避免束流直接进入到靶室。
4.根据权利要求3所述的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，所述偏转角度为5-7度。
5.根据权利要求1或2所述的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，所述剂量法拉第上设置有一个以上的测束杯，用于监测束流的动态变化。
6.根据权利要求5所述的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，所述测束杯的数量为四个，分布
7.根据权利要求1或2所述的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，所述电极板组件包括水平电极板组件和垂直电极板组件，所述水平电极板组件与垂直电极板组件之间相互垂直；所述水平电极板组件用于实现束流水平方向的扫开，所述垂直电极板组件用于实现束流垂直方向上的扫开。
8.根据权利要求1或2所述的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，所述水平电极板组件和垂直电极板组件均包括第一电极板和第二电极板，所述第一电极板与第二电极板平行布置。
...【技术特征摘要】
1.一种基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，所述静电扫描系统包括电极板组件、剂量法拉第和靶台；所述剂量法拉第上设有束流通道；所述电极板组件位于剂量法拉第的一侧，用于实现束流水平和垂直方向的扫开；所述靶台位于剂量法拉第的另一侧，用于实现样品的旋转；
2.根据权利要求1所述的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，在进行样品端面孔的束流扫描时，用掩膜板遮住样品端面孔的其余表面，用束流直接注入。
3.根据权利要求1或2所述的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，在束流进入静电扫描系统之前，剂量法拉第被预先设置一定的偏转角度，以避免束流直接进入到靶室。
4.根据权利要求3所述的基于静电扫描系统的全电扫描式注入方法，其特征在于，所述偏转角度为5-7度。
5.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：易镓，许波涛，彭彦淇，
申请(专利权)人：北京烁科中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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