本技术涉及用于排出气体的装置以及清洗设备。用于排出气体的装置包括：第一风箱，所述第一风箱在组装状态下设置在第一反应槽的上方并且所述第一风箱的底壁上设置有开口，以便所述第一反应槽中的气体能够经由所述第一风箱排出，其中，所述第一风箱在组装状态下其长度方向上的第一端和与所述第一端相对的第二端的高度不同；第一液体排出通道，所述第一液体排出通道被至少设置在所述第一端和所述第二端中较低的一端处；以及第一排气通道，所述第一排气通道和所述第一风箱的顶壁连通，以将气体向大气排出。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造领域，并且更具体而言涉及一种用于排出气体的装置以及一种包括该用于排出气体的装置的清洗设备。
技术介绍
1、如图1所示，在现有技术之中，图中示意的典型的链式清洗机具有用于化学酸雾排风管道的结构设计。其中，管道101和风箱102组成排风结构，这个排风结构安装在槽体104上方。在此，链式机供液槽体104的腔体和通道103为排风的目的提供相应的通道，经过风箱102和管道101后排出。
2、然而，当前的现有技术存在如下问题，即当前的现有技术之中的化学酸雾排风结构的结构受限，设备在运行过程中产生的水滴、酸液等废液存在滞留在管道101中的可能，无法收集与排出。更有甚者，滞留在管道101中的水滴、酸液等废液甚至会回流至供液槽体104中，进而影响到产品的质量。
技术实现思路
1、本技术的目的旨在解决现有技术中存在的上述问题和缺陷中的至少一方面，即至少能够防止滞留在管道101中的水滴、酸液等废液回流至供液槽体104中，或者说能够收集并排出设备在运行过程中产生的水滴、酸液等废液。针对该技术问题，本技术属于基于单层链式清洗机中的化学酸雾排风管道技术。
2、具体而言，本技术提出了一种用于排出气体的装置，所述装置包括：
3、第一风箱，所述第一风箱在组装状态下设置在第一反应槽的上方并且所述第一风箱的底壁上设置有开口，以便所述第一反应槽中的气体能够经由所述第一风箱排出，其中，所述第一风箱在组装状态下其长度方向上的第一端和与所述第一端相对的第二端的高度不同；</p>4、第一液体排出通道，所述第一液体排出通道被至少设置在所述第一端和所述第二端中较低的一端处；以及
5、第一排气通道，所述第一排气通道和所述第一风箱的顶壁连通，以将气体向大气排出。
6、在依据本技术所公开的用于排出气体的装置中，由于所述第一风箱在组装状态下其长度方向上的第一端和与所述第一端相对的第二端的高度不同，使得包括该用于排出气体的装置的设备在运行过程中产生的水滴、酸液等废液能够得到归集，进而能够经由设置在所述风箱的第一端和第二端中较低的一端处的液体排出通道得以排出，由此使得这样的废液不至于回流到供液槽体中，从而确保了清洗效果，进而确保了所处理的半导体晶圆的良率。
7、在根据本技术的一个示例性的实施例之中，在所述第一风箱的底壁上的开口处设置有向所述风箱内部延伸的反边，和/或，所述第一风箱的顶壁在安装状态下相较于水平面具有倾斜角度。以这样的方式能够使得冷凝的废液不会回流至供液槽体，而且能够收集到一处，以便借助于排液出口进行排出。
8、在根据本技术的一个示例性的实施例之中，所述第一风箱的顶壁的倾斜方向与所述第一风箱的底壁的倾斜方向不同。以这样的方式能够从不同方向对冷凝所产生的废液进行收集，一方面提高了收集废液的效率，另一方面也使得废液的收集更为充分。
9、在根据本技术的一个示例性的实施例之中，所述第一排气通道包括：
10、第一排气口，所述第一排气口与大气连通；以及
11、第一连接管道，所述第一连接管道被设置在所述第一排气口和所述第一风箱之间并且与所述第一排气口以及所述第一风箱连通。
12、以这样的方式能够将为冷凝为废液的废气直接排出至大气之中，达到排放废气的目的。
13、在根据本技术的一个示例性的实施例之中，所述装置还包括：
14、第二风箱，所述第二风箱在组装状态下设置在第二反应槽的上方并且所述第二风箱的底壁上设置有开口，以便所述第二反应槽中的气体能够经由所述第二风箱排出，其中，所述第二风箱在组装状态下其长度方向上的第三端和与所述第三端相对的第四端的高度不同；
15、第二液体排出通道，所述第二液体排出通道被至少设置在所述第三端和所述第四端中较低的一端处；以及
16、第二排气通道，所述第二排气通道和所述第二风箱的顶壁连通，以将气体向大气排出。
17、在依据本技术所公开的用于排出气体的装置中，由于所述第一风箱在组装状态下其长度方向上的第一端和与所述第一端相对的第二端的高度不同并且所述第二风箱在组装状态下其长度方向上的第三端和与所述第三端相对的第四端的高度不同，使得包括该用于排出气体的装置的设备在运行过程中产生的水滴、酸液等废液能够得到归集，进而能够经由设置在所述第一风箱的第一端和第二端中较低的一端处或者设置在所述第二风箱的第三端和第四端中较低的一端处的液体排出通道得以排出，由此使得这样的废液不至于回流到供液槽体中，从而确保了清洗效果，进而确保了所处理的半导体晶圆的良率。
18、在根据本技术的一个示例性的实施例之中，在所述第二风箱的底壁上的开口处设置有向所述风箱内部延伸的反边，和/或，
19、所述第二风箱的顶壁在安装状态下相较于水平面具有倾斜角度，和/或，所述第二风箱的顶壁的倾斜方向与所述第二风箱的底壁的倾斜方向不同。以这样的方式能够使得冷凝的废液不会回流至供液槽体，而且能够收集到一处，以便借助于排液出口进行排出。此外，以这样的方式能够从不同方向对冷凝所产生的废液进行收集，一方面提高了收集废液的效率，另一方面也使得废液的收集更为充分。
20、在根据本技术的一个示例性的实施例之中，所述第二排气通道包括：
21、第二排气口，所述第二排气口与大气连通；以及
22、第二连接管道，所述第二连接管道被设置在所述第二排气口和所述第二风箱之间并且与所述第二排气口以及所述第二风箱连通。
23、以这样的方式能够将为冷凝为废液的废气直接排出至大气之中，达到排放废气的目的。
24、在根据本技术的一个示例性的实施例之中，所述第二反应槽被设置在所述第一反应槽的下方，和/或，所述第二连接管道被构造为弯管，以绕开所述第一反应槽进行排气。以这样的方式能够进行多层式布局，进一步提高清洗设备的布置效率。
25、在根据本技术的一个示例性的实施例之中，所述装置还包括溢流腔体，所述溢流腔体比所述第一风箱的底壁和/或所述第二风箱的底壁更低并且与所述第一排气通道和/或所述第二排气通道连通。
26、此外，本技术的第二方面提供了一种清洗设备，所述清洗设备包括根据本技术的第一方面所提出的用于排出气体的装置。
27、综上所述，在依据本技术所公开的用于排出气体的装置中，由于所述第一风箱在组装状态下其长度方向上的第一端和与所述第一端相对的第二端的高度不同，使得包括该用于排出气体的装置的设备在运行过程中产生的水滴、酸液等废液能够得到归集，进而能够经由设置在所述风箱的第一端和第二端中较低的一端处的液体排出通道得以排出，由此使得这样的废液不至于回流到供液槽体中，从而确保了清洗效果，进而确保了所处理的半导体晶圆的良率。
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【技术保护点】
1.一种用于排出气体的装置，其特征在于，所述装置包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，在所述第一风箱的底壁上的开口处设置有向所述风箱内部延伸的反边，和/或，所述第一风箱的顶壁在安装状态下相较于水平面具有倾斜角度。
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一风箱的顶壁的倾斜方向与所述第一风箱的底壁的倾斜方向不同。
4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一排气通道包括：
5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：
6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，在所述第二风箱的底壁上的开口处设置有向所述风箱内部延伸的反边，和/或，
7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述第二排气通道包括：
8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述第二反应槽被设置在所述第一反应槽的下方，和/或，所述第二连接管道被构造为弯管，以绕开所述第一反应槽进行排气。
9.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述装置还包括溢流腔体，所述溢流腔体比所述第一风箱的底壁和/或所述第二风箱的底壁更低并且与所述第一排气通道和/或所述第二排气通道连通。
10.一种清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括根据权利要求1至9中任一项所述的用于排出气体的装置。
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【技术特征摘要】
1.一种用于排出气体的装置，其特征在于，所述装置包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，在所述第一风箱的底壁上的开口处设置有向所述风箱内部延伸的反边，和/或，所述第一风箱的顶壁在安装状态下相较于水平面具有倾斜角度。
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一风箱的顶壁的倾斜方向与所述第一风箱的底壁的倾斜方向不同。
4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一排气通道包括：
5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：
6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，在所述第二风箱的底壁上的开口处...
【专利技术属性】
技术研发人员：张富荣，高志峰，付金海，路文泰，
申请(专利权)人：上海普达特设备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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