【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学镀膜材料，具体为一种高吸收光学镀膜材料及其制备方法。
技术介绍
1、光学镀膜材料是一种特殊的材料，用于在光学器件表面形成薄膜层，以实现对光的传输、反射、吸收等特定光学性能的调控。光学镀膜材料通常具有高透明性、光学均匀性和化学稳定性，以确保所需的光学性能和使用寿命，通过合理选择和组合不同的光学镀膜材料，可以实现对光的反射、透射和吸收等特定光学效果的控制，满足各种应用领域的需求，如光学镜片、滤光片、光学薄膜涂层等。
2、然而，现有的光学镀膜材料在使用的过程中存在以下的问题：(1)某些光学镀膜材料可能在长期使用或恶劣环境条件下出现失效或降解的问题。例如，一些有机染料可能易于褪色或受到紫外线辐射的损害；(2)光学镀膜材料的对于光线的吸收性不足，会影响光学镀膜在使用过程中对于光线的接收效果。为此，需要设计相应的技术方案解决存在的技术问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种高吸收光学镀膜材料及其制备方法，解决了某些光学镀膜材料可能在长期使用或恶劣环境条件下出现失效或降解的问题。例如，一些有机染料可能易于褪色或受到紫外线辐射的损害，此外光学镀膜材料的对于光线的吸收性不足，会影响光学镀膜在使用过程中对于光线的接收效果，这一技术问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种高吸收光学镀膜材料，制备原料包括以下重量组成成分：铝60份-80份、硅30份-45份、氧化物3份-6份、氮化物2份-5份、聚合物0.6份-0.9份和稀土0.3份
3、作为本专利技术的一种优选方式，制备原料具体重量组成成分：铝70份、硅38份、氧化物5份、氮化物4份、聚合物0.8份和稀土0.4份。
4、作为本专利技术的一种优选方式，所述氧化物选用二氧化硅、二氧化铝、二氧化钛和二氧化锡的两种或两种以上。
5、作为本专利技术的一种优选方式，所述氮化物选用氮化硅，所述氮化硅的颗粒大小控制在3nm-12nm。
6、作为本专利技术的一种优选方式，所述聚合物选用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚四氟乙烯和聚酰亚胺的一种。
7、作为本专利技术的一种优选方式，具体制备步骤如下：
8、步骤一：光学镀膜材料选择及加工成型处理：首先选择聚合物作为基底材料并进行基底的清洗和表面处理，然后将原料中的铝、硅、氧化物、氮化物和稀土加热成镀膜溶液，然后采用离子束喷镀手段将镀膜溶液均匀涂覆在基底表面，涂覆后的基底进行干燥和固化，以去除溶剂或使材料固化成膜；
9、步骤二：光学镀膜表面吸收层的涂布加工操作，选用铜材料并热熔成液态状，将溶液喷涂于金属镀膜的表面，当一层涂布完毕后进行烘干处理，烘干完成后进行二次涂布，反复三到五次，每层厚度控制在5nm-11nm；
10、步骤三：光学镀膜吸收层的开孔操作，在吸收层的表面通过设备加工成若干组纳米孔，纳米孔成阵列结构，纳米孔的直径控制在1nm-1.8nm，长度控制在0.3nm-0.7nm；
11、步骤四：光学镀膜表面修饰增强处理，在光学镀膜的表面喷布纳米颗粒并采用离子体共振的方式对光学镀膜表面的膜层进行吸收增强处理；
12、步骤五：光学镀膜抗褪色处理，在光学镀膜表面添加一层防护层，以保护镀膜免受环境中的有害因素的侵蚀，防护层的材料选用二氧化锡，将二氧化锡喷涂在光学镀膜的表面形成一层厚度大12nm-23nm的薄层，形成光学镀膜材料。
13、与现有技术相比，本专利技术的有益效果如下：
14、本专利技术对光学镀膜材料的加工方式进行了优化，设计有光学镀膜吸收层的开孔操作、光学镀膜表面修饰增强处理和光学镀膜抗褪色处理步骤，其中光学镀膜吸收层的开孔操作，可以实现光的多次反射和散射，从而增加光的路径长度和吸收概率，另外光学镀膜表面修饰增强处理，可以增强光学镀膜的吸收性能，可以改变光场分布和增强局部电场，从而实现更高的吸收效果，此外光学镀膜抗褪色处理步骤，在光学镀膜表面添加一层防护层，以保护镀膜免受环境中的有害因素的侵蚀，防护层可以提供额外的耐久性和稳定性，延长光学镀膜的使用寿命，并减少褪色的可能性。
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1.一种高吸收光学镀膜材料，其特征在于：制备原料包括以下重量组成成分：铝60份-80份、硅30份-45份、氧化物3份-6份、氮化物2份-5份、聚合物0.6份-0.9份和稀土0.3份-0.5份。
2.根据权利要求1所述的一种高吸收光学镀膜材料，其特征在于：制备原料具体重量组成成分：铝70份、硅38份、氧化物5份、氮化物4份、聚合物0.8份和稀土0.4份。
3.根据权利要求1所述的一种高吸收光学镀膜材料，其特征在于：所述氧化物选用二氧化硅、二氧化铝、二氧化钛和二氧化锡的两种或两种以上。
4.根据权利要求1所述的一种高吸收光学镀膜材料，其特征在于：所述氮化物选用氮化硅，所述氮化硅的颗粒大小控制在3nm-12nm。
5.根据权利要求1所述的一种高吸收光学镀膜材料，其特征在于：所述聚合物选用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚四氟乙烯和聚酰亚胺的一种。
6.根据权利要求1所述的一种高吸收光学镀膜材料的制备方法，其特征在于：具体制备步骤如下：
【技术特征摘要】
1.一种高吸收光学镀膜材料，其特征在于：制备原料包括以下重量组成成分：铝60份-80份、硅30份-45份、氧化物3份-6份、氮化物2份-5份、聚合物0.6份-0.9份和稀土0.3份-0.5份。
2.根据权利要求1所述的一种高吸收光学镀膜材料，其特征在于：制备原料具体重量组成成分：铝70份、硅38份、氧化物5份、氮化物4份、聚合物0.8份和稀土0.4份。
3.根据权利要求1所述的一种高吸收光学镀膜材料，其特征在于：所述氧化物选用二氧...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡沐之，蔡轩臣，
申请(专利权)人：江苏东方硕华光学材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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