一种高纯度光学镀膜二氧化硅及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种高纯度光学镀膜二氧化硅，一种高纯度光学镀膜二氧化硅的制备方法，具体制备步骤如下：

【技术实现步骤摘要】
一种高纯度光学镀膜二氧化硅及其制备方法


[0001]本专利技术涉及二氧化硅制备
，具体为一种高纯度光学镀膜二氧化硅及其制备方法
。

技术介绍

[0002]二氧化硅，是一种无机化合物，化学式为
SiO2
，硅原子和氧原子长程有序排列形成晶态二氧化硅，短程有序或长程无序排列形成非晶态二氧化硅，二氧化硅晶体中，硅原子位于正四面体的中心，四个氧原子位于正四面体的四个顶角上，许多个这样的四面体又通过顶角的氧原子相连，每个氧原子为两个四面体共有，即每个氧原子与两个硅原子相结合，二氧化硅的最简式是
SiO2
，但
SiO2
不代表一个简单分子
(
仅表示二氧化硅晶体中硅和氧的原子个数之比
)。
纯净的天然二氧化硅晶体，是一种坚硬
、
脆性
、
不溶的无色透明的固体，常用于制造光学仪器等，二氧化硅用于光学镀膜，制造平板玻璃，玻璃制品，铸造砂，玻璃纤维，陶瓷彩釉，防锈用喷砂，过滤用砂，熔剂，耐火材料以及制造轻量气泡混凝土
。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种高纯度光学镀膜二氧化硅的制备方法，其特征在于：具体制备步骤如下：
S1
：二氧化硅原料机械破碎处理；
S2
：二氧化硅分离反应提取处理；
S3
：二氧化硅沉淀物烧结处理；
S4
：二氧化硅旋转式清洗处理；
S5
：二氧化硅粉末干燥处理；
S6
：二氧化硅粉末提纯处理；
S7
：二氧化硅微粉研磨细化处理；通过上述七个步骤可以达到对二氧化硅依次原料机械破碎
、
分离反应提取
、
沉淀物烧结
、
旋转式清洗
、
粉末干燥
、
粉末提纯和微粉研磨细化，从而提高二氧化硅的高纯度以及二氧化硅的细密度
。2.
根据权利要求1所述的一种高纯度光学镀膜二氧化硅的制备方法，其特征在于：
S1
：二氧化硅原料机械破碎处理，将二氧化硅原料石英石导入到破碎机内进行破碎处理，并通过研磨机构将石英砂研磨呈石英砂，将石英砂研磨呈直径为
2mm
‑
5mm
的石英颗粒备用
。3.
根据权利要求1所述的一种高纯度光学镀膜二氧化硅的制备方法，其特征在于：
S2
：二氧化硅分离反应提取处理，含有石英砂
、
水
、
结构导向剂
、
碱或酸按一定的比例混合均匀，投入耐压反应釜内密封，然后升温至
150℃
‑
250℃
，恒温
5h
‑
12h
，反应结束后，将反应釜迅速冷却，反应产物用水或稀酸洗涤至
pH
为8‑
11
，烘...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡沐之，蔡轩臣，
申请(专利权)人：江苏东方硕华光学材料有限公司，
类型：发明
国别省市：