【技术实现步骤摘要】
本申请涉及硅片清洗装置领域，具体而言，涉及一种硅片清洗设备及其工作方法。
技术介绍
1、现有的硅片清洗机，花篮大多是采用挂钩的方式对硅片清洗篮输送架进行挂取，将其放入或移出清洗槽中，其凸出缺陷是，酸洗是一种氧化反应，在硅片离开酸液后，其反应速度加快，而现有技术采用挂钩挂取需要耗费的时间较长，在这一挂钩挂取并进入水洗槽的过程中，耗时比较长，硅片表面快速氧化，不利于产品质量的提高。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于，针对现有技术的不足，提供一种硅片清洗设备及其工作方法，其可在清洗室外进行超声波与处理后，快速水平将清洗花篮送入密闭的清洗室内，快速在清洗时室快速在不同清洗槽内转换，清洗完成后快速进行烘干，减少硅片表面氧化，提高产品质量。
2、本专利技术采用的技术方案如下。
3、一种硅片清洗设备，其特征在于：包括机架、控制装置、若干硅片清洗花篮、抓取装置，机架上从左向右依次安装有的清洗室、清洗花篮架输送机构、清洗花篮架存取槽，清洗花篮架存取槽与清洗花篮架输送机构之间设有烘干槽、超声波清洗槽；清洗花篮架存取槽内放置有硅片清洗花篮。抓取装置包括滑动块、升降杆、花篮提架；机架顶端设有两相互平行的第一横向导轨，两第一横向导轨与滑动块相连，滑动块上设有升降杆、滑动块驱动装置，升降杆与升降杆驱动装置相连；升降杆的底端设有花篮提架。清洗室的靠近清洗花篮架输送机构侧壁上设有活动门，清洗室上设有抽风机。
4、清洗室内从左向右依次安装有的酸洗槽、转动纵轴、水洗槽，转动纵
5、其工作包括下列步骤：步骤1：滑动块沿两第一横向导轨运动，滑动块运动到清洗花篮架存取槽正上方，升降杆下降，花篮提架将清洗花篮架存取槽内的硅片清洗花篮抓起，升降杆上升。滑动块沿两第一横向导轨运动，滑动块运动到超声波清洗槽正上方，升降杆下降，将硅片清洗花篮放入超声波清洗槽；升降杆上升。步骤2：超声波清洗完成后，升降杆下降，花篮提架将超声波清洗槽内的硅片清洗花篮抓起，升降杆升起；滑动块运动到清洗花篮架输送机构正上方，升降杆下降，花篮提架将硅片清洗花篮放入清洗花篮架输送机构；升降杆升起。活动门打开，清洗花篮架输送机构的左端进入清洗室将硅片清洗花篮送入摆动机构上的硅片清洗花篮夹持架上；活动门关闭；清洗花篮架输送机构复位。步骤3：转动纵轴转动，将硅片清洗花篮夹持架送入酸洗槽酸洗完成后，转动纵轴转动，立即将硅片清洗花篮夹持架送入水洗槽；水洗完成后，活动门打开，清洗花篮架输送机构的左端进入清洗室，转动纵轴转动，将硅片清洗花篮夹持架放置在清洗花篮架输送机构的左端；清洗花篮架输送机构复位。步骤4：升降杆下降，花篮提架将清洗花篮架输送机构上的硅片清洗花篮抓起，升降杆上升；滑动块沿两第一横向导轨运动到烘干槽正上方，升降杆下降，花篮提架将硅片清洗花篮放入烘干槽烘干后；升降杆上升；滑动块沿两第一横向导轨运动到清洗花篮架存取槽正上方，升降杆下降，花篮提架将硅片清洗花篮放入清洗花篮架存取槽。如此循环。
6、本专利技术的有益效果是：现有的硅片清洗机，花篮大多是采用挂钩的方式对硅片清洗篮输送架进行挂取，将其放入或移出清洗槽中，必须将设有可移动的挂具的导轨设置在清洗槽的正上方，其适用于酸洗、水洗在同一空间内时使用。本专利技术将酸洗设置在密闭环境中酸洗，硅片清洗篮输送架从非密闭进入密闭环境中时方便输送。同时，在密闭环境的酸洗过程中，硅片从酸洗槽进入水洗槽速很快，解决了现有技术从一个清洗槽进入另一个清洗槽的时候，挂钩挂取需要耗费的时间较长，在这一挂钩挂取并进入另一酸槽的时间内，硅片表面快速氧化，不利于产品质量的提高的难题。具体的在清洗室11没有酸洗的情况下采用传统的挂钩挂取清洗花篮，将酸洗有防氧化需求的步骤在清洗室11内完成，可在硅片酸洗完成以后，通过摆动机构立即将硅片清洗花篮送入水洗槽10，防止其快速氧化。采用活动门将清洗室11与外部隔开，采用清洗花篮架输送机构输送硅片清洗花篮，具有输送稳定、快速的特点。
7、作为优选技术方案，滑动块上设有滑动块支架，滑动块中部垂直向设有通孔，滑动块支架上设有升降杆、升降杆驱动装置、滑动块驱动装置、若干升降杆升降测量传感器；升降杆穿过通孔，升降杆底端设有花篮提架。 升降杆驱动装置包括垂直向设置在滑动块支架上的两相互平行的丝杠，两丝顶端与丝杠驱动电机相连，丝杠上设有丝杠滑板，丝杠滑板与升降杆相连；滑动块支架的顶端设有升降杆升降测量传感器。丝杠滑板上设有接触开关。花篮提架上设有花篮位置传感器。其中一第一横向导轨的上设有平行于所述第一横向导轨的导轨齿条，滑动块驱动装置包括垂直向设置在所述滑动块上的滑块驱动电机，滑块驱动电机的输出轴上设有与所述导轨齿条啮合的动力输出齿轮。采用这一技术方案，一旦出现烘干槽或超声波清洗槽或清洗花篮架存取槽内有硅片清洗花篮但出现向其放置硅片清洗花篮的误操作时，升降杆底端抓取的花篮提架与下方的硅片清洗花篮接触，升降杆会被动升起，此时，花篮位置传感器测量到升降杆升起到高位，向控制装置发出信号，升降杆驱动装置停止工作，防止硅片清洗花篮之间挤压破坏。
8、作为优选技术方案，花篮提架前、后侧面各垂直向设有两挂钩，定义两挂钩的间距为l。所述硅片清洗花篮的前、后两端的形心各设有凸耳；硅片清洗花篮的前、后两端相同高度处各设有两挂耳，两挂耳的间距等于l；硅片清洗花篮的前、后两端的挂耳沿硅片清洗花篮的形心对称。硅片清洗花篮的前、后两端凸耳上方相同高度处各设有两输送耳；两输送耳的间距等于l；硅片清洗花篮的前、后两端的凸耳沿硅片清洗花篮的形心对称。采用这一技术方案，硅片清洗花篮方便硅片清洗花篮被挂防、输送，水平定位对接。
9、作为优选技术方案，清洗花篮架输送机构包括两相互平行且顶面平齐的横向设置的第二横向导轨、安装在两第二横向导轨上的顶面平齐的若干滑动板。各第二横向导轨的正上方设有与其平行的槽钢，各滑动板的两端分别连接一槽钢。
10、各槽钢的内侧面设有平行于所述槽钢的滑槽；两槽钢之间设有花篮固定架，花篮固定架的两端分别位于距其最近的滑槽内。一槽钢的远离另一槽钢侧面上一端安装有主动轮，另一端安装有从动轮，主动轮、从动轮通过环状传动带相连，其中主动轮与安装在所述槽钢上的输送机构驱动电机相连；与主动轮最远的滑板与环状传动带的下端相连，花篮固定架与环状传动带的上端相连。花篮固定架的左端的前、后两端各横向设有插杆，各插杆上设有两固定槽，各插杆上两固定槽间距为l；各插杆上位于左侧的固定槽的中线连线在一纵向直线上。采用这一技术方案，硅片清洗花篮可水平快速进出清洗槽。
11、作为优选技术方案，硅片清洗花篮夹持架包括架体、支撑纵杆、硅片清洗花篮抓取机构；架体包括相互平行的前立板、后立板，硅片清洗花篮抓取机构包括设置在前立板、后立板之间的驱动箱；前立板后侧面本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗设备，其特征在于：包括机架（1）、控制装置、若干硅片清洗花篮（5）、抓取装置，机架（1）上从左向右依次安装有的清洗室（11）、清洗花篮架输送机构（6）、清洗花篮架存取槽（2），清洗花篮架存取槽（2）与清洗花篮架输送机构（6）之间设有烘干槽（13）、超声波清洗槽（14）；清洗花篮架存取槽（2）内放置有硅片清洗花篮（5）；
2.如权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于：滑动块（16）上设有滑动块支架（161），滑动块（16）中部垂直向设有通孔（163），滑动块支架（161）上设有升降杆（17）、升降杆驱动装置（18）、滑动块驱动装置（111）、若干升降杆升降测量传感器（162）；升降杆（17）穿过通孔（163），升降杆（17）底端设有花篮提架（19）；
3.如权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于：花篮提架（19）前、后侧面各垂直向设有两挂钩（110），定义两挂钩（110）的间距为L；
4.如权利要求3所述的硅片清洗设备，其特征在于：清洗花篮架输送机构（6）包括两相互平行且顶面平齐的横向设置的第二横向导轨（61）、安装在两第二横
5.如权利要求3所述的硅片清洗设备，其特征在于：硅片清洗花篮夹持架（3）包括架体、支撑纵杆（30）、硅片清洗花篮抓取机构；架体包括相互平行的前立板（38）、后立板（39），硅片清洗花篮抓取机构包括设置在前立板（38）、后立板（39）之间的驱动箱（31）；
6.如权利要求5所述的硅片清洗设备，其特征在于：凸台（37）上设有开口向上的用于放置清洗花篮的凸耳（51）的凸台凹槽（371），
7.如权利要求5所述的硅片清洗设备，其特征在于：驱动箱（31）内横向设有气缸（311）、传动纵轴（312）、纵向设置的第二齿条（313）、横转动轴（314）、第一锥齿轮（315）、第二锥齿轮（316）、传动齿轮（317），传动纵轴（312）两端分别与驱动齿轮（33）相连，传动纵轴（312）上设有第一锥齿轮（315）；第一锥齿轮（315）与第二锥齿轮（316）啮合；横转动轴（314）与第二锥齿轮（316）相连，横转动轴（314）上设有传动齿轮（317）；传动纵轴（312）的一侧设有气缸（311），气缸（311）的输出轴与第二齿条（313）同轴相连；传动齿轮（317）与第二齿条（313）啮合；气缸（311）的输出轴平行于横转动轴（314）；驱动箱（31）上设有管路通孔（318），气缸（311）通过管路外接气源，所述管路穿过管路通孔（318）。
8.如权利要求7所述的硅片清洗设备，其特征在于：传动纵轴（312）包括两中轴线在同一直线上的传动分纵轴（3121），各传动分纵轴（3121）分别与距其最近的驱动齿轮（33）相连，两传动分纵轴（3121）通过联轴器（3122）相连；其中一传动分纵轴（3121）上设有第一锥齿轮（315）；第二齿条（313）设置在传动齿轮（317）的上方或下方。
9.如权利要求5所述的硅片清洗设备，其特征在于：摆动机构（4）包括转动纵轴旋转驱动电机（45）、两滑杆（41），转动纵轴（40）两端上方各横向设有滑杆（41），两滑杆（41）的左端紧贴与活动门的左侧面；各滑杆（41）上设有可在所述滑杆（41）上滑动的连接套（42）；各连接套（42）下端设有垂直于两滑杆（41）的立板（43）各立板（43）的下方设有开口向下的支撑纵杆运动长槽（44）；支撑纵杆（30）穿过两支撑纵杆运动长槽（44）；支撑纵杆（30）的两端分别位于距其最近的立板（43）外侧面以外；
10.如权利要求1-9任意一权利要求所述的硅片清洗设备的工作方法，其特征在于，包括下列步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗设备，其特征在于：包括机架（1）、控制装置、若干硅片清洗花篮（5）、抓取装置，机架（1）上从左向右依次安装有的清洗室（11）、清洗花篮架输送机构（6）、清洗花篮架存取槽（2），清洗花篮架存取槽（2）与清洗花篮架输送机构（6）之间设有烘干槽（13）、超声波清洗槽（14）；清洗花篮架存取槽（2）内放置有硅片清洗花篮（5）；
2.如权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于：滑动块（16）上设有滑动块支架（161），滑动块（16）中部垂直向设有通孔（163），滑动块支架（161）上设有升降杆（17）、升降杆驱动装置（18）、滑动块驱动装置（111）、若干升降杆升降测量传感器（162）；升降杆（17）穿过通孔（163），升降杆（17）底端设有花篮提架（19）；
3.如权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于：花篮提架（19）前、后侧面各垂直向设有两挂钩（110），定义两挂钩（110）的间距为l；
4.如权利要求3所述的硅片清洗设备，其特征在于：清洗花篮架输送机构（6）包括两相互平行且顶面平齐的横向设置的第二横向导轨（61）、安装在两第二横向导轨（61）上的顶面平齐的若干滑动板（62）；
5.如权利要求3所述的硅片清洗设备，其特征在于：硅片清洗花篮夹持架（3）包括架体、支撑纵杆（30）、硅片清洗花篮抓取机构；架体包括相互平行的前立板（38）、后立板（39），硅片清洗花篮抓取机构包括设置在前立板（38）、后立板（39）之间的驱动箱（31）；
6.如权利要求5所述的硅片清洗设备，其特征在于：凸台（37）上设有开口向上的用于放置清洗花篮的凸耳（51）的凸台凹槽（371），
7.如权利要求5所述的硅片清洗设备，其特征在于：驱动箱（31）内横向设有气缸（311）、传动纵轴（312）、纵向设置的第二齿条（...
【专利技术属性】
技术研发人员：王志广，白如意，马玉水，
申请(专利权)人：联盛半导体科技无锡有限公司，
类型：发明
国别省市：
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