【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及废气处理领域，尤其涉及一种燃烧水洗式单腔废气处理设备。
技术介绍
1、半导体制造工艺中需要使用多种特殊气体，其中有工艺气体：硅烷、磷化氢、三氢化砷、氨、三氯化硼、三氟化硼、氯、二氯磺酞、四氯化硅、氢化硫、三氯甲苯、碘化硫、氯化氢等，这些气体在半导体制造的不同工艺中使用，产生的废气通过排风系统收集并处理，这些废气如果没有经过很好的处理便进行排放，将造成严重的问题，不仅影响人们的身体健康，恶化大气环境，造成环境污染的公害事件等，也会成为半导体制造中amc(气态分子污染物)污染的重要来源。目前，针对这种气体排放，一般采用吸附、焚烧或两者相结合的处理方法。
2、吸附是利用多孔性固体吸附剂处理混合气体，使其中所含的一种或多种组分吸附于固体表面上，达到分离的目的。半导体生产中产生的有机废气通过局部排风罩收集，经管道送至吸附净化系统。一般吸附净化系统采用吸附药剂作为吸附剂。吸附药剂价格昂贵，因半导体生产中需要处理的废气量大，需要大量吸附剂且需要频繁更换，处理成本高且影响生产进度。
3、焚烧的方法也广泛用于半导体行...
【技术保护点】
1.一种燃烧水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述设备包括：
2.根据权利要求1所述的一种燃烧水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述废气引入模块包括：
3.根据权利要求2所述的一种燃烧水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的一种燃烧水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的一种燃烧水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述处理设备还包括：
6.根据权利要求4所述的一种燃烧水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述处理设备还包括：
7.根据权利要求4所述的一...
【技术特征摘要】
1.一种燃烧水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述设备包括：
2.根据权利要求1所述的一种燃烧水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述废气引入模块包括：
3.根据权利要求2所述的一种燃烧水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的一种燃烧水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的一种燃烧水洗式单腔废气处理设备，其特征在于，所述处理设备还包括：
6.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴伟力，孙先超，王涛，
申请(专利权)人：浙江亚笙半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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