一种新型perc背面膜层结构及镀膜方法技术

本发明专利技术公开了一种新型perc背面膜层结构及镀膜方法，包括：P型硅基，所述P型硅基正面设置有N型发射极；所述P型硅基位于N型发射极外还覆盖有氧化硅层，所述氧化硅层外还覆盖有减反膜；正面电极，所述正面电极设置于P型硅基正面；钝化膜，所述钝化膜设置于P型硅基背面，用于对P型硅基起到钝化的作用；增反膜，所述增反膜覆盖在钝化膜外侧，增反膜用于反射长波光，通过发挥氮氧化硅折射率范围大的优势，根据不同的氮硅比例实现钝化、增加内反射的效果，膜层结构虽然复杂，但是本质都是氮氧化硅，只需工艺端调整硅烷、氨气、笑气流量就可以达到不同的组合效果，无需增加ALD工序、人力和特气成本，完美取代传统的氧化铝加氮化硅背钝化结构。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及太阳能电池片，具体为一种新型perc背面膜层结构及镀膜方法。

技术介绍

1、太阳能电池是一种将太阳光能转化为电能的器件，其核心部件是硅片，硅片的表面和背面都需要经过特殊的处理，以提高电池的效率。其中，一种重要的处理方法是背钝化，即在硅片的背面增加一层或多层薄膜，来减少载流子的复合损失，提高少子寿命和开路电压。目前，主流的背钝化结构是氧化铝(al2o3)和氮化硅(sinx)的叠层，其中氧化铝起到场效应钝化的作用，氮化硅起到反射和保护的作用。

2、氧化铝的制备方法有多种，其中原子层沉积(ald)是一种高效、均匀、可控的方法，它可以在低温下形成高质量的氧化铝薄膜。但是，ald的缺点是需要使用三甲基铝(tma)作为前驱体，tma是一种昂贵、易燃、有毒的化学品，它的使用和存储都需要特殊的设备和条件。因此，ald的生产成本比其他方法高,背钝化层的存在会影响电池背面的电极印刷和烧结，导致电极与硅片的接触不良，增加串联电阻，降低电池的性能,氧化铝和氮化硅的叠层中，由于两者的生产工艺温度差异大，造成薄膜的热应力和热膨胀系数不匹配，导致薄膜的开裂或剥本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种新型perc背面膜层结构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种新型perc背面膜层结构，其特征在于：所述钝化膜(3)以及增反膜(4)均为氮氧化硅制成。

3.根据权利要求2所述的一种新型perc背面膜层结构，其特征在于：所述钝化膜(3)还包括氮氧化硅层一(31)，所述增反膜(4)还包括氮氧化硅层二(41)、氮氧化硅层三(42)、氮氧化硅层四(43)、氮氧化硅层五(44)和氮氧化硅层六(45)。

4.根据权利要求3所述的一种新型perc背面膜层结构，其特征在于：所述钝化膜(3)和增反膜(4)总厚度为140-180nm。

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【技术特征摘要】

1.一种新型perc背面膜层结构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种新型perc背面膜层结构，其特征在于：所述钝化膜(3)以及增反膜(4)均为氮氧化硅制成。

3.根据权利要求2所述的一种新型perc背面膜层结构，其特征在于：所述钝化膜(3)还包括氮氧化硅层一(31)，所述增反膜(4)还包括氮氧化硅层二(41)、氮氧化硅层三(42)、氮氧化硅层四(43)、氮氧化硅层五(44)和氮氧化硅层六(45)。

4.根据权利要求3所述的一种新型perc背面膜层结构，其特征在于：所述钝化膜(3)和增反膜(4)总厚度为140-180nm。

5.根据权利要求4所述的一种新型perc背面膜层结构，其特征在于：所述钝化膜(3)和增反膜(4)折射率为1.55-1.65。

6.一种镀膜方法，用于制备权利要求1至5所述的新型perc背面膜层结构，其特征在于：包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：高鑫，吴宇，徐明靖，
申请(专利权)人：滁州亿晶光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：