System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种用于半导体制造的洁净室及半导体制造工厂制造技术_技高网

一种用于半导体制造的洁净室及半导体制造工厂制造技术

技术编号:40822711 阅读:2 留言:0更新日期:2024-04-01 14:42
本申请提供一种用于半导体制造的洁净室及半导体制造工厂,所述洁净室包括:若干第一生产设备,所述若干第一生产设备的出入端口在地面的投影位于一条直线上;隔离墙,包围所述若干第一生产设备,其中,所述若干第一生产设备的出入端口暴露于所述隔离墙外。本申请提供一种用于半导体制造的洁净室及半导体制造工厂,相邻的生产区间共用天车轨道,可以提高洁净环境的空间利用率,提高晶圆运输效率,并且减少天车轨道数量,节省成本。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及半导体,尤其涉及一种用于半导体制造的洁净室及半导体制造工厂


技术介绍

1、在半导体生产过程中,需要用到多种设备类型。部分设备由于以下原因需要进行隔离放置:产品的不同,对于洁净度以及环境的要求不同,对于特殊设备需要进行隔离;在相同产品的前段、后段产生的污染也不相同,如果设备放置在一起也要进行隔离;由于制程的不同,设备本身对洁净度的要求也不相同,例如黄光区的洁净要求就高于其他区域,需要进行隔离放置。

2、隔离方式通常是单独建立隔间,将设备完全隔离在一个房间内。而隔间的产生对于空间利用及天车轨道设计都造成了很大干扰。

3、在寸土寸金的晶圆厂,如何解决不同洁净环境相对独立的运行模式,有效利用空间及优化天车轨道设计是一个重大课题。因此,有必要提供一种更有效、更可靠的技术方案,满足不同洁净环境相对独立运行的情况下,最大化洁净环境的空间利用率。


技术实现思路

1、本申请提供一种用于半导体制造的洁净室及半导体制造工厂,可以提高洁净环境的空间利用率,提高晶圆运输效率,节省成本。

2、本申请的一个方面提供一种用于半导体制造的洁净室,包括:若干第一生产设备,所述若干第一生产设备的出入端口在地面的投影位于一条直线上;隔离墙,包围所述若干第一生产设备,其中,所述若干第一生产设备的出入端口暴露于所述隔离墙外。

3、在本申请的一些实施例中,所述隔离墙靠近所述出入端口一侧的墙体与所述出入端口和所述若干第一生产设备的连接位置平齐。

4、在本申请的一些实施例中,所述隔离墙内的环境数据包括:每立方米允许直径大于5um的颗粒数为200个;所述隔离墙外的环境数据包括:每立方米允许直径大于5um的颗粒数为0个。

5、在本申请的一些实施例中,所述洁净室还包括:隔离门,设置于所述隔离墙远离所述若干第一生产设备的一侧。

6、在本申请的一些实施例中,所述洁净室还包括:维修区域,被所述隔离墙包围,位于所述若干第一生产设备远离出入端口的一侧。

7、在本申请的一些实施例中,所述洁净室还包括:跑货区域,位于所述隔离墙外靠近所述出入端口的一侧,所述跑货区域用于设置天车轨道以搬运晶圆。

8、在本申请的一些实施例中,所述跑货区域的宽度为2.2至2.6m。

9、本申请的另一个方面还提供一种半导体制造工厂,包括:相互平行设置的第一主轨道和第二主轨道,以及位于所述第一主轨道和第二主轨道之间且分别连接所述第一主轨道和第二主轨道的第一副轨道和第二副轨道;如上述所述的洁净室,设置于所述第一主轨道和第二主轨道之间且位于所述第一副轨道的一侧,所述若干第一生产设备的出入端口的位置与所述第一副轨道对应;若干第二生产设备,设置于所述第一主轨道和第二主轨道之间且位于所述第二副轨道的一侧,所述若干第二生产设备的出入端口的位置与所述第二副轨道对应。

10、在本申请的一些实施例中,所述工厂还包括:若干第三副轨道,设置于所述第一副轨道和第二副轨道之间,连接所述第一副轨道和第二副轨道。

11、在本申请的一些实施例中,,所述半导体制造工厂的空间利用率大于等于90%。

12、本申请提供一种用于半导体制造的洁净室及半导体制造工厂,相邻的生产区间共用天车轨道,可以提高洁净环境的空间利用率,提高晶圆运输效率,并且减少天车轨道数量,节省成本。

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【技术保护点】

1.一种用于半导体制造的洁净室,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的洁净室,其特征在于,所述隔离墙靠近所述出入端口一侧的墙体与所述出入端口和所述若干第一生产设备的连接位置平齐。

3.如权利要求1所述的洁净室,其特征在于,所述隔离墙内的环境数据包括:每立方米允许直径大于5um的颗粒数为200个;所述隔离墙外的环境数据包括:每立方米允许直径大于5um的颗粒数为0个。

4.如权利要求1所述的洁净室,其特征在于,还包括:隔离门,设置于所述隔离墙远离所述若干第一生产设备的一侧。

5.如权利要求1所述的洁净室,其特征在于,还包括:维修区域,被所述隔离墙包围,位于所述若干第一生产设备远离出入端口的一侧。

6.如权利要求1所述的洁净室,其特征在于,还包括:跑货区域,位于所述隔离墙外靠近所述出入端口的一侧,所述跑货区域用于设置天车轨道以搬运晶圆。

7.如权利要求6所述的洁净室,其特征在于,所述跑货区域的宽度为2.2至2.6m。

8.一种半导体制造工厂,其特征在于,包括:

9.如权利要求8所述的半导体制造工厂,其特征在于,还包括:若干第三副轨道,设置于所述第一副轨道和第二副轨道之间,连接所述第一副轨道和第二副轨道。

10.如权利要求8所述的半导体制造工厂,其特征在于,所述半导体制造工厂的空间利用率大于等于90%。

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【技术特征摘要】

1.一种用于半导体制造的洁净室,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的洁净室,其特征在于,所述隔离墙靠近所述出入端口一侧的墙体与所述出入端口和所述若干第一生产设备的连接位置平齐。

3.如权利要求1所述的洁净室,其特征在于,所述隔离墙内的环境数据包括:每立方米允许直径大于5um的颗粒数为200个;所述隔离墙外的环境数据包括:每立方米允许直径大于5um的颗粒数为0个。

4.如权利要求1所述的洁净室,其特征在于,还包括:隔离门,设置于所述隔离墙远离所述若干第一生产设备的一侧。

5.如权利要求1所述的洁净室,其特征在于,还包括:维修区域,被所述隔离墙包围,位于所...

【专利技术属性】
技术研发人员:姜旺周毅仲孙俊丽房小飞白雪
申请(专利权)人:中芯国际集成电路制造北京有限公司
类型:发明
国别省市:

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