【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体，尤其涉及一种用于半导体制造的洁净室及半导体制造工厂。
技术介绍
1、在半导体生产过程中，需要用到多种设备类型。部分设备由于以下原因需要进行隔离放置：产品的不同，对于洁净度以及环境的要求不同，对于特殊设备需要进行隔离；在相同产品的前段、后段产生的污染也不相同，如果设备放置在一起也要进行隔离；由于制程的不同，设备本身对洁净度的要求也不相同，例如黄光区的洁净要求就高于其他区域，需要进行隔离放置。
2、隔离方式通常是单独建立隔间，将设备完全隔离在一个房间内。而隔间的产生对于空间利用及天车轨道设计都造成了很大干扰。
3、在寸土寸金的晶圆厂，如何解决不同洁净环境相对独立的运行模式，有效利用空间及优化天车轨道设计是一个重大课题。因此，有必要提供一种更有效、更可靠的技术方案，满足不同洁净环境相对独立运行的情况下，最大化洁净环境的空间利用率。
技术实现思路
1、本申请提供一种用于半导体制造的洁净室及半导体制造工厂，可以提高洁净环境的空间利用率，提高晶圆运输效率，节省
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【技术保护点】
1.一种用于半导体制造的洁净室，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的洁净室，其特征在于，所述隔离墙靠近所述出入端口一侧的墙体与所述出入端口和所述若干第一生产设备的连接位置平齐。
3.如权利要求1所述的洁净室，其特征在于，所述隔离墙内的环境数据包括：每立方米允许直径大于5um的颗粒数为200个；所述隔离墙外的环境数据包括：每立方米允许直径大于5um的颗粒数为0个。
4.如权利要求1所述的洁净室，其特征在于，还包括：隔离门，设置于所述隔离墙远离所述若干第一生产设备的一侧。
5.如权利要求1所述的洁净室，其特征在于，还包...
【技术特征摘要】
1.一种用于半导体制造的洁净室，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的洁净室，其特征在于，所述隔离墙靠近所述出入端口一侧的墙体与所述出入端口和所述若干第一生产设备的连接位置平齐。
3.如权利要求1所述的洁净室，其特征在于，所述隔离墙内的环境数据包括：每立方米允许直径大于5um的颗粒数为200个；所述隔离墙外的环境数据包括：每立方米允许直径大于5um的颗粒数为0个。
4.如权利要求1所述的洁净室，其特征在于，还包括：隔离门，设置于所述隔离墙远离所述若干第一生产设备的一侧。
5.如权利要求1所述的洁净室，其特征在于，还包括：维修区域，被所述隔离墙包围，位于所...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜旺，周毅仲，孙俊丽，房小飞，白雪，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：发明
国别省市：
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