【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光学镀膜，尤其涉及一种光学膜、一种包含所述光学膜的壳体以及一种壳体的制备方法。
技术介绍
1、一些透光元件例如玻璃，常常需要在其表面镀膜是达到想要的色彩效果，然而，现有技术中的镀膜产品往往在实现色彩效果的同时也阻碍了部分或特定光线的透过，从而影响产品的颜色呈现效果应用。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请提出一种光学膜，所述光学膜能够形成良好的颜色。本申请还提供一种应用所述光学膜的壳体以及一种壳体的制作方法，通过所述光学膜有利于提升所述壳体的应用范围。
2、本申请的第一方面提供一种光学膜，包括打底层和形成于所述打底层上的干涉膜层。所述干涉膜层包括交替设置的低折射率膜层和高折射率膜层，所述打底层和所述高折射率膜层为sio2n2层，所述低折射率膜层为所述sio2层。
3、利用高折射率的sio2n2层搭配低折射率的sio2层，通过高低折射率利用干涉相长/干涉相消，有利于在反射可见光形成良好的颜色，从而有利于拓展所述光学膜的应用范围。
4、基于上述第一表面，在一些可能的实施方式中，所述sio2n2层的折射率为2.22至2.25，所述sio2层的折射率为1.48至1.52。
5、基于上述第一表面，在一些可能的实施方式中，所述sio2n2层的吸光系数为0.0007至0.0008，所述sio2层的吸光系数为0.00003至0.00004。
6、基于上述第一表面，在一些可能的实施方式中，所述干涉膜层包括第一干涉层、第二干涉层、第
7、基于上述第一表面，在一些可能的实施方式中，每个所述sio2n2层的厚度为9nm至300nm，每个所述sio2层的厚度为9nm至300nm，所述光学膜的总厚度为369±20nm。
8、基于上述第一表面，在一些可能的实施方式中，所述打底层的厚度为14.5nm至15.5nm，所述第一干涉层的厚度为24nm至25nm，所述第二干涉层的厚度为21nm至22nm，所述第三干涉层厚度为74nm至75nm，所述第四干涉层的厚度为128nm至129nm，所述第五干涉层的厚度为64nm至65nm，所述第五干涉层的厚度为41nm至42nm。
9、基于上述第一表面，在一些可能的实施方式中，所述光学膜的颜色采用lab颜色模型表征时，l值为62.5至63，a值为-6.74至-6.94，b值为24.5至25。
10、本申请第二方面提供一种壳体，括透光基底和位于所述透光基底一侧的如上所述的光学膜，所述光学膜中的所述打底层背离所述干涉膜层的一侧与所述透光基底结合，所述打底层的折射率大于所述透光基底的折射率。
11、上述壳体中，所述光学膜能够反射可见光形成颜色，从而有利于拓展所述壳体的应用范围。
12、本申请第三方面提供一种壳体的制作方法，包括：提供透光基底；以硅为靶材，在所述透光基底表面溅射形成打底层，所述打底层的材料为sio2n2；以硅为靶材，在所述打底层上溅射形成干涉膜层，所述干涉膜层包括交替设置的低折射率膜层和高折射率膜层，所述打底层和所述高折射率膜层为sio2n2层，所述低折射率膜层为所述sio2层。
13、上述壳体的制作方法，通过在透光基底上沉积形成交替设置的高折射率的sio2n2层和低折射率的sio2层，通过高低折射率利用干涉相长/干涉相消，有利于在反射可见光形成良好的颜色，从而有利于拓展所述壳体的应用范围。
14、基于上述第三表面，在一些可能的实施方式中，在形成所述打底层和所述高折射率膜层时，溅射速度为45nm每分钟，在形成所述低折射率膜层时，溅射速度为29nm每分钟。
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1.一种光学膜，其特征在于，包括打底层和形成于所述打底层上的干涉膜层，所述干涉膜层包括交替设置的低折射率膜层和高折射率膜层，所述打底层和所述高折射率膜层为SiO2N2层，所述低折射率膜层为SiO2层。
2.如权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述SiO2N2层的折射率为2.22至2.25，所述SiO2层的折射率为1.48至1.52。
3.如权利要求2所述的光学膜，其特征在于，所述SiO2N2层的吸光系数为0.0007至0.0008，所述SiO2层的吸光系数为0.00003至0.00004。
4.如权利要求1至3中任意一项所述的光学膜，其特征在于，所述干涉膜层包括第一干涉层、第二干涉层、第三干涉层、第四干涉层、第五干涉层和第六干涉层，其中，所述打底层、所述第二干涉层、所述第四干涉层以及所述第六干涉层均为所述高折射率膜层，所述第一干涉层、所述第三干涉层以及所述第五干涉层均为所述低折射率膜层。
5.如权利要求4所述的光学膜，其特征在于，每个所述SiO2N2层的厚度为9nm至300nm，每个所述SiO2层的厚度为9nm至300nm，所述光
6.如权利要求4所述的光学膜，其特征在于，所述打底层的厚度为14.5nm至15.5nm，所述第一干涉层的厚度为24nm至25nm，所述第二干涉层的厚度为21nm至22nm，所述第三干涉层厚度为74nm至75nm，所述第四干涉层的厚度为128nm至129nm，所述第五干涉层的厚度为64nm至65nm，所述第五干涉层的厚度为41nm至42nm。
7.如权利要求6所述的光学膜，其特征在于，所述光学膜的颜色采用Lab颜色模型表征时，L值为62.5至63，a值为-6.74至-6.94，b值为24.5至25。
8.一种壳体，其特征在于，包括透光基底和位于所述透光基底一侧的如权利要求1至7中任意一项所述的光学膜，所述光学膜中的所述打底层背离所述干涉膜层的一侧与所述透光基底结合，所述打底层的折射率大于所述透光基底的折射率。
9.一种壳体的制作方法，包括：
10.如权利要求9所述的壳体的制作方法，其特征在于，在形成所述打底层和所述高折射率膜层时，溅射速度为45nm/min，在形成所述低折射率膜层时，溅射速度为29nm/min。
...【技术特征摘要】
1.一种光学膜，其特征在于，包括打底层和形成于所述打底层上的干涉膜层，所述干涉膜层包括交替设置的低折射率膜层和高折射率膜层，所述打底层和所述高折射率膜层为sio2n2层，所述低折射率膜层为sio2层。
2.如权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述sio2n2层的折射率为2.22至2.25，所述sio2层的折射率为1.48至1.52。
3.如权利要求2所述的光学膜，其特征在于，所述sio2n2层的吸光系数为0.0007至0.0008，所述sio2层的吸光系数为0.00003至0.00004。
4.如权利要求1至3中任意一项所述的光学膜，其特征在于，所述干涉膜层包括第一干涉层、第二干涉层、第三干涉层、第四干涉层、第五干涉层和第六干涉层，其中，所述打底层、所述第二干涉层、所述第四干涉层以及所述第六干涉层均为所述高折射率膜层，所述第一干涉层、所述第三干涉层以及所述第五干涉层均为所述低折射率膜层。
5.如权利要求4所述的光学膜，其特征在于，每个所述sio2n2层的厚度为9nm至300nm，每个所述sio2层的厚度为9nm至300nm，所述光学膜的总厚度...
【专利技术属性】
技术研发人员：路新雨，邓彬凌，王楠楠，高峰，张亚周，李奎，陈艳凯，
申请(专利权)人：富联科技兰考有限公司，
类型：发明
国别省市：
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