【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及化学发光免疫分析，更具体地说，涉及一种避磁结构。此外，还涉及一种包括上述避磁结构的化学发光免疫分析装置。
技术介绍
1、化学发光免疫分析是将化学发光或生物发光与免疫反应相结合，用于检测微量抗原或抗体的一种新型标记免疫测定技术。由于化学发光免疫技术较传统的放射免疫更为环保安全，相较于酶联免疫更为灵敏、检测范围更宽。故化学发光免疫检测得到了人们的普遍认可，已成为目前临床免疫诊断的主要手段。
2、化学发光免疫分析仪包含加样、混匀、温育、反应杯转移、磁洗以及测光等模块。化学发光免疫分析仪常规用免疫磁珠标记待测物，在处理的过程中需要将未结合物质清洗掉，此过程在仪器的磁洗模块上进行。磁洗过程需要高强度磁场将磁珠吸附到反应杯的侧壁上，以免在清洗过程中将结合待测物质的磁珠吸走。非磁洗过程需要磁珠分散不凝聚从而充分和待测物结合。当将磁洗集成到非磁洗通道上，需要避免磁洗的高强度磁场对转移过程中的磁珠的影响。
3、现有技术中，常见处理方式是将磁洗和非磁洗部分拉开距离，或是通过非磁洗模块和磁洗单元单独分开，以避免磁洗磁场对非磁洗的干扰。然而，这些方式都不利于缩小机器投影面积，不利于机器的小型化，不利于降低仪器的成本。
4、综上所述，如何集成磁洗部分和非磁洗部分、以实现机器的小型化，是目前本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的目的是提供一种避磁结构，可对非磁洗单元和磁洗单元进行集成，以避免磁洗磁场对非磁洗部的干扰，有利于缩小
2、本专利技术的另一目的是提供一种包括上述避磁结构的化学发光免疫分析装置。
3、为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
4、一种避磁结构，包括：
5、反应杯；
6、底座，其设有至少2条用于对所述反应杯导向的导向槽，各所述导向槽沿水平方向间隔分布，相邻所述导向槽之间具有高度差；
7、永磁铁，其设于所述底座内，所述永磁铁位于低位的所述导向槽的侧部，且高位的所述导向槽底部和所述永磁铁顶部的间距大于或等于预设高度差。
8、在一个实施例中，还包括用于驱动所述反应杯沿所述导向槽移动的驱动部件，所述驱动部件设于所述底座上，所述反应杯穿过所述驱动部件插入所述导向槽内。
9、在一个实施例中，所述底座包括支撑座和设于所述支撑座上方的盘盖；
10、所述支撑座内设有低位的所述导向槽，所述盘盖内设有高位的所述导向槽；或所述支撑座内设有低位的所述导向槽和高位的所述导向槽；或所述支撑座和所述盘盖内均对应设有低位的所述导向槽和高位的所述导向槽。
11、在一个实施例中，相邻两个所述导向槽之间设有连接通道，所述驱动部件用于驱动所述反应杯在所述导向槽和所述连接通道之间转移。
12、在一个实施例中，低位的所述导向槽的一侧或两侧设有所述永磁铁。
13、在一个实施例中，还包括设于高位的所述导向槽底部的隔磁件。
14、在一个实施例中，所述隔磁件的相对真空的磁导率大于或等于100。
15、在一个实施例中，所述预设高度差为3mm-5mm。
16、在一个实施例中，所述反应杯的顶部直径尺寸大于底部直径尺寸，所述反应杯的顶部至底部为光滑过渡；
17、或所述反应杯的顶部直径尺寸等于底部直径尺寸、且所述反应杯沿其中心轴对称分布，所述反应杯的顶部至底部为光滑过渡。
18、一种化学发光免疫分析装置，包括上述任一项所述的避磁结构。
19、在使用本专利技术所提供的避磁结构时，可以在底座设置具有高度差的导向槽，其中，永磁铁位于低位的导向槽的侧部，高位的导向槽底部和永磁铁顶部的间距大于或等于预设高度差，以避免永磁铁对无需磁洗的高位反应杯内的液体进行磁吸。使用过程中，可以将需要磁洗的反应杯放在低位导向槽内，将无需磁洗的反应杯放在高位导向槽内，以实现磁洗部和非磁洗部的集成化。也即装置可对非磁洗单元和磁洗单元进行集成，以避免磁洗磁场对非磁洗部的干扰。
20、综上所述，本专利技术所提供的避磁结构，可对非磁洗单元和磁洗单元进行集成，以避免磁洗磁场对非磁洗部的干扰，有利于缩小机器投影面积，有助于实现机器的小型化和降低仪器的成本。
21、此外，本专利技术还提供了一种包括上述避磁结构的化学发光免疫分析装置。
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1.一种避磁结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的避磁结构，其特征在于，还包括用于驱动所述反应杯(6)沿所述导向槽移动的驱动部件(4)，所述驱动部件(4)设于所述底座(1)上，所述反应杯(6)穿过所述驱动部件(4)插入所述导向槽内。
3.根据权利要求2所述的避磁结构，其特征在于，所述底座(1)包括支撑座(7)和设于所述支撑座(7)上方的盘盖(5)；
4.根据权利要求2所述的避磁结构，其特征在于，相邻两个所述导向槽之间设有连接通道，所述驱动部件(4)用于驱动所述反应杯(6)在所述导向槽和所述连接通道之间转移。
5.根据权利要求1至4任一项所述的避磁结构，其特征在于，低位的所述导向槽的一侧或两侧设有所述永磁铁(2)。
6.根据权利要求1至4任一项所述的避磁结构，其特征在于，还包括设于高位的所述导向槽底部的隔磁件(3)。
7.根据权利要求6所述的避磁结构，其特征在于，所述隔磁件(3)的相对真空的磁导率大于或等于100。
8.根据权利要求1至4任一项所述的避磁结构，其特征在于，所述预设高度差为
9.根据权利要求1至4任一项所述的避磁结构，其特征在于，所述反应杯(6)的顶部直径尺寸大于底部直径尺寸，所述反应杯(6)的顶部至底部为光滑过渡；
10.一种化学发光免疫分析装置，其特征在于，包括上述权利要求1至9任一项所述的避磁结构。
...【技术特征摘要】
1.一种避磁结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的避磁结构，其特征在于，还包括用于驱动所述反应杯(6)沿所述导向槽移动的驱动部件(4)，所述驱动部件(4)设于所述底座(1)上，所述反应杯(6)穿过所述驱动部件(4)插入所述导向槽内。
3.根据权利要求2所述的避磁结构，其特征在于，所述底座(1)包括支撑座(7)和设于所述支撑座(7)上方的盘盖(5)；
4.根据权利要求2所述的避磁结构，其特征在于，相邻两个所述导向槽之间设有连接通道，所述驱动部件(4)用于驱动所述反应杯(6)在所述导向槽和所述连接通道之间转移。
5.根据权利要求1至4任一项所述的避磁结构，其特征在于，低位的...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘聪，赵鹏，吴江，杨传杰，戎卫，程志强，李东，王超，
申请(专利权)人：安图实验仪器郑州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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