【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及晶体制备领域,具体是一种锑化铟晶锭腐蚀液和锑化铟晶锭的腐蚀方法。
技术介绍
1、锑化铟晶体常采用直拉法生长,因其熔点(525℃)较低,无法使用液封剂,熔液表面的氧化物浮渣会对熔体表面处的状态产生不利影响,从而增大孪晶出现的几率,严重影响高质量单晶的产出。其中,影响最大的是氧化物浮渣,通常为氧化锑、氧化铟等。而减少氧化物浮渣,通常需对锑化铟多晶表面进行腐蚀处理,现有技术中,锑化铟常用的腐蚀溶液是王水溶液,但这种腐蚀液有以下缺点:
2、1、王水溶液与区熔后的锑化铟晶锭反应速度较慢,一般需要15~25min,不利于大批量多晶的腐蚀;
3、2、同时由于腐蚀时间较长,极易有白色的氧化物附着在晶锭表面,增加熔体的氧化物浮渣。
4、因此,急需开发一种能高效且快速腐蚀锑化铟晶锭的腐蚀方法。
技术实现思路
1、有鉴于此,本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种锑化铟晶锭腐蚀液和锑化铟晶锭的腐蚀方法,本专利技术提供的腐蚀液能够以秒级的速度快速且大量地腐蚀锑化铟
...【技术保护点】
1.一种锑化铟晶锭腐蚀液,其特征在于,其包括HF、HNO3和H2O;
2.根据权利要求1所述的腐蚀液,其特征在于,所述HF的质量浓度为49wt%;
3.根据权利要求1所述的腐蚀液,其特征在于,所述HF、HNO3和H2O的体积比为1:6:20。
4.根据权利要求1~3中任一所述的腐蚀液,其特征在于,所述锑化铟晶锭为锑化铟多晶锭。
5.一种锑化铟晶锭的腐蚀方法,其特征在于,包括以下步骤:
6.根据权利要求5所述的腐蚀方法,其特征在于,所述HF的质量浓度为49wt%;
7.根据权利要求5所述的腐蚀方法,
...【技术特征摘要】
1.一种锑化铟晶锭腐蚀液,其特征在于,其包括hf、hno3和h2o;
2.根据权利要求1所述的腐蚀液,其特征在于,所述hf的质量浓度为49wt%;
3.根据权利要求1所述的腐蚀液,其特征在于,所述hf、hno3和h2o的体积比为1:6:20。
4.根据权利要求1~3中任一所述的腐蚀液,其特征在于,所述锑化铟晶锭为锑化铟多晶锭。
5.一种锑化铟晶锭的腐蚀方法,其特征在于,包括以下步骤:
6.根据权利要求5所述的腐蚀方法,其特征在于,所述hf的质量浓度为49wt%;<...
【专利技术属性】
技术研发人员:李镇宏,刘宇昊,狄聚青,
申请(专利权)人:安徽光智科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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