【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制备，特别是涉及一种石墨件平整度的检测装置。
技术介绍
1、在碳化硅外延片生长制备过程中，反应腔内的工艺温度高达1600℃，为了提高反应腔对于高温的承受能力，反应腔内使用了大量石墨件。碳化硅外延采用气相沉积法制备，在生长过程中，生长气体会发生反应并产生沉积物。除了一部分反应物沉积在衬底表面，其余大部分沉积物会沉积在石墨配件表面。而当石墨件表面沉积物累积到一定厚度时，将会影响生长过程中气流分布。同时，当沉积物累积到一定程度，还将会影响工艺参数，造成产品不良的问题，因此保证石墨配件表面的厚度与平整度良好至关重要。
2、在石墨配件表面生长到一定厚度后，需要换下进行打磨，使用金刚石打磨头将石墨件表面生长的碳化硅沉积物打磨去除，石墨件表面沉积物被打磨去除以后，需要保证表面平整度良好，以保证石墨配件使用效果良好。然而，石墨配件在打磨过后，若配件打磨的效果不统一，将导致使用时生长效果存在差异的问题。因此，如何精确地检测石墨配件表面平整度成了一个亟待解决的问题。
技术实现思路
1、基于此，有必要针对如何精确地检测石墨配件表面平整度的问题，提供一种石墨件平整度的检测装置。
2、一种石墨件平整度的检测装置，包括检测平台，用于放置待测石墨件；传动结构，设置于所述检测平台底部，用于带动所述检测平台沿第一方向移动；第一支撑杆和第二支撑杆，沿第二方向分别设置在所述传动结构相对的两侧边，所述第二方向与所述第一方向垂直；激光发射器，固定在所述第一支撑杆上，用于发射检测激
3、在其中一个实施例中，所述第一支撑杆的长度方向与所述第二支撑杆的长度方向平行，所述长度方向分别与所述第一方向和所述第二方向两两相互垂直，所述激光发射器在所述第一支撑杆的长度方向上的位置可调，所述激光接收器在所述第二支撑杆的长度方向上的位置可调。
4、在其中一个实施例中，所述待测石墨件包括待测平面，所述待测平面远离所述检测平台，所述激光发射器发射的所述检测激光位于所述待测平面远离所述检测平台的一侧，所述检测激光与所述待测平面在所述待测石墨件的厚度方向上间隔预设距离。
5、在其中一个实施例中，所述预设距离为0.3mm～0.6mm。
6、在其中一个实施例中，所述激光发射器通过紧固件固定在所述第一支撑杆上，所述激光接收器通过紧固件固定在所述第二支撑杆上。
7、在其中一个实施例中，所述石墨件平整度的检测装置还包括连杆结构和两个固定底座，所述第一支撑杆的第一端通过其中一个所述固定底座固定于地面，所述第一支撑杆的第二端与所述连杆结构的第一端固定连接，所述连杆结构的第二端与所述第二支撑杆的第二端固定连接，所述第二支撑杆的第一端通过另一个所述固定底座固定于地面。
8、在其中一个实施例中，所述激光接收器还用于在接收到所述检测激光时输出显示信号，所述石墨件平整度的检测装置还包括显示单元，与所述激光接收器相连接，用于根据所述显示信号输出检测信息。
9、在其中一个实施例中，所述显示单元包括指示灯。
10、在其中一个实施例中，所述传动结构包括滑轨和手轮，通过转动所述手轮来带动所述滑轨沿第一方向移动。
11、在其中一个实施例中，所述滑轨在第一方向上的长度大于所述检测平台在第一方向上的长度。
12、上述石墨件平整度的检测装置，包括检测平台、传动结构、第一支撑杆、第二支撑杆、激光发射器和激光接收器，在检测石墨件表面平面度时，将待测石墨件放置在检测平台上。检测平台放置在传动结构上，传动结构可以带动检测平台沿第一方向移动。将激光发射器与激光接收器分别通过第一支撑杆和第二支撑杆固定在传动结构的两侧，形成对射状态。传动结构可以从待测石墨件的一侧边开始滑动，根据激光接收器的接收情况来判断石墨件的表面平整度。若激光接收器不能接收到检测激光，说明检测激光遭受遮挡，待测石墨件的表面平整度差；若激光接收器能够接收到检测激光，说明检测激光未遭受遮挡，待测石墨件的表面平整度良好。可见，利用石墨件平整度的检测装置可以实现对石墨件表面平整度的精确检测。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种石墨件平整度的检测装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述第一支撑杆的长度方向与所述第二支撑杆的长度方向平行，所述长度方向分别与所述第一方向和所述第二方向两两相互垂直，所述激光发射器在所述第一支撑杆的长度方向上的位置可调，所述激光接收器在所述第二支撑杆的长度方向上的位置可调。
3.根据权利要求2所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述待测石墨件包括待测平面，所述待测平面远离所述检测平台，所述激光发射器发射的所述检测激光位于所述待测平面远离所述检测平台的一侧，所述检测激光与所述待测平面在所述待测石墨件的厚度方向上间隔预设距离。
4.根据权利要求3所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述预设距离为0.3mm～0.6mm。
5.根据权利要求2所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述激光发射器通过紧固件固定在所述第一支撑杆上，所述激光接收器通过紧固件固定在所述第二支撑杆上。
6.根据权利要求2所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述石墨件平整度的检
7.根据权利要求1或2所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述激光接收器还用于在接收到所述检测激光时输出显示信号，所述石墨件平整度的检测装置还包括：
8.根据权利要求7所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述显示单元包括指示灯。
9.根据权利要求1所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述传动结构包括滑轨和手轮，通过转动所述手轮来带动所述滑轨沿第一方向移动。
10.根据权利要求9所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述滑轨在第一方向上的长度大于所述检测平台在第一方向上的长度。
...【技术特征摘要】
1.一种石墨件平整度的检测装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述第一支撑杆的长度方向与所述第二支撑杆的长度方向平行，所述长度方向分别与所述第一方向和所述第二方向两两相互垂直，所述激光发射器在所述第一支撑杆的长度方向上的位置可调，所述激光接收器在所述第二支撑杆的长度方向上的位置可调。
3.根据权利要求2所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述待测石墨件包括待测平面，所述待测平面远离所述检测平台，所述激光发射器发射的所述检测激光位于所述待测平面远离所述检测平台的一侧，所述检测激光与所述待测平面在所述待测石墨件的厚度方向上间隔预设距离。
4.根据权利要求3所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述预设距离为0.3mm～0.6mm。
5.根据权利要求2所述的石墨件平整度的检测装置，其特征在于，所述激光发射器通过紧固件固定在所述第一支撑杆上，所述激光接收器通过紧固件固定在所述第二支撑杆上。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：吕立平，
申请(专利权)人：希科半导体科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。