一种晶片抛光装置制造方法及图纸

技术编号:40756465 阅读:3 留言:0更新日期:2024-03-25 20:10
本技术提供了一种晶片抛光装置,涉及抛光装置领域,包括:底座、夹持座、打磨组件、注液组件和拱形架,所述拱形架上端设有电机和气缸,且电机下端连接有转轴,所述夹持座包括夹槽、夹板、旋杆和风腔,且风腔连接在夹槽下端,并且风腔外端连接有风机和集尘箱,所述打磨组件包括打磨盘、第一通腔和第二通腔,且打磨盘上端连接有升降筒,所述升降筒的筒壁开设有接水孔,底部开设有导流孔,并且升降筒上端与转轴滑动连接。本技术解决了现有技术中的晶片抛光装置不便于在打磨过程中加入抛光液,且不便于对粉尘进行处理问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及抛光装置,具体涉及一种晶片抛光装置


技术介绍

1、石英晶体在使用时,需要切割后进行抛光处理,经过检索,现有技术(申请号:cn202221567789.5),文中记载了“石英晶片抛光装置,包括底板,其特征在于:所述底板的上侧固定拱形支架,所述拱形支架的上侧中心轴承连接锥齿轮一的中心轴,所述锥齿轮一的下侧中心固定连接套筒,所述锥齿轮一啮合锥齿轮二,所述锥齿轮二轴承连接l形板的立板,所述l形板的立板固定所述拱形支架的上侧,所述l形板的横板轴承连接锥齿轮三的中心轴,所述锥齿轮三的中心下端固定转动柱的上端。本技术涉及石英晶片打磨抛光设备领域,具体涉及石英晶片抛光装置。本技术要解决的技术问题是提供石英晶片抛光装置,方便对石英晶片进行打磨抛光。”

2、但是现有技术中的晶片抛光装置虽然实现对多个晶片的抛光打磨,缺任然存在一些不足:该装置涉及的打磨盘在使用中,未设置冷却液或者抛光液的注入装置,不能对打磨盘进行降温导致抛光效果差,而现有抛光液注入装置直接滴加在打磨盘上,而在打磨盘运行中容易导致离心溅射,存在使用不便,其次,打磨晶片过程中容易产生粉尘,该装置不易对产生的打磨粉尘进行收集,存在加工环境的污染现象。


技术实现思路

1、为克服现有技术所存在的缺陷,现提供一种晶片抛光装置,以解决现有技术中的晶片抛光装置不便于在打磨过程中加入抛光液,且不便于对粉尘进行处理的问题。

2、为实现上述目的,提供一种晶片抛光装置,包括:底座、夹持座、打磨组件、注液组件和拱形架,所述拱形架上端设有电机和气缸,且电机下端连接有转轴,所述夹持座包括夹槽、夹板、旋杆和风腔,且风腔连接在夹槽下端,并且风腔外端连接有风机和集尘箱,所述打磨组件包括打磨盘、第一通腔和第二通腔,且打磨盘上端连接有升降筒,所述升降筒的筒壁开设有接水孔,底部开设有导流孔,并且升降筒上端与转轴滑动连接,所述注液组件包括输送泵、储水箱和喷头,且喷头插接在升降筒外侧的转接套内部。

3、进一步的,所述夹板设为开口相对的v形板结构,且旋杆螺接在夹板内部,并且夹板滑动连接在夹槽内部。

4、进一步的,所述风腔设有竖直腔和水平腔,且竖直腔连接在夹槽下端,水平腔连接在竖直腔下端,并且水平腔外端口通过管道与风机连接。

5、进一步的,所述气缸下端连接有连接板,且连接板的上端中部连接有伸缩杆,并且连接板的内侧端固定在转接套外壁,且伸缩杆固定在拱形架下端面。

6、进一步的,所述第一通腔上端与导流孔连通,且第二通腔连接在第一通腔下端,并且第二通腔下端口位于打磨盘下端面。

7、进一步的,所述输送泵的出水端通过软管与喷头连接气枪,且喷头外端设有套管,并且套管插接在转接套中。

8、进一步的,所述接水孔沿着升降筒的圆周方向等间距开设有三个,且接水孔在水平位置与喷头对应。

9、本技术的有益效果在于,利用注液组件所包括的输送泵、储水箱、软管和喷头,以及升降筒内部开设的接水孔和导流孔,便于在升降筒带动打磨组件转动的过程中将抛光液注入到打磨盘中,进而通过第一通腔和第二通腔,将抛光液输送到打磨盘和夹持座的之间夹持的晶片表面,便于起到冷却和加快抛光的效果;利用夹持座内部开设的夹持槽,以及夹持槽下端的风腔,便于在抛光过程中,通过风机和风腔使得在夹持槽下侧形成抽吸的负压,进而将抛光产生的粉尘吸收处理,避免加工环境的污染。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种晶片抛光装置,包括:底座(1)、夹持座(2)、打磨组件(5)、注液组件(6)和拱形架(11),所述拱形架(11)上端设有电机(7)和气缸(8),且电机(7)下端连接有转轴(71),其特征在于:所述夹持座(2)包括夹槽(21)、夹板(22)、旋杆(23)和风腔(24),且风腔(24)连接在夹槽(21)下端,并且风腔(24)外端连接有风机(3)和集尘箱(4),所述打磨组件(5)包括打磨盘(51)、第一通腔(52)和第二通腔(53),且打磨盘(51)上端连接有升降筒(12),所述升降筒(12)的筒壁开设有接水孔(121),底部开设有导流孔(122),并且升降筒(12)上端与转轴(71)滑动连接,所述注液组件(6)包括输送泵(61)、储水箱(62)和喷头(65),且喷头(65)插接在升降筒(12)外侧的转接套(13)内部。

2.根据权利要求1所述的一种晶片抛光装置,其特征在于,所述夹板(22)设为开口相对的V形板结构,且旋杆(23)螺接在夹板(22)内部,并且夹板(22)滑动连接在夹槽(21)内部。

3.根据权利要求1所述的一种晶片抛光装置,其特征在于,所述风腔(24)设有竖直腔和水平腔,且竖直腔连接在夹槽(21)下端,水平腔连接在竖直腔下端,并且水平腔外端口通过管道与风机(3)连接。

4.根据权利要求1所述的一种晶片抛光装置,其特征在于,所述气缸(8)下端连接有连接板(10),且连接板(10)的上端中部连接有伸缩杆(9),并且连接板(10)的内侧端固定在转接套(13)外壁,且伸缩杆(9)固定在拱形架(11)下端面。

5.根据权利要求1所述的一种晶片抛光装置,其特征在于,所述第一通腔(52)上端与导流孔(122)连通,且第二通腔(53)连接在第一通腔(52)下端,并且第二通腔(53)下端口位于打磨盘(51)下端面。

6.根据权利要求1所述的一种晶片抛光装置,其特征在于,所述输送泵(61)的出水端通过软管(63)与喷头(65)连接气枪,且喷头(65)外端设有套管(64),并且套管(64)插接在转接套(13)中。

7.根据权利要求1所述的一种晶片抛光装置,其特征在于,所述接水孔(121)沿着升降筒(12)的圆周方向等间距开设有三个,且接水孔(121)在水平位置与喷头(65)对应。

...

【技术特征摘要】

1.一种晶片抛光装置,包括:底座(1)、夹持座(2)、打磨组件(5)、注液组件(6)和拱形架(11),所述拱形架(11)上端设有电机(7)和气缸(8),且电机(7)下端连接有转轴(71),其特征在于:所述夹持座(2)包括夹槽(21)、夹板(22)、旋杆(23)和风腔(24),且风腔(24)连接在夹槽(21)下端,并且风腔(24)外端连接有风机(3)和集尘箱(4),所述打磨组件(5)包括打磨盘(51)、第一通腔(52)和第二通腔(53),且打磨盘(51)上端连接有升降筒(12),所述升降筒(12)的筒壁开设有接水孔(121),底部开设有导流孔(122),并且升降筒(12)上端与转轴(71)滑动连接,所述注液组件(6)包括输送泵(61)、储水箱(62)和喷头(65),且喷头(65)插接在升降筒(12)外侧的转接套(13)内部。

2.根据权利要求1所述的一种晶片抛光装置,其特征在于,所述夹板(22)设为开口相对的v形板结构,且旋杆(23)螺接在夹板(22)内部,并且夹板(22)滑动连接在夹槽(21)内部。

3.根据权利要求1所述的一种晶片抛光装置,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:凌波王波
申请(专利权)人:合肥聚进半导体设备有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1