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【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电容器,具体是涉及一种提高mlcc切割对位精度的识别结构。
技术介绍
1、在mlcc加工过程中,空白陶瓷膜片和印刷有内电极图形的陶瓷膜片,经过多层堆叠并等静压,形成mlcc的生坯,生坯经过切割后,产出生坯芯片。
2、随着mlcc尺寸小型化趋势,作为陶瓷介质的陶瓷膜片也越来越薄,伴随而来的是对加工精度的更高要求,其中,通过印刷形成、用于切割对位的识别结构,对生坯芯片的内电极结构有很大影响。
3、印刷有图形的陶瓷膜片在堆叠时,膜片会受到压合装置的压力,因为印刷图形部分的厚度较未印刷部分厚,因此,堆叠印刷有电极图形膜片时,压力主要集中在印刷图形上。现有技术中,单位面积内,识别结构的图形面积比内电极结构图形面积小,识别结构受到的压力更大、更集中,常出现歪斜现象,若按照歪斜的识别结构切割,切后的生坯芯片会出现内电极偏移现象。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的不足,本专利技术实施例的目的在于提供一种提高mlcc切割对位精度的识别结构,以解决上述
技术介绍
中的问题。
2、为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:
3、一种提高mlcc切割对位精度的识别结构,包括切割识别结构,所述切割识别结构的一侧设置有内电极结构,还包括:
4、陶瓷膜片,所述切割识别结构以及所述内电极结构设置在所述陶瓷膜片一侧,所述陶瓷膜片用于承载切割识别结构以及所述内电极结构。
5、作为本专利技术进一步的方案,所述切割识别结构采用交错式结
6、作为本专利技术进一步的方案,所述承载切割识别结构采用大面积结构。
7、作为本专利技术进一步的方案,所述承载切割识别结构印刷面积与所述内电极结构印刷面积一致。
8、作为本专利技术进一步的方案,所述承载切割识别结构压力与所述内电极结构压力一致。
9、作为本专利技术进一步的方案,多组所述陶瓷膜片采用堆叠设置。
10、作为本专利技术进一步的方案,所述切割识别结构的识别形式为识别未印刷图形部分。
11、综上所述,本专利技术实施例与现有技术相比具有以下有益效果:
12、本专利技术通过增加印刷面积,并采用交错形式,能够避免堆叠时切割识别结构出现歪斜,提高切割对位精度的切割识别结构。
13、为更清楚地阐述本专利技术的结构特征和功效,下面结合附图与具体实施例来对本专利技术进行详细说明。
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1.一种提高MLCC切割对位精度的识别结构,包括切割识别结构,所述切割识别结构的一侧设置有内电极结构,其特征在于,还包括:
2.根据权利要求1所述的提高MLCC切割对位精度的识别结构,其特征在于,所述切割识别结构采用交错式结构。
3.根据权利要求1所述的提高MLCC切割对位精度的识别结构,其特征在于,所述承载切割识别结构采用大面积结构。
4.根据权利要求1所述的提高MLCC切割对位精度的识别结构,其特征在于,所述承载切割识别结构印刷面积与所述内电极结构印刷面积一致。
5.根据权利要求1所述的提高MLCC切割对位精度的识别结构,其特征在于,所述承载切割识别结构压力与所述内电极结构压力一致。
6.根据权利要求1所述的提高MLCC切割对位精度的识别结构,其特征在于,多组所述陶瓷膜片采用堆叠设置。
7.根据权利要求2所述的提高MLCC切割对位精度的识别结构,其特征在于,所述切割识别结构的识别形式为识别未印刷图形部分。
【技术特征摘要】
1.一种提高mlcc切割对位精度的识别结构,包括切割识别结构,所述切割识别结构的一侧设置有内电极结构,其特征在于,还包括:
2.根据权利要求1所述的提高mlcc切割对位精度的识别结构,其特征在于,所述切割识别结构采用交错式结构。
3.根据权利要求1所述的提高mlcc切割对位精度的识别结构,其特征在于,所述承载切割识别结构采用大面积结构。
4.根据权利要求1所述的提高mlcc切割对位精度的识别结构,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵文辉,董贤礼,刘圣亮,张丹,侯少星,
申请(专利权)人:北京元六鸿远电子科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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