【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激光直写领域，特别是涉及一种激光直写装置、光栅的制备方法、菲尼尔透镜的制备方法及应用。
技术介绍
1、激光直写技术是一种无需掩膜版，可以实现高精度三维结构制备的先进微纳加工技术，其广泛应用于电路板制造、半导体制造和光学器件制造等领域。
2、针对一些复杂的光学器件制造，如光栅和菲尼尔透镜的制造，涉及大量复杂图形刻写过程，一般只能采用通用的横向扫描或纵向扫描刻写方式。上述刻写方式在不同行或者不同列之间进行切换时，需要暂停刻写，由此导致了激光直写的效率偏低。
技术实现思路
1、基于此，有必要针对激光直写设备在制备光学器件时效率较低的问题，提供一种激光直写装置、光栅的制备方法、菲尼尔透镜的制备方法及应用。
2、一种激光直写装置，在光路传播方向上依次包括多光束光源、刻写光路和样品台；
3、其中，多光束光源包括转动单元以及至少两根光纤头，所述转动单元具有第一转轴，所述光纤头的延伸方向和第一转轴平行，且所述光纤头和所述第一转轴间隔设置，所述转动单元用于控制所述光纤头绕第一转轴转动。
4、本专利技术所述多光束光源还包括平移单元，所述平移单元用于控制所述光纤头在第二方向和/或第三方向上移动，第一转轴的延伸方向为第一方向，第一方向、第二方向和第三方向两两垂直。
5、本专利技术所述光纤头至少有三根，至少三根所述光纤头的中心线沿一直线依次等间隔设置。
6、本专利技术所述光纤头至少有三根，其中三根所述光纤头分别为第一光纤头
7、本专利技术所述第一光纤头和所述第二光纤头贴合。
8、本专利技术所述多光束光源还包括夹持装置，所有所述光纤头均夹持于所述夹持装置上，所述夹持装置安装在所述转动单元上。
9、一种光栅的制备方法，基于激光直写装置，其中，所有所述光纤头的中心线沿一直线依次等间隔设置，所述多光束光源还包括平移单元，所述平移单元用于控制所述光纤头在第二方向上移动，第一转轴的延伸方向为第一方向，第一方向、第二方向和第三方向两两垂直，所述光栅的制备方法依次包括如下步骤：
10、步骤101：获取光栅的设计周期；
11、步骤102：所述转动单元控制所述夹持装置绕第一转轴转动，以使相邻两个所述光纤头在第三方向上的间距匹配所述设计周期；
12、步骤103：待相邻两个所述光纤头在第三方向上的间距匹配所述设计周期后，所述转动单元停止工作，所述平移单元控制所述光纤头在第二方向上移动，以将所述样品台上的光刻胶刻写成光栅。
13、一种菲尼尔透镜的制备方法，基于激光直写装置，其中，所述光纤头至少有三根，其中三根所述光纤头分别为第二光纤头、第三光纤头和第四光纤头，所述所述第二光纤头的中心线、第三光纤头的中心线、第一转轴和第四光纤头的中心线沿一直线依次间隔设置，第二光纤头的中心线、所述第三光纤头的中心线和第四光纤头的中心线依次等间隔设置，第三光纤头的中心线和第一转轴之间的间距等于第四光纤头的中心线和第一转轴之间的间距；
14、所述菲尼尔透镜的制备方法依次包括：所述转动单元控制所述夹持装置绕第一转轴转动。
15、一种菲尼尔透镜的制备方法，基于激光直写装置，其中，所述光纤头至少有三根，至少三根所述光纤头的中心线沿一直线依次间隔设置，以形成刻写线阵列，所述第一转轴位于所述刻写线阵列的侧面；
16、所述菲尼尔透镜的制备方法依次包括：所述转动单元控制所述夹持装置绕第一转轴转动。
17、一种激光直写装置在刻写多层封闭曲线中的应用。
18、本专利技术的有益效果为：
19、本专利技术通过至少两根光纤头绕第一转轴转动的方式，实现了同时刻写多层封闭曲线的目的，如同时刻写多个同心圆，由此能够以较高的效率制备菲尼尔透镜。
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1.一种激光直写装置，其特征在于，在光路传播方向上依次包括多光束光源、刻写光路和样品台；
2.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于，所述多光束光源还包括平移单元，所述平移单元用于控制所述光纤头在第二方向和/或第三方向上移动，第一转轴的延伸方向为第一方向，第一方向、第二方向和第三方向两两垂直。
3.根据权利要求2所述的激光直写装置，其特征在于，所述光纤头至少有三根，至少三根所述光纤头的中心线沿一直线依次等间隔设置。
4.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于，所述光纤头至少有三根，其中三根所述光纤头分别为第一光纤头、第二光纤头和第七光纤头，所述第一光纤头的中心线、所述第二光纤头的中心线和第一转轴沿一直线间隔设置，所述第一光纤头的中心线和第一转轴之间的间距为R1，所述第二光纤头的中心线和第一转轴之间的间距为R2，所述第七光纤头的中心线和第一转轴之间的间距为R7，R7介于R1和R2之间。
5.根据权利要求4所述的激光直写装置，其特征在于，所述第一光纤头和所述第二光纤头贴合。
6.根据权利要求1-5任一权利要求所述
7.一种光栅的制备方法，其特征在于，基于如权利要求6所述的激光直写装置，其中，所有所述光纤头的中心线沿一直线依次等间隔设置，所述多光束光源还包括平移单元，所述平移单元用于控制所述光纤头在第二方向上移动，第一转轴的延伸方向为第一方向，第一方向、第二方向和第三方向两两垂直，所述光栅的制备方法依次包括如下步骤：
8.一种菲尼尔透镜的制备方法，其特征在于，基于如权利要求6所述的激光直写装置，其中，所述光纤头至少有三根，其中三根所述光纤头分别为第二光纤头、第三光纤头和第四光纤头，所述所述第二光纤头的中心线、第三光纤头的中心线、第一转轴和第四光纤头的中心线沿一直线依次间隔设置，第二光纤头的中心线、所述第三光纤头的中心线和第四光纤头的中心线依次等间隔设置，第三光纤头的中心线和第一转轴之间的间距等于第四光纤头的中心线和第一转轴之间的间距；
9.一种菲尼尔透镜的制备方法，其特征在于，基于如权利要求6所述的激光直写装置，其中，所述光纤头至少有三根，至少三根所述光纤头的中心线沿一直线依次间隔设置，以形成刻写线阵列，所述第一转轴位于所述刻写线阵列的侧面；
10.一种如权利要求6所述的激光直写装置在刻写多层封闭曲线中的应用。
...【技术特征摘要】
1.一种激光直写装置，其特征在于，在光路传播方向上依次包括多光束光源、刻写光路和样品台；
2.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于，所述多光束光源还包括平移单元，所述平移单元用于控制所述光纤头在第二方向和/或第三方向上移动，第一转轴的延伸方向为第一方向，第一方向、第二方向和第三方向两两垂直。
3.根据权利要求2所述的激光直写装置，其特征在于，所述光纤头至少有三根，至少三根所述光纤头的中心线沿一直线依次等间隔设置。
4.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于，所述光纤头至少有三根，其中三根所述光纤头分别为第一光纤头、第二光纤头和第七光纤头，所述第一光纤头的中心线、所述第二光纤头的中心线和第一转轴沿一直线间隔设置，所述第一光纤头的中心线和第一转轴之间的间距为r1，所述第二光纤头的中心线和第一转轴之间的间距为r2，所述第七光纤头的中心线和第一转轴之间的间距为r7，r7介于r1和r2之间。
5.根据权利要求4所述的激光直写装置，其特征在于，所述第一光纤头和所述第二光纤头贴合。
6.根据权利要求1-5任一权利要求所述的激光直写装置，其特征在于，所述多光束光源还包括夹持装置，所有所述光纤头均夹持于所述夹持装置上，所述...
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