【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，提供一种纳米压印机构、设备及方法。
技术介绍
1、纳米压印技术是微电子、材料领域的重要加工手段，主要通过接触式压印完成图形的转移，目前普遍使用软膜作为压印模板，在制程中需要用一定的气压将软膜撑开，以保证在压印过程中软膜可以完整地与衬底进行贴合，提高图形一致性。但在软膜被撑开的过程中，中心区域软膜形变量与边缘区域软膜形变量差距过大，图形变形明显，这就造成了软膜在实际压印过程中，图形周期会沿着中心区域到边缘区域的规律逐步减小，造成图形化差异。
技术实现思路
1、为解决上述现有技术中存在的至少一个不足，本专利技术提供一种纳米压印机构，包括承片台，用于承载衬底；
2、固定装置，设置于所述承片台的上方；所述固定装置包括工作腔，所述工作腔内设置有模板安装件以及位于模板安装件下方的软膜固定件；当所述工作腔对固定于软膜固定件上的软膜施加气压时，所述软膜的表面形成有不同目标区域的形变；
3、所述工作腔内还设置有加热装置，所述加热装置用于对不同目标区域的软膜表面进行加热。
4、在一实施例中，所述加热装置根据加热温度对软膜进行加热以控制不同目标区域之间软膜的形变均匀性；所述加热温度是基于软膜表面形成的不同目标区域的形变量所生成的，所述形变量表示为未施加气压和施加气压状态下软膜表面同一位置的垂直位移量。
5、在一实施例中，在某一目标区域内，所述加热温度与所述形变量转换的公式表示为：δl＝αl0δt；其中，δl表示软膜受热后的该目标区域的
6、在一实施例中，所述加热装置包括若干个位于软膜不同目标区域上方的加热件，多个所述加热件的加热温度彼此独立控制。
7、在一实施例中，所述加热装置包括若干由所述工作腔中心向边缘依次同心嵌套且间隔分布的环状加热件；多个所述环状加热件的加热温度彼此独立控制。
8、在一实施例中，所述加热件或环状加热件为电热丝、红外加热管、ptc陶瓷加热器中的一种或多种。
9、在一实施例中，还包括控制组件和感应组件，所述感应组件用于检测软膜上不同目标区域的形变量，所述形变量表示为未施加气压和施加气压状态下软膜表面同一位置的垂直位移量；所述控制组件分别与感应组件、加热装置电连接，以将某一目标区域的软膜形变量转化为加热温度并传输给该目标区域的加热装置。
10、在一实施例中，所述将某一目标区域的软膜形变量转化为加热温度的公式为：
11、δt＝δl/αl0；
12、其中，δt表示软膜受热时该目标区域的加热温度，δl为软膜受热后的该目标区域的形变量，α表示软膜热膨胀系数，l0表示软膜施加气压状态下该目标区域的初始形变量。
13、在一实施例中，还包括升降装置，所述升降装置与所述固定装置连接，用于带动所述工作腔向所述承片台下压以使得软膜与衬底压印。
14、本专利技术还提供一种纳米压印设备，采用如上所述的纳米压印机构。
15、在一实施例中，还包括紫外线光源，所述紫外线光源用于曝光固化位于所述衬底上的光刻胶层。
16、本专利技术还提供一种纳米压印方法，包括采用如上所述的纳米压印机构，或，采用如上所述的纳米压印设备，还包括以下步骤：
17、提供一衬底，所述衬底放置于所述承片台上；
18、在所述衬底的表面覆盖一层光刻胶层；
19、于所述工作腔的模板安装件上安装具有压印图形的凸状模板；于所述工作腔的软膜固定件上固定软膜；所述工作腔对所述软膜施加气压使所述软膜向所述衬底所在侧表面形成有不同目标区域的形变；
20、基于软膜表面形成的不同目标区域的形变量生成相应的加热温度，所述加热装置根据加热温度对软膜表面的不同目标区域进行加热；
21、凸状模板通过压印图形将软膜压印于所述光刻胶层上。
22、基于上述，与现有技术相比，本专利技术提供的纳米压印机构通过在固定装置的工作腔内设置软膜，结合施加气压和加热温度对软膜的加热来抵消或减弱不同目标区域之间软膜不同程度的形变对图形周期变化的影响程度，提高压印制程的均匀性，使得制得的图形化衬底的图案更清晰，分辨率更高。
23、本专利技术的其它特征和有益效果将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他有益效果可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
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1.一种纳米压印机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的纳米压印机构，其特征在于：所述加热装置根据加热温度对软膜进行加热以控制不同目标区域之间软膜的形变均匀性；所述加热温度是基于软膜表面形成的不同目标区域的形变量所生成的，所述形变量表示为未施加气压和施加气压状态下软膜表面同一位置的垂直位移量。
3.根据权利要求2所述的纳米压印机构，其特征在于：在某一目标区域内，所述加热温度与所述形变量转换的公式表示为：ΔL＝αL0ΔT；其中，ΔL为软膜受热后的该目标区域的形变量，α表示软膜热膨胀系数，L0表示软膜施加气压状态下该目标区域的初始形变量，ΔT表示软膜受热时该目标区域的加热温度。
4.根据权利要求1所述的纳米压印机构，其特征在于：所述加热装置包括若干个位于软膜不同目标区域上方的加热件，多个所述加热件的加热温度彼此独立控制。
5.根据权利要求1所述的纳米压印机构，其特征在于：所述加热装置包括若干由所述工作腔中心向边缘依次同心嵌套且间隔分布的环状加热件；多个所述环状加热件的加热温度彼此独立控制。
6.根据权利要求4或5所
7.根据权利要求1所述的纳米压印机构，其特征在于：还包括控制组件和感应组件，所述感应组件用于检测软膜上不同目标区域的形变量，所述形变量表示为未施加气压和施加气压状态下软膜表面同一位置的垂直位移量；所述控制组件分别与感应组件、加热装置电连接，以将某一目标区域的软膜形变量转化为加热温度并传输给该目标区域的加热装置。
8.根据权利要求7所述的纳米压印机构，其特征在于：所述将某一目标区域的软膜形变量转化为加热温度的公式为：
9.根据权利要求1所述的纳米压印机构，其特征在于：还包括升降装置，所述升降装置与所述固定装置连接，用于带动所述工作腔向所述承片台下压以使得软膜与衬底压印。
10.一种纳米压印设备，其特征在于，采用如权利要求1-9任一项所述的纳米压印机构。
11.根据权利要求10所述的纳米压印设备，其特征在于：还包括紫外线光源，所述紫外线光源用于曝光固化位于所述衬底上的光刻胶层。
12.一种纳米压印方法，其特征在于，采用如权利要求1-9任一项所述的纳米压印机构，或，采用如权利要求10或11所述的纳米压印设备，还包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种纳米压印机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的纳米压印机构，其特征在于：所述加热装置根据加热温度对软膜进行加热以控制不同目标区域之间软膜的形变均匀性；所述加热温度是基于软膜表面形成的不同目标区域的形变量所生成的，所述形变量表示为未施加气压和施加气压状态下软膜表面同一位置的垂直位移量。
3.根据权利要求2所述的纳米压印机构，其特征在于：在某一目标区域内，所述加热温度与所述形变量转换的公式表示为：δl＝αl0δt；其中，δl为软膜受热后的该目标区域的形变量，α表示软膜热膨胀系数，l0表示软膜施加气压状态下该目标区域的初始形变量，δt表示软膜受热时该目标区域的加热温度。
4.根据权利要求1所述的纳米压印机构，其特征在于：所述加热装置包括若干个位于软膜不同目标区域上方的加热件，多个所述加热件的加热温度彼此独立控制。
5.根据权利要求1所述的纳米压印机构，其特征在于：所述加热装置包括若干由所述工作腔中心向边缘依次同心嵌套且间隔分布的环状加热件；多个所述环状加热件的加热温度彼此独立控制。
6.根据权利要求4或5所述的纳米压印机构，其特征在于：所述加热件或环状加热件为电热丝...
【专利技术属性】
技术研发人员：李彬彬，巫婷，吴福仁，李瑞评，
申请(专利权)人：福建晶安光电有限公司，
类型：发明
国别省市：
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