一种基于光刻工艺的图形转移设备及其工艺制造技术

本发明专利技术属于电路板技术领域，尤其涉及一种基于光刻工艺的图形转移设备及其工艺。该基于光刻工艺的图形转移设备包括图形转移件、蚀刻组件、清洗组件、防腐蚀材料制成的反应组件、防腐蚀材料制成的防护组件与防腐蚀材料制成的扰动机构，蚀刻组件包括分隔件与支撑板，反应组件包括两个反应件，防护组件包括有两个防护件，扰动机构包括两个扰动组件。防护件用于加快覆铜板的蚀刻速度，扰动件能够扰动反应件中的反应液，进而加快覆铜板的蚀刻速度，同时扰动件还能够自动改变反应液的流速，进而使得反应液能够冲击防护件，使得防护件上下移动，清洁覆铜板的表面，防止腐蚀后的污染物贴附在覆铜板上，进而影响覆铜板的品质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电路板，尤其涉及一种基于光刻工艺的图形转移设备及其工艺。

技术介绍

1、图形转移通常使用光刻工艺来实现，在电路板制造中，将电路板覆盖上光刻胶，并将光刻胶暴露于特定的紫外线图案下，将使一些区域的光刻胶固化，而其它区域则没有固化。然后，将光刻胶显影，将未固化的部分去除，留下仅有固化光刻胶组成的图案。在这之后，将化学物质沉积在图案上，以树脂或铜等材料来创建电路板。现阶段的图形转换步骤中蚀刻速度过慢，不能很好的去除未固化的部分。

技术实现思路

1、基于此，有必要提供一种基于光刻工艺的图形转移设备及其工艺，以解决至少一个上述技术问题。

2、一种基于光刻工艺的图形转移设备，包括图形转移件、蚀刻组件、清洗组件、防腐蚀材料制成的反应组件、防腐蚀材料制成的防护组件与防腐蚀材料制成的扰动机构，图形转移件与蚀刻组件均放置于地面上，且蚀刻组件位于图形转移件的一侧，蚀刻组件内部安装有容纳空间，清洗组件与反应组件均安装于容纳空间中，防护组件安装于反应组件的内部，扰动机构安装于反应组件的底部，蚀刻组件包括分隔件与本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于光刻工艺的图形转移设备，包括图形转移件（10）、蚀刻组件（20）、清洗组件（30）与防腐蚀材料制成的反应组件（40），其特征在于，还包括防腐蚀材料制成的防护组件（50）与防腐蚀材料制成的扰动机构（60），图形转移件（10）与蚀刻组件（20）均放置于地面上，且蚀刻组件（20）位于图形转移件（10）的一侧，蚀刻组件（20）内部安装有容纳空间（21），清洗组件（30）与反应组件（40）均安装于容纳空间（21）中，防护组件（50）安装于反应组件（40）的内部，扰动机构（60）安装于反应组件（40）的底部，蚀刻组件（20）包括分隔件（22）与支撑板（23），分隔件（22）与支撑板（23...

【技术特征摘要】

1.一种基于光刻工艺的图形转移设备，包括图形转移件（10）、蚀刻组件（20）、清洗组件（30）与防腐蚀材料制成的反应组件（40），其特征在于，还包括防腐蚀材料制成的防护组件（50）与防腐蚀材料制成的扰动机构（60），图形转移件（10）与蚀刻组件（20）均放置于地面上，且蚀刻组件（20）位于图形转移件（10）的一侧，蚀刻组件（20）内部安装有容纳空间（21），清洗组件（30）与反应组件（40）均安装于容纳空间（21）中，防护组件（50）安装于反应组件（40）的内部，扰动机构（60）安装于反应组件（40）的底部，蚀刻组件（20）包括分隔件（22）与支撑板（23），分隔件（22）与支撑板（23）均安装于容纳空间（21）内，且分隔件（22）位于清洗组件（30）与反应组件（40）的下方，支撑板（23）位于分隔件（22）的下方，反应组件（40）包括两个反应件（41），两个反应件（41）均插设于分隔件（22）中，防护组件（50）包括有两个防护件（51），两个防护件（51）分别安装于两个反应件（41）的内部，扰动机构（60）包括两个扰动组件（61），两个扰动组件（61）分别安装于两个反应件（41）的底部，每个扰动组件（61）包括抽水泵（62）、抽水管（63）与扰动件（64），抽水泵（62）安装于反应件（41）的底部，抽水管（63）插设于抽水泵（62）中，扰动件（64）套设于抽水管（63）中。

2.根据权利要求1所述的基于光刻工艺的图形转移设备，其特征在于：图形转移件（10）包括四个支撑脚（11）、外壳（12）、警示灯（13）、操作盘（14）、与开闭门（15），外壳（12）的底部与四个支撑脚（11）的顶部固定相连，警示灯（13）安装于外壳（12）的顶部一端，操作盘（14）安装于外壳（12）的侧壁一端，开闭门（15）安装于外壳（12）的侧壁中部。

3.根据权利要求2所述的基于光刻工艺的图形转移设备，其特征在于：蚀刻组件（20）还包括蚀刻体（24）、两个废液观察门（25）与两个反应液观察门（26），两个废液观察门（25）与两个反应液观察门（26）均安装于蚀刻体（24）的侧壁上，且两个废液观察门（25）位于两个反应液观察门（26）的上方。

4.根据权利要求3所述的基于光刻工艺的图形转移设备，其特征在于：分隔件（22）包括水平分隔板（220）与垂直分隔板（221），水平分隔板（220）安装于容纳空间（21）的中部，垂直分隔板（221）与水平分隔板（220）垂直相连，且垂直分隔板（221）的底部与支撑板（23）的顶部固定相连，水平分隔板（220）的顶部开设有多个溢流孔（222）。

5.根据权利要求4所述的基于光刻工艺的图形转移设备，其特征在于：垂直分隔板（221）与蚀刻体（24）邻近两个废液观察门（25）的一侧侧壁形成之间形成有废液收集槽（223），蚀刻体（24）的侧壁安装有排废管（224），排废管（224）与废液收集槽（223）相通。

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【专利技术属性】
技术研发人员：耿克非，陈定红，
申请(专利权)人：常州澳弘电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：