【技术实现步骤摘要】
本申请属于光学材料，具体涉及一种涡旋波片的制备方法及涡旋波片。
技术介绍
1、涡旋光束的产生方式包括静态螺旋相位板、涡旋波片、空间光调制器、全息元件等。传统制作涡旋配向图案的方法主要是二维扫描直写，即将配向图案分成一个一个像素并逐个像素进行不同偏振方向的曝光，该方式耗时长且精度不足。
技术实现思路
1、本申请实施例的目的是提供一种涡旋波片的制备方法及涡旋波片，能够缓解当前涡旋波片制备方式耗时长、精度不足等问题。
2、为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：
3、本申请实施例提供了一种涡旋波片的制备方法，所述制备方法包括：
4、采用点光源对涂布有光配向材料的待曝光样品进行照射；
5、在所述光配向材料上涂布液晶分子；
6、固化，形成涡旋波片。
7、本申请实施例还提供了另一种涡旋波片的制备方法，所述制备方法包括：
8、采用平行线偏光源对掩膜版进行照射，其中，所述掩膜版为上述涡旋波片的制备方法制备的涡旋波片；
9、透过所述掩膜版的光对涂布有光配向材料的待曝光样品进行照射；
10、在所述光配向材料上涂布液晶分子；
11、固化，形成高阶的所述涡旋波片。
12、本申请实施例还提供了一种涡旋波片，采用上述第一种涡旋波片的制备方法制得，或者采用上述第二种涡旋波片的制备方法制得。
13、本申请实施例中，采用新型的曝光方案，用于制作涡旋波片，相比于传统采用二维
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1.一种涡旋波片的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光配向材料采用SD-1，所述SD-1的分子结构式为：
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述SD-1以0.4％的比重溶解于N，N-二甲基甲酰胺中配制成溶液；
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述液晶分子采用LC242，所述LC242的分子结构式为
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，涂布所述液晶分子的配方为：
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，旋涂过程之后，在85℃环境下干燥，而后冷却至室温；
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述采用点光源对涂布有光配向材料的待曝光样品进行照射，包括：
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光配向材料的配向方向与照射偏振方向垂直或平行。
9.一种涡旋波片的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述掩膜版的相位
11.一种涡旋波片，其特征在于，采用权利要求1至8中任意一项所述的涡旋波片的制备方法制得，或者，采用权利要求9或10所述的涡旋波片的制备方法制得。
...【技术特征摘要】
1.一种涡旋波片的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光配向材料采用sd-1，所述sd-1的分子结构式为：
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述sd-1以0.4％的比重溶解于n，n-二甲基甲酰胺中配制成溶液；
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述液晶分子采用lc242，所述lc242的分子结构式为
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，涂布所述液晶分子的配方为：
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，旋涂过程之后，在85℃环境...
【专利技术属性】
技术研发人员：涂醒洲，张庆训，张蔚信，
申请(专利权)人：成都瑞波科材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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