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本申请公开了一种涡旋波片的制备方法及涡旋波片，涉及光学材料领域。一种涡旋波片的制备方法，所述制备方法包括：采用点光源对涂布有光配向材料的待曝光样品进行照射；在所述光配向材料上涂布液晶分子；固化，形成涡旋波片。本申请能够缓解当前涡旋波片制备方...
该专利属于成都瑞波科材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都瑞波科材料科技有限公司授权不得商用。

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