【技术实现步骤摘要】
本申请涉及检测设备，尤其涉及一种杂质检测设备。
技术介绍
1、目前，电子手表等可穿戴设备的腕带材质以氟胶为主，氟胶中存在一些较大的不规则地块状杂质，在用户佩戴腕带过程中可能对其皮肤形成刺激，增加致敏风险。因而，一般在制备腕带时，需要对制备腕带的底胶进行检测，以确定胶体中是否含有明显的杂质。相关技术中，主要通过人眼观察用于制备腕带的底胶胶体表面是否含有明显的杂质。然而这种通过观察胶体表面的方式来确定胶体是否含有明显的杂质的方式，所获得的结果并不准确。
技术实现思路
1、本申请提供一种杂质检测设备，包括：
2、制样装置，所述制样装置包括压制下模、模具及压制上模，所述模具设于压制下模之上，用于容纳用于制备检测样品的原材料；所述压制上模与所述压制下模相对；所述压制下模和所述压制上模中至少一个被配置为可以朝向另一个运动，使得二者能够将位于模具中的原材料压薄至预设厚度，以形成所述检测样品；
3、光学检测装置，所述光学检测装置包括光源器件、夹具及成像结构，所述光源器件用于提供光源；所述夹具用于夹设所述检测样品；所述成像结构设于所述夹具背离所述光源器件的一侧；其中，在对所述检测样品检测时，所述光源器件向夹设于所述夹具上的检测样品提供光源，所述成像结构上能够呈现所述检测样品的图像，根据所述图像能够确定杂质检测结果。
4、在一些实施例中，所述压制下模具有平直的承托面，所述压制上模具有平直的压制面，所述模具具有用于容纳原材料的容纳槽，所述模具设于所述压制下模的承托面，
5、在制备检测样品时，所述制样装置被配置为向所述压制上模和所述压制下模提供预设时长的预设压力，使得所述压制上模的压制面将原材料压制于所述容纳槽内，形成所述检测样品。
6、在一些实施例中，所述容纳槽具有底壁及围设于所述底壁一侧的侧壁，所述容纳槽的槽底为一平面，所述容纳槽的侧壁高度一致。
7、在一些实施例中，所述容纳槽的侧壁高度小于或等于0.1mm。
8、在一些实施例中，所述制样装置包括：
9、加热模块，被设置为在制备检测样品过程中，将所述压制上模和压制下模中至少一个加热至预设温度。
10、在一些实施例中，所述检测样品的形状与所述容纳槽的形状一致。
11、在一些实施例中，所述夹具与所述光源器件之间具有第一距离，所述夹具与所述成像结构之间具有第二距离，所述第一距离小于或等于所述第二距离。
12、在一些实施例中，所述第一距离与所述第二距离的比值小于或等于1/3。
13、在一些实施例中，所述成像结构包括用于呈现所述检测样品的图像的幕布；或，
14、所述成像结构包括用于呈现所述检测样品的图像的幕布，所述光学检测装置还包括杂质识别模块；所述杂质识别模块能够获取所述幕布上所呈现的检测样品的图像，并能够对所述检测样品的图像进行识别，以确定所述检测样品是否具有杂质。
15、在一些实施例中，杂质检测设备还包括清洁装置，用以在制备检测样品前对制样装置进行清理。
16、本申请所述的杂质检测设备，通过制样装置将原材料制备成预设厚度并且透光性更好的检测样品，并通过光学检测装置对检测样品进行检测，对于原材料内部的杂质也能够很好地检测到，使得原材料的杂质检测更加准确。
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1.一种杂质检测设备，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的杂质检测设备，其特征在于，所述压制下模具有平直的承托面，所述压制上模具有平直的压制面，所述模具具有用于容纳原材料的容纳槽，所述模具设于所述压制下模的承托面，且所述容纳槽的槽口朝向背离所述承托面的一侧；
3.如权利要求2所述的杂质检测设备，其特征在于，所述容纳槽具有底壁及围设于所述底壁一侧的侧壁，所述容纳槽的槽底为一平面，所述容纳槽的侧壁高度一致。
4.如权利要求3所述的杂质检测设备，其特征在于，所述容纳槽的侧壁高度小于或等于0.1mm。
5.如权利要求2所述的杂质检测设备，其特征在于，所述制样装置包括：
6.如权利要求2至5中任一项所述的杂质检测设备，其特征在于，所述检测样品的形状与所述容纳槽的形状一致。
7.如权利要求1所述的杂质检测设备，其特征在于，所述夹具与所述光源器件之间具有第一距离，所述夹具与所述成像结构之间具有第二距离，所述第一距离小于或等于所述第二距离。
8.如权利要求7所述的杂质检测设备，其特征在于，所述第一距离与所述
9.如权利要求1所述的杂质检测设备，其特征在于，所述成像结构包括用于呈现所述检测样品的图像的幕布。
10.如权利要求1所述的杂质检测设备，其特征在于，所述成像结构包括用于呈现所述检测样品的图像的幕布，所述光学检测装置还包括杂质识别模块；所述杂质识别模块能够获取所述幕布上所呈现的检测样品的图像，并能够对所述检测样品的图像进行识别，以确定所述检测样品是否具有杂质。
11.如权利要求1所述的杂质检测设备，其特征在于，杂质检测设备还包括清洁装置，用以在制备检测样品前对制样装置进行清理。
...【技术特征摘要】
1.一种杂质检测设备，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的杂质检测设备，其特征在于，所述压制下模具有平直的承托面，所述压制上模具有平直的压制面，所述模具具有用于容纳原材料的容纳槽，所述模具设于所述压制下模的承托面，且所述容纳槽的槽口朝向背离所述承托面的一侧；
3.如权利要求2所述的杂质检测设备，其特征在于，所述容纳槽具有底壁及围设于所述底壁一侧的侧壁，所述容纳槽的槽底为一平面，所述容纳槽的侧壁高度一致。
4.如权利要求3所述的杂质检测设备，其特征在于，所述容纳槽的侧壁高度小于或等于0.1mm。
5.如权利要求2所述的杂质检测设备，其特征在于，所述制样装置包括：
6.如权利要求2至5中任一项所述的杂质检测设备，其特征在于，所述检测样品的形状与所述容纳槽的形状一致。
7.如权利要求1所述的杂...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈倩，
申请(专利权)人：北京小米移动软件有限公司，
类型：新型
国别省市：
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