一种杂质检测设备制造技术

本申请涉及一种杂质检测设备。杂质检测设备包括制样装置及光学检测装置。制样装置包括压制下模、模具及压制上模，模具设于压制下模之上，用于容纳用于制备检测样品的原材料；压制上模与压制下模相对；压制下模和压制上模中至少一个被配置为可以朝向另一个运动，将原材料压薄至预设厚度，形成检测样品；光学检测装置包括光源器件、夹具及成像结构，夹具用于夹设检测样品；成像结构设于夹具背离光源器件的一侧；在对检测样品检测时，光源器件向检测样品提供光源，成像结构上能够呈现检测样品的图像，根据所述图像能够确定杂质检测结果。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及检测设备，尤其涉及一种杂质检测设备。

技术介绍

1、目前，电子手表等可穿戴设备的腕带材质以氟胶为主，氟胶中存在一些较大的不规则地块状杂质，在用户佩戴腕带过程中可能对其皮肤形成刺激，增加致敏风险。因而，一般在制备腕带时，需要对制备腕带的底胶进行检测，以确定胶体中是否含有明显的杂质。相关技术中，主要通过人眼观察用于制备腕带的底胶胶体表面是否含有明显的杂质。然而这种通过观察胶体表面的方式来确定胶体是否含有明显的杂质的方式，所获得的结果并不准确。

技术实现思路

1、本申请提供一种杂质检测设备，包括：

2、制样装置，所述制样装置包括压制下模、模具及压制上模，所述模具设于压制下模之上，用于容纳用于制备检测样品的原材料；所述压制上模与所述压制下模相对；所述压制下模和所述压制上模中至少一个被配置为可以朝向另一个运动，使得二者能够将位于模具中的原材料压薄至预设厚度，以形成所述检测样品；

3、光学检测装置，所述光学检测装置包括光源器件、夹具及成像结构，所述光源器件用于提供光源；所述夹具用于夹设所本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种杂质检测设备，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的杂质检测设备，其特征在于，所述压制下模具有平直的承托面，所述压制上模具有平直的压制面，所述模具具有用于容纳原材料的容纳槽，所述模具设于所述压制下模的承托面，且所述容纳槽的槽口朝向背离所述承托面的一侧；

3.如权利要求2所述的杂质检测设备，其特征在于，所述容纳槽具有底壁及围设于所述底壁一侧的侧壁，所述容纳槽的槽底为一平面，所述容纳槽的侧壁高度一致。

4.如权利要求3所述的杂质检测设备，其特征在于，所述容纳槽的侧壁高度小于或等于0.1mm。

5.如权利要求2所述的杂质检测设备，其特...

【技术特征摘要】

1.一种杂质检测设备，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的杂质检测设备，其特征在于，所述压制下模具有平直的承托面，所述压制上模具有平直的压制面，所述模具具有用于容纳原材料的容纳槽，所述模具设于所述压制下模的承托面，且所述容纳槽的槽口朝向背离所述承托面的一侧；

3.如权利要求2所述的杂质检测设备，其特征在于，所述容纳槽具有底壁及围设于所述底壁一侧的侧壁，所述容纳槽的槽底为一平面，所述容纳槽的侧壁高度一致。

4.如权利要求3所述的杂质检测设备，其特征在于，所述容纳槽的侧壁高度小于或等于0.1mm。

5.如权利要求2所述的杂质检测设备，其特征在于，所述制样装置包括：

6.如权利要求2至5中任一项所述的杂质检测设备，其特征在于，所述检测样品的形状与所述容纳槽的形状一致。

7.如权利要求1所述的杂...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈倩，
申请(专利权)人：北京小米移动软件有限公司，
类型：新型
国别省市：