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本申请涉及一种杂质检测设备。杂质检测设备包括制样装置及光学检测装置。制样装置包括压制下模、模具及压制上模，模具设于压制下模之上，用于容纳用于制备检测样品的原材料；压制上模与压制下模相对；压制下模和压制上模中至少一个被配置为可以朝向另一个运动...
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