【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及渗层，具体涉及一种cvd法气流分配装置。
技术介绍
1、cvd法是目前最为先进的铝化物渗层制备技术，采用管道定向传输且通过载流气作用严格控制反应气氛的流量，通过控制反应温度、反应源气体组成、浓度、压力等参数，就能方便地控制铝化物渗层的组织结构和成分，改变其力学性能和耐腐蚀、耐氧化性能。由于渗层组织结构、成分等受到反应气氛浓度的影响，为保证试样表面渗层厚度均匀，组织结构完整、成分可控，提高气氛浓度的一致性就变得十分关键。
2、目前对于试棒的表面渗层制备是直接放置于渗盒中进行，具体操作是向管道中通入一定量的气氛，气氛先由管道定向通入到反应罐(温度＞1000℃)中的料架内，再由料架上小孔出气至放置有试样的渗盒内，与试样表面反应形成渗层。在该操作过程中，气流由下方往上面流动，由于需渗层的试棒表面是圆柱形的，相对于试棒背面正对渗盒进入口的试棒表面气氛充分，造成试棒不同位置处渗层厚度、成分等出现差异。
技术实现思路
1、本专利技术提供了一种cvd法气流分配装置，能够保证反应气氛有效分配至试棒表面，用于保证在试棒形成铝化物渗层过程中气氛的均匀性，解决了现有的试棒表面形成的渗层厚度、成分一致性差的问题。
2、本专利技术解决上述技术问题的技术方案如下：
3、反应腔室具有腔室外壁与腔室内壁，腔室内壁上均匀开设有多个通孔，腔室外壁一端为密封状，另一端具有开口，腔室外壁套设在腔室内壁的外面，进气装置具有支座与进气管，支座安装在腔室外壁，进气管的一端穿过支座
4、本专利技术的有益效果是：将试棒放入反应腔室的固定装置上，通过采用化学气相沉积法(cvd)形成铝化物渗层时均匀分配反应气氛的气流分配，反应气氛通过进气装置进入到腔室外壁，然后再通过腔室内壁的通孔流至试棒表面形成均匀的渗层。由于在腔室内壁的径向上均匀布置小孔，反应气氛由试棒的一端到试棒的另一侧均匀分布至试棒表面，保证反应气氛有效分配至试棒表面，降低了试棒顶部区域渗层和底部区域以及长度方向的渗层差异，保证了在试棒形成铝化物渗层过程中气氛的均匀性。
5、在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
6、进一步，腔室内壁开设有多排通孔，每排通孔具有多个，相邻两排通孔在腔室内壁上的弧心角为36度。
7、采用上述进一步方案的有益效果是，在腔室内壁的径向上均匀布置小孔，通孔之间以腔室内壁的轴心为轴旋转开设，相邻的两排通孔之间的弧心角为36度，反应气氛由试棒的一端到试棒的另一侧均匀分布至试棒表面，保证反应气氛有效分配至试棒表面，降低了试棒顶部区域渗层和底部区域以及长度方向的渗层差异，保证了在试棒形成铝化物渗层过程中气氛的均匀性。
8、在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
9、进一步，腔室外壁的直径大于腔室内壁的直径。
10、采用上述进一步方案的有益效果是，腔室外壁的直径大于腔室内壁的直径，使得反应气氛通过进气装置进入到腔室外壁，然后再通过腔室内壁均匀开设的通孔流至试棒表面形成均匀的渗层。
11、在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
12、进一步，腔室外壁与腔室内壁焊接固定。
13、采用上述进一步方案的有益效果是，腔室外壁与腔室内壁采用整体焊接固定，保证反应气氛在高温下不外泄，避免因气流外泄造成危险。
14、在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
15、进一步，开口处设有内螺纹，出气装置具有与内螺纹适配的外螺纹，出气装置与腔室外壁配合安装。
16、采用上述进一步方案的有益效果是，采用螺纹方式装配的气流分配装置，避免了因气流过大可能会发生冲开盒盖的质量风险。
17、在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
18、进一步，出气装置开设有三个出气孔。
19、采用上述进一步方案的有益效果是，出气装置开设有三个出气孔，中间出气孔能让进气流由通孔往中间汇集，过程中提高了气流对试棒的覆盖率。两侧出气孔能保证气流分散性，放置于三个试棒中间提高气氛均匀性。保证气流均匀分布出气，三个出气孔在纵向方向，上中下三个区域都是均匀的，能够保证气流的流场性。
20、在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
21、进一步，固定装置具有两组，每组固定装置的端面均开设有多个凹槽，两组固定装置分别固定安装在腔室内壁的两端，且两组固定装置所开设的凹槽一一对应。
22、采用上述进一步方案的有益效果是，两组固定装置分别固定安装在腔室内壁的两端，两组固定装置所开设的凹槽两两相对应，可以将试棒的两端放置到相对应的两个凹槽内，将试棒进行固定。避免了试棒在渗层制备过程中的滚动，防止试棒相互接触、磕碰。
23、在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
24、进一步，两两相对应的凹槽与试棒两端的端面间隙配合。
25、采用上述进一步方案的有益效果是，两两相对应的凹槽与试棒两端的端面间隙配合。提高了气流对试棒的覆盖率，保证反应气氛有效分配至试棒表面，降低了试棒顶部区域渗层和底部区域以及长度方向的渗层差异，保证了在试棒形成铝化物渗层过程中气氛的均匀性。
26、在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
27、进一步，固定装置与腔室内壁焊接固定。
28、采用上述进一步方案的有益效果是，固定装置与腔室内壁焊接固定，保证固定装置的稳定，保证了试棒在固定装置内的稳定性。避免了试棒在渗层制备过程中的滚动，防止试棒相互接触、磕碰。
29、在上述技术方案的基础上，本专利技术还可以做如下改进。
30、进一步，反应腔室、进气装置、固定装置以及出气装置的材料均为gh3044。
31、采用上述进一步方案的有益效果是，反应腔室、进气装置、固定装置以及出气装置的材料选为gh3044。gh3044是固溶强化镍基抗氧化合金，固溶处理温在1120～1160℃，具有优良的抗氧化性和良好的冲压、焊接工艺性能。
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1.一种CVD法气流分配装置，其特征在于，包括反应腔室(110)、进气装置(130)、固定装置(150)以及出气装置(170)，所述反应腔室(110)具有腔室外壁(113)与腔室内壁(112)，所述腔室内壁(112)上均匀开设有多个通孔(1121)，所述腔室外壁(113)一端为密封状，另一端具有开口(1131)，所述腔室外壁(113)套设在所述腔室内壁(112)的外面，所述进气装置(130)具有支座(131)与进气管(133)，所述支座(131)安装在所述腔室外壁(113)上，所述进气管(133)的一端穿过所述支座(131)，且连通所述腔室外壁(113)，所述固定装置(150)安装在所述腔室内壁(112)中，所述固定装置(150)的端面开设有凹槽(151)，所述出气装置(170)安装在所述腔室外壁(113)的开口(1131)位置处，所述出气装置(170)开设有出气孔(171)。
2.根据权利要求1所述的一种CVD法气流分配装置，其特征在于，所述腔室内壁(112)开设有多排通孔(1121)，每排所述通孔(1121)具有多个，相邻两排所述通孔(1121)在所述腔室内壁(1
3.根据权利要求1所述的一种CVD法气流分配装置，其特征在于，所述腔室外壁(113)的直径大于所述腔室内壁(112)的直径。
4.根据权利要求3所述的一种CVD法气流分配装置，其特征在于，所述腔室外壁(113)与所述腔室内壁(112)焊接固定。
5.根据权利要求1所述的一种CVD法气流分配装置，其特征在于，所述开口(1131)处设有内螺纹(1133)，所述出气装置(170)具有与所述内螺纹(1133)适配的外螺纹(173)，所述出气装置(170)与所述腔室外壁(113)配合安装。
6.根据权利要求5所述的一种CVD法气流分配装置，其特征在于，所述出气装置(170)开设有三个出气孔(171)。
7.根据权利要求1所述的一种CVD法气流分配装置，其特征在于，所述固定装置(150)具有两组，每组所述固定装置(150)的端面均开设有多个凹槽(151)，两组所述固定装置(150)分别固定安装在所述腔室内壁(112)的两端，且两组所述固定装置(150)所开设的凹槽(151)一一对应。
8.根据权利要求7所述的一种CVD法气流分配装置，其特征在于，两两相对应的所述凹槽(151)与试棒两端的端面间隙配合。
9.根据权利要求7所述的一种CVD法气流分配装置，其特征在于，所述固定装置(150)与所述腔室内壁(112)焊接固定。
10.根据权利要求1所述的一种CVD法气流分配装置，其特征在于，所述反应腔室(110)、所述进气装置(130)、所述固定装置(150)以及所述出气装置(170)的材料均为GH3044。
...【技术特征摘要】
1.一种cvd法气流分配装置，其特征在于，包括反应腔室(110)、进气装置(130)、固定装置(150)以及出气装置(170)，所述反应腔室(110)具有腔室外壁(113)与腔室内壁(112)，所述腔室内壁(112)上均匀开设有多个通孔(1121)，所述腔室外壁(113)一端为密封状，另一端具有开口(1131)，所述腔室外壁(113)套设在所述腔室内壁(112)的外面，所述进气装置(130)具有支座(131)与进气管(133)，所述支座(131)安装在所述腔室外壁(113)上，所述进气管(133)的一端穿过所述支座(131)，且连通所述腔室外壁(113)，所述固定装置(150)安装在所述腔室内壁(112)中，所述固定装置(150)的端面开设有凹槽(151)，所述出气装置(170)安装在所述腔室外壁(113)的开口(1131)位置处，所述出气装置(170)开设有出气孔(171)。
2.根据权利要求1所述的一种cvd法气流分配装置，其特征在于，所述腔室内壁(112)开设有多排通孔(1121)，每排所述通孔(1121)具有多个，相邻两排所述通孔(1121)在所述腔室内壁(112)上的弧心角为36度。
3.根据权利要求1所述的一种cvd法气流分配装置，其特征在于，所述腔室外壁(113)的直径大于所述腔室内壁(112)的直径。
4.根据权利要求3所述的一种cvd法气流分...
【专利技术属性】
技术研发人员：包天杰，蒙彩思，张姚，徐春辉，廖关兵，
申请(专利权)人：贵阳航发精密铸造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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