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本发明涉及一种CVD法气流分配装置，包括反应腔室、进气装置、固定装置以及出气装置。反应腔室具有腔室外壁与腔室内壁，腔室内壁上均匀开设有多个通孔，腔室外壁一端为密封状，另一端具有开口，腔室内壁的两端分别设置在腔室外壁的两端，进气装置具有支座与...
该专利属于贵阳航发精密铸造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过贵阳航发精密铸造有限公司授权不得商用。

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