【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及测量误差分析，具体涉及一种测量装置的误差影响因素分析方法以及具有对自身误差影响因素分析功能的测量装置。
技术介绍
1、以锂离子电池为例，在锂离子电池生产中，需要用到铜箔、铝箔、隔离膜、极片等各种膜材，膜材的质量对锂离子电池的性能具有至关重要的影响，为保证锂离子电子的质量，往往需要使用测量设备对膜材的质量进行检测，包括膜材的厚度、膜材的平整度等。
2、在实际检测过程中，测量设备的精准度可能会受到温度变化、空气杂质、激光传感器的角度变化、导轨的形变等多种因素的影响，并且各种影响因素之间还会出现叠加耦合。因此，即便发现测量设备的检测精准度下降，但却很难直接判断出是何种因素导致精准度下降的，后续往往需要大量的尝试才可能完成测量设备的校准。
技术实现思路
1、本专利技术主要解决的技术问题是提供一种测量装置的误差影响因素分析方法以及具有对自身误差影响因素分析功能的测量装置，以达到能够对存在耦合的误差影响因素进行分离分析的目的。
2、根据第一方面，一种实例中提供一种测量装置的误差影响因素分析方法，包括如下步骤：
3、在所述测量装置的大理石座上安装基准组件，在所述基准组件上设置第一水平基准面和第二水平基准面，并且让所述第一水平基准面与所述第二水平基准面在竖直方向上具有一定的间距；
4、让所述测量装置的激光传感器在进行测量工作的过程中，一并采集所述激光传感器到所述第一水平基准面的多个距离数据；
5、分析所述激光传感器到所述第一
6、如所述导轨的水平度为误差影响因素，则先对所述导轨进行水平校准，再分析其他误差影响因素；如所述导轨的水平度非误差影响因素，则继续分析其他误差影响因素；
7、让所述激光传感器在进行测量工作的过程中，一并采集所述激光传感器到所述第二水平基准面的距离数据；
8、根据所述激光传感器到所述第一水平基准面的距离数据以及所述激光传感器到所述第二水平基准面的距离数据，计算所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的测量距离差；
9、将所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的测量距离差，与所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的实际距离差进行比较，以判断所述激光传感器的激光发射方向是否为误差影响因素；
10、如所述激光传感器的激光发射方向为误差影响因素，则先对所述激光传感器的激光发射方向进行校准，再分析其他误差影响因素；如所述激光传感器的激光发射方向非误差影响因素，则继续分析其他误差影响因素。
11、一个实施例中，所述分析所述激光传感器到所述第一水平基准面的多个距离数据之间的波动情况，以判断所述大理石座上用于安装所述激光传感器的导轨的水平度是否为误差影响因素的步骤，包括：
12、分析所述激光传感器到所述第一水平基准面的多个距离数据是否全部相等；
13、若所述激光传感器到所述第一水平基准面的多个距离数据全部相等，则所述导轨的水平度非误差影响因素；
14、若所述激光传感器到所述第一水平基准面的多个距离数据不全相等，则所述导轨的水平度为误差影响因素。
15、一个实施例中，所述将所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的测量距离差，与所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的实际距离差进行比较，以判断所述激光传感器的激光发射方向是否为误差影响因素的步骤，包括：
16、比较所述测量距离差与所述实际距离差是否相等；
17、若所述测量距离差等于所述实际距离差，则所述激光传感器的激光发射方向非误差影响因素；
18、若所述测量距离差大于所述实际距离差，则所述激光传感器的激光发射方向为误差影响因素。
19、一个实施例中，所述让所述激光传感器在进行测量工作的过程中，一并采集所述激光传感器到所述第二水平基准面的距离数据的步骤，包括：
20、让所述激光传感器在进行测量工作的过程中，一并采集所述激光传感器到所述第二水平基准面的多个距离数据；
21、所述根据所述激光传感器到所述第一水平基准面的距离数据以及所述激光传感器到所述第二水平基准面的距离数据，计算所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的测量距离差的步骤，包括：
22、将所述激光传感器到所述第一水平基准面的多个距离数据与所述激光传感器到所述第二水平基准面的多个距离数据进行一一对应相减，以得到所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的多个测量距离差。
23、一个实施例中，若多个所述测量距离差全部等于所述实际距离差，则所述激光传感器的激光发射方向非误差影响因素；
24、若多个所述测量距离差中的至少一者大于所述实际距离差，则所述激光传感器的激光发射方向为误差影响因素。
25、根据第二方面，一种实施例提供一种测量装置的误差影响因素分析方法，包括如下步骤：
26、在所述测量装置的大理石座上安装基准组件，在所述基准组件上设置第一水平基准面、第二水平基准面和第三水平基准面，让所述第一水平基准面与所述第二水平基准面在竖直方向上具有一定的间距，并让所述第二水平基准面与所述第三水平基准面位于同一水平高度；
27、让所述测量装置的激光传感器在进行测量工作的过程中，一并采集所述激光传感器到所述第二水平基准面的距离数据以及所述激光传感器到所述第三水平基准面的距离数据；
28、分析所述激光传感器到所述第二水平基准面的距离数据及所述激光传感器到所述第三水平基准面的距离数据之间的波动情况，以判断所述大理石座上用于安装所述激光传感器的导轨的水平度是否为误差影响因素；
29、如所述导轨的水平度为误差影响因素，则先对所述导轨进行水平校准，再分析其他误差影响因素；如所述导轨的水平度非误差影响因素，则继续分析其他误差影响因素；
30、让所述激光传感器在进行测量工作的过程中，一并采集所述激光传感器到所述第一水平基准面的距离数据；
31、根据所述激光传感器到所述第一水平基准面的距离数据，以及所述激光传感器到所述第二水平基准面的距离数据，计算所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的测量距离差；
32、将所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的测量距离差，与所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的实际距离差进行比较，以判断所述激光传感器的激光发射方向是否为误差影响因素；
33、如所述激光传感器的激光发射方向为误差影响因素，则先对所述激光传感器的激光发射方向进行校准，再分析其他误差影响因素；如所述激光传感器的激光发射方向非误差影响因素，则继续分析其他误差影响因素。
34、根据第三方面，一种实施例提供一种具有对自身误差影响因素分析功能的测量装置，包括：
35、大理石座；
36、导轨，所述导轨安装于所述大理石座；<本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种测量装置的误差影响因素分析方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的误差影响因素分析方法，其特征在于，所述分析所述激光传感器到所述第一水平基准面的多个距离数据之间的波动情况，以判断所述大理石座上用于安装所述激光传感器的导轨的水平度是否为误差影响因素的步骤，包括：
3.如权利要求1所述的误差影响因素分析方法，其特征在于，所述将所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的测量距离差，与所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的实际距离差进行比较，以判断所述激光传感器的激光发射方向是否为误差影响因素的步骤，包括：
4.如权利要求3所述的误差影响因素分析方法，其特征在于，所述让所述激光传感器在进行测量工作的过程中，一并采集所述激光传感器到所述第二水平基准面的距离数据的步骤，包括：
5.如权利要求4所述的误差影响因素分析方法，其特征在于，
6.一种测量装置的误差影响因素分析方法，其特征在于，包括如下步骤：
7.一种具有对自身误差影响因素分析功能的测量装置，其特征在于，包括：
8.如权利要求7
9.如权利要求7所述的测量装置，其特征在于，所述基准组件包括第一基准块和第二基准块，所述第一水平基准面设置于所述第一基准块，所述第二水平基准面设置于所述第二基准块，所述第一基准面在所述导轨的延伸方向上的长度大于所述导轨总长度的1/4。
10.如权利要求7所述的测量装置，其特征在于，所述基准组件包括第一基准块和第二基准块，所述第一水平基准面设置于所述第一基准块，所述第二水平基准面设置于所述第二基准块，所述第一基准块还设置有第三水平基准面，所述第三水平基准面与所述第二水平基准面位于同一水平高度，所述第二基准块在所述导轨的延伸方向上的长度小于所述导轨总长度的1/10，所述第一基准块与所述第二基准块的间距大于所述导轨总长度的1/5。
...【技术特征摘要】
1.一种测量装置的误差影响因素分析方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.如权利要求1所述的误差影响因素分析方法，其特征在于，所述分析所述激光传感器到所述第一水平基准面的多个距离数据之间的波动情况，以判断所述大理石座上用于安装所述激光传感器的导轨的水平度是否为误差影响因素的步骤，包括：
3.如权利要求1所述的误差影响因素分析方法，其特征在于，所述将所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的测量距离差，与所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的实际距离差进行比较，以判断所述激光传感器的激光发射方向是否为误差影响因素的步骤，包括：
4.如权利要求3所述的误差影响因素分析方法，其特征在于，所述让所述激光传感器在进行测量工作的过程中，一并采集所述激光传感器到所述第二水平基准面的距离数据的步骤，包括：
5.如权利要求4所述的误差影响因素分析方法，其特征在于，
6.一种测量装置的误差影响因素分析方法，其特征在于，包括如下步骤：
7.一种具有对自身误差影...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱涛，周子杰，孙伟，张国强，
申请(专利权)人：常州市大成真空技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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