【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及原子光学领域，具体地，涉及一种全玻璃原子气室及其制备方法。
技术介绍
1、以原子气室为核心部件的原子磁力计、原子陀螺仪、原子通信、原子雷达等已经广泛应用于各类量子传感和量子通信场景当中。然而，目前基于原子气室的原子器件因其体积庞大、能耗高，仍停留在实验室阶段。因此，制作微小型原子气室，以使各类原子器件用，显得尤为重要。
2、目前，原子气室的制备工艺有玻璃吹制和阳极键合等技术，其中，玻璃吹制的方法通常被用来制作毫米级别及以上的原子气室，“玻璃-硅-玻璃”阳极键合制作的原子气室存在原子纯度低、真空度低和侧面不透光的缺点，导致使用场景受限。
3、因此，目前的制备全玻璃原子气室的方法仍有待改进。
技术实现思路
1、本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
2、在本专利技术的一个方面，本专利技术提出一种制备全玻璃原子气室的方法，包括以下步骤：
3、(1)提供玻璃基板、第一玻璃和第二玻璃；所述玻璃基板具有相对设置的第一表...
【技术保护点】
1.一种制备全玻璃原子气室的方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃基板、所述第一玻璃和所述第二玻璃分别独立地包括石英玻璃或高硼硅玻璃。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃基板、所述第一玻璃和所述第二玻璃的厚度分别独立地为400μm-2mm。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述气孔通孔的长度为300μm-600μm，所述气孔通孔的宽度为300μm-600μm；
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述湿法刻蚀满足以下条件中的至少一者：
<...【技术特征摘要】
1.一种制备全玻璃原子气室的方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃基板、所述第一玻璃和所述第二玻璃分别独立地包括石英玻璃或高硼硅玻璃。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃基板、所述第一玻璃和所述第二玻璃的厚度分别独立地为400μm-2mm。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述气孔通孔的长度为300μm-600μm，所述气孔通孔的宽度为300μm-600μm；
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述湿法刻蚀满足以下条件中的至少一者：
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述碱的水溶液...
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