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本发明属于原子光学领域，提供一种全玻璃原子气室及其制备方法。该方法包括以下步骤：(1)提供玻璃基板、第一玻璃和第二玻璃；(2)采用激光切割及湿法蚀刻工艺对玻璃基板进行加工，以在玻璃基板上形成气室通孔、内部沟道和气孔通孔；(3)对玻璃基板的第...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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