电子设备、壳体以及材料表面蚀刻处理的方法技术

本申请提供了一种电子设备、壳体以及材料表面蚀刻处理的方法，其中，该材料表面蚀刻处理的方法包括：将待蚀刻材料置于前置清洗槽中进行清洗；将清洗后的材料置于盛放有蚀刻液的蚀刻槽中进行表面蚀刻；其中，所述蚀刻液包括水、酸、形核剂以及辅助剂；将蚀刻后的材料置于后置清洗槽中清洗。本申请实施例提供的材料表面蚀刻处理的方法，对蚀刻液成分优化，同步改进工艺流程，使得材料表面不仅有防眩光效果，而且在宏观不同角度上材料均呈现出晶钻闪光的特点；该工艺用于制备电子设备的盖板玻璃良率高，耗时短，外观效果良好。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及材料表面蚀刻处理的，具体是涉及一种电子设备、壳体以及材料表面蚀刻处理的方法。

技术介绍

1、ag玻璃(防眩光玻璃)一般是用蚀刻液将光滑玻璃表面进行蚀刻处理，使其表面形成大小形状相似的半透明的微观凹坑形貌；从而使入射光照射玻璃后形成漫反射，达到ag防眩光效果。

2、然而常规技术方案中上述玻璃的制备方法大多存在材料配比复杂、工艺步骤繁多的问题。

技术实现思路

1、本申请实施例第一方面提供了一种材料表面蚀刻处理的方法，所述方法包括：

2、将待蚀刻材料置于前置清洗槽中进行清洗；

3、将清洗后的材料置于盛放有蚀刻液的蚀刻槽中进行表面蚀刻；其中，所述蚀刻液包括水、酸、形核剂以及辅助剂；

4、将蚀刻后的材料置于后置清洗槽中清洗。

5、第二方面，本申请实施例提供一种壳体，所述壳体采用上述实施例中任一项所述方法制备获得。

6、另外，本申请实施例又提供一种电子设备，所述电子设备包括显示屏模组、控制电路板以及上述实施例中所述的壳体，所述显示屏模组与所本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种材料表面蚀刻处理的方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述蚀刻液中的酸包括氟硼酸以及氢氟酸；所述形核剂包括三氯化铁或者硫酸钡；所述辅助剂包括山梨醇以及氟化铵。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述蚀刻液中各物质的质量分数配比为：氟化铵：22.5％-23.5％；氟硼酸：0.4％-0.5％；氢氟酸：18％-20％；水：10％-15％；三氯化铁或者硫酸钡：1.5％-2.5％；山梨醇：3.5％-4％。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述蚀刻液中的酸还包括硫酸：1.3％-1.5％、盐酸：0.4...

【技术特征摘要】

1.一种材料表面蚀刻处理的方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述蚀刻液中的酸包括氟硼酸以及氢氟酸；所述形核剂包括三氯化铁或者硫酸钡；所述辅助剂包括山梨醇以及氟化铵。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述蚀刻液中各物质的质量分数配比为：氟化铵：22.5％-23.5％；氟硼酸：0.4％-0.5％；氢氟酸：18％-20％；水：10％-15％；三氯化铁或者硫酸钡：1.5％-2.5％；山梨醇：3.5％-4％。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述蚀刻液中的酸还包括硫酸：1.3％-1.5％、盐酸：0.4％-0.5％以及硝酸：37％-38％。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将清洗后的材料置于盛放有蚀刻液的蚀刻槽中进行表面蚀刻的步骤中，具体包括：利用夹具将清洗后的材料置于蚀刻槽的蚀刻液液面以下，在液面以下对材料进行上下抛动，抛动后静置...

【专利技术属性】
技术研发人员：王语鉴，
申请(专利权)人：深圳市锐尔觅移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：