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本申请提供了一种电子设备、壳体以及材料表面蚀刻处理的方法，其中，该材料表面蚀刻处理的方法包括：将待蚀刻材料置于前置清洗槽中进行清洗；将清洗后的材料置于盛放有蚀刻液的蚀刻槽中进行表面蚀刻；其中，所述蚀刻液包括水、酸、形核剂以及辅助剂；将蚀刻后...
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