干涉式位移测量装置制造方法及图纸

一种干涉式位移测量装置(100)，包括至少一个测量干涉仪(103)，用于测量测量光束(150)与参考光束之间的光程差的变化。光源模块(118)被设置为生成具有特定光谱的调制光束，测量光束和参考光束是从该调制光束导出的。数据采集和分析模块(105)可以使用从检测测量光束与参考光束的干涉的光电探测器(111)接收的干涉强度数据来确定表示位移的度量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

技术介绍

技术实现思路

【技术保护点】

1.一种干涉式位移测量装置，包括：

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述光源经由一个或更多个光纤连接至所述至少一个测量干涉仪。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中，表示所述位移的所述度量是所述参考光束与所述测量光束之间的所述光程差的变化。

4.根据任一前述权利要求所述的装置，所述至少一个测量干涉仪包括远端和近端以及限定所述远端的反射器。

5.根据权利要求4所述的装置，其中，表示所述位移的所述度量是所述反射器的位移。

6.根据任一前述权利要求所述的装置，其中，所述测量干涉仪包括分束器，所述分束器包括分束表面，所述分束表面设...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种干涉式位移测量装置，包括：

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述光源经由一个或更多个光纤连接至所述至少一个测量干涉仪。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中，表示所述位移的所述度量是所述参考光束与所述测量光束之间的所述光程差的变化。

4.根据任一前述权利要求所述的装置，所述至少一个测量干涉仪包括远端和近端以及限定所述远端的反射器。

5.根据权利要求4所述的装置，其中，表示所述位移的所述度量是所述反射器的位移。

6.根据任一前述权利要求所述的装置，其中，所述测量干涉仪包括分束器，所述分束器包括分束表面，所述分束表面设置成将所述调制光束分成所述测量光束和所述参考光束的。

7.根据任一前述权利要求所述的装置，其中，所述测量干涉仪包括邻近所述近端的准直器。

8.根据任一前述权利要求所述的装置，其中，所述至少一个测量干涉仪是斐索干涉仪。

9.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中，所述至少一个测量干涉仪包括相应的光纤、相应的分束器和相应的反射器。

10.根据任一前述权利要求所述的装置，包括分别具有不同的纵向尺寸的多个测量干涉仪。

11.根据权利要求10所述的装置，其中，所述光源模块以及所述数据采集和分析模块为所述多个测量干涉仪所共用。

12.根据任一前述权利要求所述的装置，其中，所述光源被设置为输出以中心频率为中心的光，所述中心频率以绝对值已知，且不确定度小于期望的位移测量不确定度。

13.根据任一前述权利要求所述的装置，其中，所述光源包括近红外激光源。

14.根据任一前述权利要求所述的装置，其中，来自所述第一组频率峰值和所述第二组频率峰值的任意两个频率峰值频率之间的差不小于由所述测量干涉仪内的运动引起的最大预期多普勒频移的一半。

15.根据任一前述权利要求所述的装置，其中，所述干涉强度数据包括多个奇数干涉强度频带和多个偶数干涉强度频带。

16.根据权利要求15所述的装置，其中，所述多个奇数干涉强度频带和所述多个偶数干涉强度频带以频率为中心，其中j和h是任意整数，是所述第一调制频率，是所述第二调制频率，并且其中，如果j+h等于奇数整数，则干涉强度频带为奇数，如果j...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿米恩·赖希奥尔德，彼得·丘，赵崧源，埃德加·布鲁克，
申请(专利权)人：牛津大学科技创新有限公司，
类型：发明
国别省市：