【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光电集成领域，具体涉及一种基于偏振耦合调制的集成光源制备方法，用于光电集成领域。
技术介绍
1、随着原子钟、原子陀螺仪、光泵磁力仪、3d传感及光学散斑认证等高新
的不断发展，基于高光束质量单偏振的vcsel集成光源越来越成为人们的关注焦点。集成光源是光电子系统和光发射机的核心器件，是获得小型化或微型化的高可靠性、多功能和低成本的光电功能模块的重要前提。但当前以vcsel直接调制为基础的集成系统，存在调制带宽较小，调制幅度范围较小，集成度小的不足，难以满足高速、大容量、微型化的需求，限制了其进一步发展。
2、现有集成光源中第一种方法只是通过微透镜对激光芯片发出激光进行波形整形(汇聚、发散、准直等)，不能改变激光本身的偏振状态和偏振方向；且具有超结构的调制片只能将出射的激光按照调制片上的固定超结构做明确的调制(偏转)。即缺陷为：1、只能改变激光形状，不能改变激光偏振特性；2、固定调制偏转角度，没有调制带宽，不能连续可调。第二种方法通过对激光光斑进行整形降低激光芯片与液晶盒的对准要求，利于提升器件性能和稳定性，...
【技术保护点】
1.一种基于偏振耦合调制的集成光源制备方法，其特征在于，该方法包括：
2.根据权利要求1所述的一种基于偏振耦合调制的集成光源制备方法，其特征在于，所述表面光栅包括若干光栅条，所述面发射激光芯片通过表面光栅发射出激光的偏振方向与光栅条方向垂直；
3.根据权利要求2所述的一种基于偏振耦合调制的集成光源制备方法，其特征在于，所述表面光栅的制备方法包括：
4.根据权利要求1所述的一种基于偏振耦合调制的集成光源制备方法，其特征在于，所述卡口的高度d与设置有所述表面光栅的面发射激光芯片的发散角θ相互匹配，tg(θ/2)＝r/d，其中，r为点光源...
【技术特征摘要】
1.一种基于偏振耦合调制的集成光源制备方法，其特征在于，该方法包括：
2.根据权利要求1所述的一种基于偏振耦合调制的集成光源制备方法，其特征在于，所述表面光栅包括若干光栅条，所述面发射激光芯片通过表面光栅发射出激光的偏振方向与光栅条方向垂直；
3.根据权利要求2所述的一种基于偏振耦合调制的集成光源制备方法，其特征在于，所述表面光栅的制备方法包括：
4.根据权利要求1所述的一种基于偏振耦合调制的集成光源制备方法，其特征在于，所述卡口的高度d与设置有所述表面光栅的面发射激光芯片的发散角θ相互匹配，tg(θ/2)＝r/d，其中，r为点光源照射到液晶超表面的光斑半径。
5.根据权利要求4所述的一种基于偏振耦合调制的集成光源制备方法，其特征在于，所述卡口的高度d的取值范围为2mm至30mm，包括端点值。
6.根据权利要求1所述的一种基于偏振耦合调制的集成光源制备方法，其特征在于，所述液晶超表面的微纳结构为亚波长周期性结构；
【专利技术属性】
技术研发人员：王文杰，黄锋，姚尧，廖明乐，陈鲲，罗思源，李倩，康健彬，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院电子工程研究所，
类型：发明
国别省市：
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