一种MoS2/ZIF-67核壳材料及其制备方法、应用技术

技术编号:40595939 阅读:26 留言:0更新日期:2024-03-12 21:58
本发明专利技术公开了一种MoS<subgt;2</subgt;/ZIF‑67核壳材料,MoS<subgt;2</subgt;/ZIF‑67核壳材料呈立方体状,MoS<subgt;2</subgt;纳米片在ZIF‑67的表面均匀分布并将ZIF‑67包覆形成壳核结构,MoS<subgt;2</subgt;纳米片呈1T相和2H相。本发明专利技术还公开了上述MoS<subgt;2</subgt;/ZIF‑67核壳材料的制备方法和其在电催化、表面增强拉曼光谱检测中的应用。本发明专利技术还公开了一种电极,在电极表面附着有薄膜,薄膜中含有上述MoS<subgt;2</subgt;/ZIF‑67核壳材料。本发明专利技术还公开了一种电催化制氢的方法和一种增强SERS检测灵敏度的方法。本发明专利技术所述MoS<subgt;2</subgt;/ZIF‑67核壳材料具有较大的比表面积和反应的活性位点,具有优异的电催化和SERS性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及催化剂,尤其涉及一种mos2/zif-67核壳材料及其制备方法、应用。


技术介绍

1、良好的生态环境是人类健康生存和发展的基础。虽然准备清洁能源以缓解全球能源危机很重要,但关注人类健康也至关重要。异质结构材料的集成是现代材料研究的支柱,它使半导体材料在催化、储能和传感方面的应用成为可能。不同材料之间的界面可以产生新的功能,这在实际应用中也是至关重要的。然而,如何设计出低成本、高稳定性、便捷性的高效多功能异质结构材料仍然是一个很大的挑战。

2、mos2因其储量丰富、电催化性能优异、化学稳定性高而受到广泛关注。然而,因为mos2活性位点往往只存在于边缘,其催化析氢活性和表面增强拉曼光谱(sers)性质有限。与半导体性质的2h-mos2不同,1t相mos2表现出金属性质,电子导电性比2h-mos2高出约105倍。然而,1t-mos2的热不稳定性质使得它难以直接合成,并且在自然条件下不稳定,这极大地限制了它的应用。


技术实现思路

1、基于
技术介绍
存在的技术问题,本专利技术提出了一种mos2/本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种MoS2/ZIF-67核壳材料,其特征在于,MoS2/ZIF-67核壳材料呈立方体状,MoS2纳米片在ZIF-67的表面均匀分布并将ZIF-67包覆形成壳核结构,MoS2纳米片呈1T相和2H相。

2.根据权利要求1所述MoS2/ZIF-67核壳材料,其特征在于,MoS2纳米片的厚度为10-20nm;优选地,MoS2/ZIF-67核壳材料立方体的边长为3.5-4.5μm。

3.一种如权利要求1或2所述MoS2/ZIF-67核壳材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:将含有钼源、硫源水溶液与ZIF-67混匀,进行水热反应,得到MoS2/ZIF-67核壳材料。...

【技术特征摘要】

1.一种mos2/zif-67核壳材料,其特征在于,mos2/zif-67核壳材料呈立方体状,mos2纳米片在zif-67的表面均匀分布并将zif-67包覆形成壳核结构,mos2纳米片呈1t相和2h相。

2.根据权利要求1所述mos2/zif-67核壳材料,其特征在于,mos2纳米片的厚度为10-20nm;优选地,mos2/zif-67核壳材料立方体的边长为3.5-4.5μm。

3.一种如权利要求1或2所述mos2/zif-67核壳材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:将含有钼源、硫源水溶液与zif-67混匀,进行水热反应,得到mos2/zif-67核壳材料。

4.根据权利要求3所述mos2/zif-67核壳材料的制备方法,其特征在于,水热反应的温度为220-240℃,时间为18-20h;优选地,钼源为钼酸盐、钼酸盐水合物或磷钼酸中的至少一种;优选地,硫源为硫脲、硫代乙酰胺、硫代乙酸钠中的至少一种;优选地,钼源中的钼元素、硫源中的硫元素的摩尔比为1:32-36;优选地,钼源与zif-67的比值为1mmol:0.18-0.31g;优选地,水热反应后,固液分离,洗涤,干燥得到mos2/zif-67核壳材料;优选地,干燥温度为50-60℃。

5.根据权利要求3或4所述mos2/zif-67核壳材料的制备方法,其特征在于,在zif-67的制备...

【专利技术属性】
技术研发人员:高铭王众李佳张禹晨申赫
申请(专利权)人:吉林师范大学
类型:发明
国别省市:

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