一种探头装置、二次电子探测器及扫描电镜制造方法及图纸

本发明专利技术涉及扫描电镜技术领域，公开了一种探头装置、二次电子探测器及扫描电镜，二次电子探测器包括：偏压供电电路、放大电路及探头装置，探头装置包括：探头片、探头板及密封圈；探头片为半弧形结构，其外表面与探头板的第一端固定连接；探头板的第二端与探头板插座的第一端连接，探头板插座的第二端与遮挡板的第一端可拆卸连接；密封圈嵌入安装在盲板的第一表面后，盲板的第一表面可拆卸固定在低真空室的外壁上，并与低真空室内的遮挡板的第二端可拆卸连接。本发明专利技术的探头装置可在扫描电镜低真空模式下检测二次电子，避免低真空模式下因放电现象导致传统E‑T型二次电子探测器无法使用的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及扫描电镜，具体涉及一种探头装置、二次电子探测器及扫描电镜。

技术介绍

1、扫描电镜是一种电子光学仪器，利用聚焦电子束在样品表面进行逐行扫描，电子束轰击样品表面产生二次电子或背散射电子，其产生的效率与样品表面形貌或材料相关，将样品表面产生的二次电子或背散射电子收集起来，并将样品表面电子束扫描的位置和产生的二次电子或背散射电子的数量用二维图像的形式表示，即得到扫描电镜的二次电子图像或背散射电子图像。扫描电镜图像的分辨率可达到纳米级甚至优于1.0纳米，在新材料、新能源、国防、科学研究等领域起着无法替代的作用。

2、扫描电子显微镜需要在真空环境下工作，以保证电子枪正常工作。为了在高真空环境下很好地给试样成像，要求试样导电性能良好，否则会由于荷电效应的影响，成像质量受到影响。为了消除试样的荷电效应，传统普通高真空电镜一般要求对试样进行导电处理，比如喷镀导电的金属或者碳。

3、高真空模式对试验环境要求高，且产生高真空环境所需的设备性能要求较高导致扫描电镜的整体设备成本高。而在低真空模式下，传统的et型二次电子探测器因为需要给闪烁体本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种探头装置，其特征在于，包括：探头片、探头板及密封圈，其中，

2.根据权利要求1所述的探头装置，其特征在于，

3.一种二次电子探测器，其特征在于，包括：偏压供电电路、放大电路及权利要求2所述的探头装置，其中，

4.根据权利要求3所述的二次电子探测器，其特征在于，所述偏压供电电路包括：第一可调电路及第一输出电路，其中，

5.根据权利要求3所述的二次电子探测器，其特征在于，所述放大电路包括：第一级放大电路及第二级放大电路，其中，

6.根据权利要求5所述的二次电子探测器，其特征在于，所述第一级放大电路包括：第二可调电路、耦合电路...

【技术特征摘要】

1.一种探头装置，其特征在于，包括：探头片、探头板及密封圈，其中，

2.根据权利要求1所述的探头装置，其特征在于，

3.一种二次电子探测器，其特征在于，包括：偏压供电电路、放大电路及权利要求2所述的探头装置，其中，

4.根据权利要求3所述的二次电子探测器，其特征在于，所述偏压供电电路包括：第一可调电路及第一输出电路，其中，

5.根据权利要求3所述的二次电子探测器，其特征在于，所述放大电路包括：第一级放大电路及第二级放大电路，其中，

6.根据权利要求5所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：田贵宾，刘涛，
申请(专利权)人：北京中科科仪股份有限公司，
类型：发明
国别省市：