【技术实现步骤摘要】
本申请涉及薄膜制备，尤其涉及一种支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备。
技术介绍
1、在对基体的全表面制备薄膜时，需要用支撑装置对基体进行支撑。支撑装置包括多个尖点，由多个尖点对基体进行支撑。
2、但是，现有的支撑装置通过多个尖点对基体进行支撑时，支撑装置与基体的接触处的位置是固定不变的，使得基体表面与支撑装置的接触处无法裸露，导致无法对基体的全表面一次性完成薄膜制备。并且，一个支撑装置只能支撑一个基体。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请实施例提供了一种支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备，以解决支撑装置与基体的接触处的位置固定不变，使得基体表面与支撑装置的接触处无法裸露，导致无法对基体的全表面一次性完成薄膜制备的问题。
2、第一方面，本申请一实施例提供了一种支撑机构，应用于薄膜制备设备，薄膜制备设备用于对基体进行镀膜，支撑机构被配置为对基体进行支撑，基体包括管状结构；其中，支撑机构包括：长条形的支撑件，基体的管状结构套设在支撑件上；旋转组件，与支撑件连接，带动支撑件绕第一轴线旋转，第一轴线与支撑件的延伸方向平行；其中，在支撑件旋转的过程中，支撑件沿管状结构的内壁滚动，以使支撑件与基体之间的接触位置发生变化，支撑件上的每一点与第一轴线的距离均保持不变。
3、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，支撑件为丝状，丝状的支撑件一端与旋转组件连接，另一端穿过管状结构并与旋转组件连接，以利用旋转组件张紧丝状的支撑件。
4、结合第一方面，在第一方面
5、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，连接盘包括环状主体和多个固定杆；其中，多个固定杆呈辐射状排布，多个固定杆的第一端均与环状主体连接，多个固定杆的第二端连接在一起。
6、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，旋转组件还包括平行设置的两个支撑盘，两个支撑盘之间形成第二容纳空间，用于容纳两个连接盘，支撑盘与连接盘平行设置且可拆卸连接。
7、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，旋转组件还包括多个连接杆，多个连接杆设置于两个支撑盘之间，每个连接杆的两端分别与两个支撑盘连接；其中，多个连接杆包括卡槽，连接盘的边缘插入卡槽。
8、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，支撑件上套设有多个基体；其中，旋转组件还包括间隔件，间隔件的两端分别连接两个连接杆，以分隔相邻的基体。
9、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，支撑件的数量为多个，多个支撑件平行设置。
10、第二方面，本申请一实施例提供了一种支撑装置，支撑装置应用于薄膜制备设备，薄膜制备设备用于对基体进行镀膜，支撑装置被配置为对基体进行支撑，基体包括管状结构；其中，支撑装置包括：第一方面任意一项所述的支撑机构；驱动模块，与支撑机构连接，被配置为驱动支撑机构旋转。
11、第三方面，本申请一实施例提供了一种薄膜制备设备，包括：第二方面所述的支撑装置。
12、本申请实施例提供的支撑机构，包括长条形的支撑件和旋转组件，基体的管状结构套设在支撑件上，旋转组件带动支撑件绕第一轴线旋转，在支撑件旋转的过程中，支撑件的与基体接触的初始表面相对支撑件自身会发生旋转，在基体自身的重力、以及支撑件与管状结构的内壁之间的摩擦力的作用下，支撑件能够相对于基体沿其管状结构的内壁发生滚动，以使支撑件与基体之间的接触位置发生变化，使得基体的表面可以在薄膜制备过程中能够完全裸露，使得薄膜制备设备可以一次性完成对基体的全表面的薄膜制备，简化了基体全表面薄膜制备的过程及工艺，提高了生产效率，支撑件为丝状，丝状的支撑件一端与旋转组件连接，另一端穿过管状结构并与旋转组件连接，张紧丝状的支撑件对基体进行支撑，减小了支撑件与基体管状结构的内壁的接触面积，使得基体的管状结构的内壁更充分地暴露在腔室中，有利于基体的薄膜制备，提升了薄膜制备效率，并且，将支撑件穿过基体对基体进行支撑，有利于支撑件支撑不同形状的具有管状结构的基体，通过设置两个平行的连接盘提供第一容纳空间，有利于增加旋转组件的容纳空间，进而有利于增加支撑机构的容纳空间，从而使支撑机构为更多数量的基体提供支撑。
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1.一种支撑机构，其特征在于，应用于薄膜制备设备，所述薄膜制备设备用于对基体进行镀膜，所述支撑机构被配置为对所述基体进行支撑，所述基体包括管状结构；
2.根据权利要求1所述的支撑机构，其特征在于，所述第一容纳空间用于容纳所述支撑件和所述基体，所述连接盘绕所述第一轴线旋转；
3.根据权利要求2所述的支撑机构，其特征在于，所述连接盘包括环状主体和多个固定杆；
4.根据权利要求3所述的支撑机构，其特征在于，所述旋转组件还包括平行设置的两个支撑盘，两个所述支撑盘之间形成第二容纳空间，用于容纳两个所述连接盘，所述支撑盘与所述连接盘平行设置且可拆卸连接。
5.根据权利要求4所述的支撑机构，其特征在于，所述旋转组件还包括多个连接杆，多个所述连接杆设置于两个所述支撑盘之间，每个所述连接杆的两端分别与两个所述支撑盘连接；
6.根据权利要求5所述的支撑机构，其特征在于，所述支撑件上套设有多个所述基体；
7.根据权利要求2所述的支撑机构，其特征在于，所述支撑件的数量为多个，多个所述支撑件平行设置。
8.一种支撑装置，其
9.一种薄膜制备设备，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种支撑机构，其特征在于，应用于薄膜制备设备，所述薄膜制备设备用于对基体进行镀膜，所述支撑机构被配置为对所述基体进行支撑，所述基体包括管状结构；
2.根据权利要求1所述的支撑机构，其特征在于，所述第一容纳空间用于容纳所述支撑件和所述基体，所述连接盘绕所述第一轴线旋转；
3.根据权利要求2所述的支撑机构，其特征在于，所述连接盘包括环状主体和多个固定杆；
4.根据权利要求3所述的支撑机构，其特征在于，所述旋转组件还包括平行设置的两个支撑盘，两个所述支撑盘之间形成第二容纳空间，用于容纳两个所述连接盘，所述支撑盘与所述连接盘平行设置且可拆卸连接。
【专利技术属性】
技术研发人员：廖家豪，邱淋鹏，柴攀，万强，
申请(专利权)人：湖南德智新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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