【技术实现步骤摘要】
本技术涉及玻璃基板加工制造，具体涉及一种玻璃表面蚀刻装置。
技术介绍
1、静电是玻璃基板冷加工过程的隐形杀手，玻璃基板表面附带的静电会吸附空气中的脏污颗粒，基板被污染，造成良率损失。在玻璃面板加工过程中，静电释放的磁场会产生感应电流，破坏半导体，其危害更大。因此在玻璃基板加工过程中，有必要对玻璃背面进行蚀刻粗化处理，预防加工过程产生的静电。
2、在现有技术中，如公告号为cn207175776u的专利文件公开了一种玻璃表面蚀刻装置，同步公开了包括密封圈、观察窗、合页、喷头、蚀刻机本体、玻璃、固定块、水泵和滑轮，所述水槽的下端设置有喷头，所述固定块安装在水箱的内部，且固定块的一侧嵌入设置有玻璃，所述保护盖的前表面嵌入设置有观察窗，且保护盖的前表面靠近观察窗一侧位置处设置有密封圈，所述储物箱的内部设置有水泵；
3、在实际应用过程中，现有技术需要将待蚀刻的玻璃基板首先置于蚀刻机本体中进行固定，而后再进行蚀刻处理，但是现有的大批量的玻璃基板生产时，现有蚀刻机单次仅能够对一组玻璃基板进行蚀刻，同时还需要人工进行上下料，难以满
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1.一种玻璃表面蚀刻装置，包括蚀刻装置(200)，其特征在于，所述蚀刻装置(200)包括用于储存蚀刻液的框体机构；
2.根据权利要求1所述的一种玻璃表面蚀刻装置,其特征在于，位于所述蚀刻装置(200)一侧还布设喷淋清洗装置(300)，所述喷淋清洗装置(300)用于对蚀刻后的玻璃基板(100)进行清洗处理。
3.根据权利要求2所述的一种玻璃表面蚀刻装置,其特征在于，所述喷淋清洗装置(300)包括框体机构，还包括布设于框体机构中的若干组喷头机构，喷头机构通过水管与水泵连接。
4.根据权利要求3所述的一种玻璃表面蚀刻装置,其特征在于，所述...
【技术特征摘要】
1.一种玻璃表面蚀刻装置，包括蚀刻装置(200)，其特征在于，所述蚀刻装置(200)包括用于储存蚀刻液的框体机构；
2.根据权利要求1所述的一种玻璃表面蚀刻装置,其特征在于，位于所述蚀刻装置(200)一侧还布设喷淋清洗装置(300)，所述喷淋清洗装置(300)用于对蚀刻后的玻璃基板(100)进行清洗处理。
3.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭思源，
申请(专利权)人：彩虹合肥液晶玻璃有限公司，
类型：新型
国别省市：
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