【技术实现步骤摘要】
本专利技术主要涉及电子束，具体涉及一种电子束曝光机内束流检测系统。
技术介绍
1、电子束曝光机主要应用于微纳米加工领域。一方面电子束曝光可以在计算机控制下直接产生所要求的图形，且修改容易，制作周期短，因此被广泛应用于光掩膜、x射线掩膜的制作，它已成为微电子产业制作掩膜版的主要手段。另一方面，电子束曝光系统利用标记检测技术可以达到极高的套刻精度，因此可进行晶片上的直接描画，即无需掩膜版直接在晶片上制造器件。因此，它被用于新器件、新集成电路的研制和小批量器件和集成电路的生产。
2、电子束曝光的最大特点是其分辨率极高，它的图形分辨率主要取决于束斑尺寸和电子束在感光胶材料内的散射效应，电子束的束斑可以聚焦成几个埃，且易于自动控制，是迄今为止分辨率最高的一种实用曝光手段，是目前己知的纳米加工技术的唯一手段。另外其图形产生与修改比较容易、制作周期短，因而被广泛应用于制作高分辨率的掩膜母版。
3、电子束流越大，曝光速度就越快，但束斑尺寸也就越大，分辨率就越低，束流大曝光速度快，当然最大曝光速度受扫描频率限制，大束流的束斑也会较大。由此可见，精确测量束流的大小可以实现更好的曝光，一套好的束流检测系统可以保证电子束曝光机高精度和高稳定性运行。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题就在于：针对现有技术存在的技术问题，本专利技术提供一种采集精度高的电子束曝光机内束流检测系统。
2、为解决上述技术问题，本专利技术提出的技术方案为：
3、一种电子束曝光
4、优选地，所述电阻模块包括多个电阻，高速模拟开关模块包括多个开关；多个开关与电阻一一对应；各所述电阻依次串联；多个开关的一端与对应电阻的一端相连，另一端则与飞安级偏置电流运放模块的输出端相连。
5、优选地，所述电阻为玻璃电阻。
6、优选地，所述开关为t型固态继电器。
7、优选地，还包括噪声检测电路，所述噪声检测电路的输入端与电流/电压转换电路的输出端相连，所述噪声检测电路的输出端与图形发生器相连。
8、优选地，还包括纹波检测电路，所述纹波检测电路的输入端与电流/电压转换电路的输出端相连，所述纹波检测电路的输出端与图形发生器相连。
9、优选地，还包括激光干涉仪，所述激光干涉仪与所述图形发生器相连，用于检测载片台的位移并发送至图形发生器，以实现对载片台上法拉第杯位置的闭环控制。
10、与现有技术相比，本专利技术的优点在于：
11、本专利技术的电子束曝光机束流检测系统，电流/电压转换电路具有自动换档功能，可以根据束流的大小来选择合适的档位，能实现pa级到na级电子束束流的一个宽范围高精度测量，适应曝光机不同电压等级和精度的一个束流测量需求，采集精度高，范围宽。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种电子束曝光机内束流检测系统，其特征在于，包括图形发生器(1)、电流/电压转换电路(6)、伺服电机(8)、载片台(9)和法拉第杯(10)；所述法拉第杯(10)固定在载片台(9)上，用于采集束流值；所述图形发生器(1)通过伺服电机(8)与所述载片台(9)相连，用于控制载片台(9)的运动，以将载片台(9)上的法拉第杯(10)移至电子束下进行束流采集；所述电流/电压转换电路(6)分别所述法拉第杯(10)和图形发生器(1)相连，用于将法拉第杯(10)采集的束流值转换成电压并发送至图形发生器(1)；所述电流/电压转换电路(6)包括电阻模块(13)、高速模拟开关模块(12)、飞安级偏置电流运放模块(14)和放大模块(11)；所述电阻模块(13)和飞安级偏置电流运放模块(14)的输入端均与法拉第杯(10)相连；所述电阻模块(13)的输出端经高速模拟开关模块(12)与放大模块(11)的输入端相连；所述飞安级偏置电流运放模块(14)的输出端与放大模块(11)的输入端相连；所述放大模块(11)的输出端与图形发生器(1)的输入端相连；所述图形发生器(1)根据束流值控制高速模拟开关模块(12)的量
2.根据权利要求1所述的电子束曝光机内束流检测系统，其特征在于，所述电阻模块(13)包括多个电阻，高速模拟开关模块(12)包括多个开关；多个开关与电阻一一对应；各所述电阻依次串联；多个开关的一端与对应电阻的一端相连，另一端则与飞安级偏置电流运放模块(14)的输出端相连。
3.根据权利要求2所述的电子束曝光机内束流检测系统，其特征在于，所述电阻为玻璃电阻。
4.根据权利要求2或3所述的电子束曝光机内束流检测系统，其特征在于，所述开关为T型固态继电器。
5.根据权利要求1或2或3所述的电子束曝光机内束流检测系统，其特征在于，还包括噪声检测电路(3)，所述噪声检测电路(3)的输入端与电流/电压转换电路(6)的输出端相连，所述噪声检测电路(3)的输出端与图形发生器(1)相连。
6.根据权利要求1或2或3所述的电子束曝光机内束流检测系统，其特征在于，还包括纹波检测电路(4)，所述纹波检测电路(4)的输入端与电流/电压转换电路(6)的输出端相连，所述纹波检测电路(4)的输出端与图形发生器(1)相连。
7.根据权利要求1或2或3所述的电子束曝光机内束流检测系统，其特征在于，还包括激光干涉仪(7)，所述激光干涉仪(7)与所述图形发生器(1)相连，用于检测载片台(9)的位移并发送至图形发生器(1)，以实现对载片台(9)上法拉第杯(10)位置的闭环控制。
...【技术特征摘要】
1.一种电子束曝光机内束流检测系统，其特征在于，包括图形发生器(1)、电流/电压转换电路(6)、伺服电机(8)、载片台(9)和法拉第杯(10)；所述法拉第杯(10)固定在载片台(9)上，用于采集束流值；所述图形发生器(1)通过伺服电机(8)与所述载片台(9)相连，用于控制载片台(9)的运动，以将载片台(9)上的法拉第杯(10)移至电子束下进行束流采集；所述电流/电压转换电路(6)分别所述法拉第杯(10)和图形发生器(1)相连，用于将法拉第杯(10)采集的束流值转换成电压并发送至图形发生器(1)；所述电流/电压转换电路(6)包括电阻模块(13)、高速模拟开关模块(12)、飞安级偏置电流运放模块(14)和放大模块(11)；所述电阻模块(13)和飞安级偏置电流运放模块(14)的输入端均与法拉第杯(10)相连；所述电阻模块(13)的输出端经高速模拟开关模块(12)与放大模块(11)的输入端相连；所述飞安级偏置电流运放模块(14)的输出端与放大模块(11)的输入端相连；所述放大模块(11)的输出端与图形发生器(1)的输入端相连；所述图形发生器(1)根据束流值控制高速模拟开关模块(12)的量程切换。
2.根据权利要求1所述的电子束曝光机内束流检测系统，其特征在于，所述电阻模块(13)包括多个电阻，...
【专利技术属性】
技术研发人员：谭小林，李杰，苏鑫，梁文彬，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十八研究所，
类型：发明
国别省市：
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