本发明专利技术涉及一种废气处理设备，包含：清洗箱，用于存储清洗液以及接收废气，其上设置有第一入口和第一出口；泵，其输入端与所述清洗箱的第一出口连接，用于将清洗箱内的清洗液泵出；混合部件，其输入端具有两个接口，其中第一接口连接废气，第二接口与所述泵的输出端连接，其输出端与所述清洗箱的第一入口连接；所述泵将所述清洗液泵入所述混合部件并与通过第一接口进入的废气混合，混合后的清洗液通过第一入口排入所述清洗箱；所述混合部件的输出端处设置有喷嘴，所述喷嘴的底部位于所述清洗箱内的液面之下。本发明专利技术提高了废气清理效率，降低了设备故障率。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体废气处理领域，具体涉及一种废气处理设备。
技术介绍
1、半导体制造工艺中需要使用多种特殊气体，其中包括工艺气体：硅烷、磷化氢、三氢化砷、氨、三氯化硼、三氟化硼、氯、二氯磺酞、四氯化硅、氢化硫、碘化硫和氯化氢等，这些气体在半导体制造的不同工艺中使用，产生的废气通过排风系统收集并处理，这些废气如果没有经过很好的处理便进行排放，会造成大气污染，影响人们的身体健康，也会成为半导体制造中气态分子污染物的重要来源。
2、目前，针对这种气体排放，一般采用水洗、吸附、焚烧或两者相结合的处理方法。洗涤器是处理氯化氢、氯气、三氯化硼和氟化氢等的卤素系列水溶性气体的设备。但是现有的处理设备仅将废气排入水中，溶解效率不高。且由于废气中混杂有不可溶的固体颗粒物以及废气与水反应产生不可溶的固体颗粒物存在废水中，造成不饱和废水循环使用困难。现有的处理设备在利用循环废水时需要填充过滤芯，以滤除颗粒物，且需要定期清理以及更换过滤芯，造成使用的不便。
3、因此急需专利技术一种处理效率高且废水循环利用率高的处理设备。
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【技术保护点】
1.一种废气处理设备，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的废气处理设备，其特征在于，所述清洗箱(1)内竖向设置有隔板(13)，所述隔板(13)的顶部设有连通口(14)，所述隔板(13)将所述清洗箱(1)内部分割为第一子箱(11)和第二子箱(12)，所述第一子箱(11)和第二子箱(12)通过隔板(13)顶部的连通口(14)连通；
3.如权利要求2所述的废气处理设备，其特征在于，所述第一子箱(11)的侧壁设置有液位计(15)，所述泵(4)的输出端还与排液管(16)连接，当所述液位计(15)的读数大于第一预设值时，关闭所述泵(4)与所述混合部件(5)之间的管路，开...
【技术特征摘要】
1.一种废气处理设备，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的废气处理设备，其特征在于，所述清洗箱(1)内竖向设置有隔板(13)，所述隔板(13)的顶部设有连通口(14)，所述隔板(13)将所述清洗箱(1)内部分割为第一子箱(11)和第二子箱(12)，所述第一子箱(11)和第二子箱(12)通过隔板(13)顶部的连通口(14)连通；
3.如权利要求2所述的废气处理设备，其特征在于，所述第一子箱(11)的侧壁设置有液位计(15)，所述泵(4)的输出端还与排液管(16)连接，当所述液位计(15)的读数大于第一预设值时，关闭所述泵(4)与所述混合部件(5)之间的管路，开启所述泵(4)与所述排液管(16)之间的管路，并将第一子箱(11)内的混合有废气的清洗液通过所述第一出口(3)泵入所述排液管(16)。
4.如权利要求3所述的废气处理设备，其特征在于，所述第一子箱(11)侧壁设置有第二入口(17)，所述第二入口(17)与清洗液提供设备连接，可通过第二入口(17)向第一子箱(11)内注入清洗液。
5.如权利要求4所述的废气处理设备，其特征在于，当所述液位计(15)的读数达到第二预设值，停止通过第二入口(17)向第一子箱(11)内注入清洗液，...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴伟力，顾文豪，吴叶凡，
申请(专利权)人：浙江亚笙半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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