【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空镀膜，具体来说，涉及一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法。
技术介绍
1、在金属表面进行传统水（湿法）电镀可获得高防腐、高耐磨、镜面高光且装饰极强的产品，此种金属金属化（镀cu/ni/cr金属膜）应用广泛。
2、但水电镀工艺存在公认的以下缺点：（1）耗水耗能大，且产出大量废水。（2）使用有害化学镀液与添加剂。（3）排放有毒废气。（4）能耗大，工艺复杂，生产效率低，成本高。（5）生产条件较差，对工人身体健康有一定的影响。显然，这一传统工艺对环境污染及危害颇大，亟需改进。
3、真空镀膜是一种通过在真空环境中将薄膜材料沉积到基材表面的工艺。真空镀膜技术通常在高真空或超高真空环境中进行，以确保在材料表面形成均匀、致密的薄膜。这些技术被广泛用于制备具有特殊性能的薄膜，如光学器件、电子元件、防腐蚀涂层等。因此，真空镀膜是镀膜
中的一个重要分支。
4、“干法镀”指的是一种在真空条件下进行的干燥沉积薄膜的过程，其中没有液体涂料或溶液参与，这个过程包括物理气相沉积（physical vapor ...
【技术保护点】
1.一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法，其特征在于，该工艺方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法，其特征在于，所述将待镀膜基材进行打磨抛光与清洗去杂处理，再置于干燥箱保存包括以下步骤：
3.根据权利要求1所述的一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法，其特征在于，所述利用滴膜法在所述待镀膜基材表面制备单层密排的纳米底膜包括以下步骤：
4.根据权利要求1所述的一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法，其特征在于，所述先采用直流磁控溅射技术在所述待镀膜基材表面进行自修复膜镀膜，再利用共溅射技术进行周期...
【技术特征摘要】
1.一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法，其特征在于，该工艺方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法，其特征在于，所述将待镀膜基材进行打磨抛光与清洗去杂处理，再置于干燥箱保存包括以下步骤：
3.根据权利要求1所述的一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法，其特征在于，所述利用滴膜法在所述待镀膜基材表面制备单层密排的纳米底膜包括以下步骤：
4.根据权利要求1所述的一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法，其特征在于，所述先采用直流磁控溅射技术在所述待镀膜基材表面进行自修复膜镀膜，再利用共溅射技术进行周期多层膜镀膜，并实时监测表面镀膜的应力包括以下步骤：
5.根据权利要求4所述的一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法，其特征在于，所述预先配置以铬作为基础载体，且具备自修复能力的自修复涂料包括以下步骤：
6.根据权利要求5所述的一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法，其特征在于，所述将金属镍与金属铬分别作为三个镀膜靶材，利用共溅射技术对所述待镀膜基材的表面进行周期多层镀膜，沉积后形成周期多层膜包括以下步骤：
<...【专利技术属性】
技术研发人员：黄吕全，
申请(专利权)人：南通硅胜新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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