【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及防反射用光学元件以及用于制造该防反射用光学元件的原盘的制造 方法。尤其涉及一种在表面上以小于等于可视光波长的细微间隔配置有多个由凸部或凹部 构成的构造体的防反射用光学元件。
技术介绍
现有技术中,存在以下方法在采用了玻璃、塑料等透光性基材的光学元件中,进 行用于抑制光的表面反射的表面处理。作为这种表面处理,存在在光学元件表面形成微小 且致密的凹凸(蛾眼(moth eye))形状的方法(例如参照“光技术接触”「光技術二 々 卜 J Vol. 43, No. 11 (2005),630-637)。一般,当在光学元件表面设置周期的凹凸形状的情况下,光透过这里时会发生衍 射,透过光的直线传播成分会大幅度减少。但是,当凹凸形状的间隔短于透过光的波长的情 况下,不会发生衍射,比如当凹凸形状为下文中描述的矩形时,对于其间隔或深度等所对应 的单一波长的光,则可以获得有效的防反射效果。作为采用电子束曝光制作的蛾眼( 7 7· 4 )构造体,公开有微小帐状的蛾眼构 造体(间隔约300nm,深度约400nm)(参照NTT先进技术(株)、“无波长依存性的防止反 射体(蛾 ...
【技术保护点】
一种防反射用光学元件,其特征在于,包括:基体;以及多个由凸部或凹部构成的构造体,以小于等于可视光的波长的细微间隔被配置在所述基体的表面,其中,各个所述构造体被配置成在所述基体表面构成多列轨迹,且形成准六边形格子图案,当将相同轨迹内的所述构造体的配置间隔设定为P1,将邻接的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔设定为P2,并将所述构造体底面在轨迹方向上的直径设定为2r时,相同轨迹内的所述构造体的配置间隔P1长于邻接的两个轨迹间的所述构造体的配置间隔P2,所述直径2r对所述配置间隔P1的比率((2r/P1)×100)大于等于85%,所述构造体是沿所述轨迹的延伸方向具有长轴方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:远藤惣铭,林部和弥,
申请(专利权)人:索尼株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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